[发明专利]具有分离栅极的双栅极半导体装置有效
申请号: | 200380102759.0 | 申请日: | 2003-10-14 |
公开(公告)号: | CN1711644A | 公开(公告)日: | 2005-12-21 |
发明(设计)人: | S·S·艾哈迈德;H·王;B·俞 | 申请(专利权)人: | 先进微装置公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/423;H01L21/336 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 戈泊;程伟 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一半导体装置(100),其包括一基板(110)以及形成于该基板(110)上的一绝缘层(120);一鳍部(210)可形成于该绝缘层上(120),并包括多个侧表面与一上表面;一第一栅极(410)可形成于邻近该鳍部(210)的多个侧表面其中之一的绝缘层(120)上;一第二栅极(420)可形成在绝缘层(120)上,其与第一栅极(410)隔开并且邻近该鳍部(210)的多个侧表面的另一侧表面。 | ||
搜索关键词: | 具有 分离 栅极 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置(100),其包括:一基板(110);一绝缘层(120),其形成于该基板(110)上;一鳍部(210),其形成于该绝缘层(120)上,并且包括多个侧表面与一上表面;一第一栅极(410),其形成于该绝缘层(120)上并邻近于该鳍部(210)的多个侧表面的其中之一;以及一第二栅极(420),其形成于该绝缘层(120)上并与第一栅极(410)隔开且邻近该鳍部(210)的多个侧表面的另一侧表面。
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