[发明专利]自扫描型发光装置的掩模图形设计方法

摘要

提供在自扫描型发光装置中,制作兼有遮光层的金属布线时的最适当的掩模图形设计方法。在透明绝缘膜上形成的第一金属布线的掩模图形,在与传输元件的排列垂直的方向上与第一控制电极重叠的宽度为L1的情况下,选择L1,使其满足L1>(S+dS)+a，其中,S是所述第一金属布线侧面的腐蚀量,dS是腐蚀量的偏差,a是所述掩模图形的对准误差。

主权项

1．一种掩模图形设计方法，在自扫描型发光装置中，其中该自扫描型发光装置由自扫描型传输件阵列和发光元件阵列构成，所述自扫描型传输元件阵列用第一电气部件使配有多个三端子传输元件的传输元件阵列的邻接的传输元件的第一控制电极相互连接，该三端子传输元件具有可控制阈值电压或阈值电流的控制电极，同时用第二电气部件使电源线与各传输元件的第一控制电极连接，并且使第一金属布线与各传输元件的其余两个电极之一的第一电极连接，该发光元件阵列配有多个三端子发光元件，所述三端子发光元件具有可控制阈值电压或电流的第二控制电极，用第二金属布线连接所述传输元件的各第一控制电极和所述发光元件阵列的第二控制电极，在各发光元件的其余两个电极之一的第二电极上设置其上施加用于发光的电流的写入信号金属布线，所述掩模图形设计方法是在通过腐蚀形成所述第一和第二金属布线以及所述写入信号金属布线时的掩模图形设计方法，其特征在于，在透明绝缘膜上形成所述第一金属布线的掩模图形，在与所述传输元件的排列垂直的方向上与所述第一控制电极重叠的宽度为L1的情况下，选择L1，使其满足：L1＞(S+dS)+a其中，S是所述第一金属布线侧面的腐蚀量，dS是腐蚀量的偏差，a是所述掩模图形的对准误差。