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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]用于化学机械研磨的热水生成-CN202280005689.X在审
发明人： H·桑达拉拉贾恩;C·波拉德;A·J·菲舍;张寿松;吴昊晟;唐建设 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2022-05-02 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：一种化学机械研磨系统包括：平台，用以支撑研磨垫；承载头；电机，用以在平台与承载头之间生成相对运动；蒸汽生成器，包括容器和加热元件，所述容器具有进水口和一个或多个蒸汽出口，且所述加热元件被配置成施加热量至下腔室部分以生成蒸汽；喷嘴，被定向以将蒸汽从蒸汽生成器输送至研磨垫上；水箱，用以固持清洁流体；第一阀，位于容器与喷嘴之间的第一流体管线中，以将容器与喷嘴可控地连接和断开；第二阀，位于容器与水箱之间的第二流体管线中，以将容器与水箱可控地连接和断开，使得来自容器的蒸汽加热水箱中的流体。
用于化学机械研磨热水生成

[发明专利]用于CMP温度控制的设备和方法-CN202180031861.4在审
发明人： S·库玛;H·桑达拉拉贾恩;陈辉;张寿松 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：一种化学机械抛光设备，包括：用于保持抛光垫的可旋转工作台；在抛光工艺期间将基板保持抵靠在抛光垫的抛光表面上的载体；以及包括加热的流体或冷却剂流体的源以及充气室的温度控制系统，充气室具有定位在工作台之上并与抛光垫分开的多个开口以用于将流体输送到抛光垫上，其中开口中的至少一些开口各自配置为将不同量的流体输送到抛光垫上。
用于 cmp 温度控制设备方法

[发明专利]CMP中的温度和浆体流动速率控制-CN202180014970.5在审
发明人：吴昊晟;唐建设;B·J·布朗;S-H·沈;张寿松;H·桑达拉拉贾恩 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-24 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：本案提供一种化学机械抛光系统，包括用于将抛光液分配至抛光垫上的抛光端口，以及用于控制抛光液至端口的流动速率的液体流动控制器，用于控制抛光垫的温度的温度控制系统，以及控制系统。控制系统被配置成获得基准去除速率、基准温度和基准抛光液流动速率。存储将去除速率与抛光液流动速率和温度相关的函数。函数用于确定减小的抛光液流动速率和调整后的温度，使得所得去除速率不低于基准去除速率。控制液体流动控制器来以减小的抛光液流动速率分配抛光液并控制温度控制系统，使得抛光处理达到调整后的温度。
cmp 中的温度流动速率控制

[发明专利]控制化学机械抛光的蒸汽产生-CN202180013340.6在审
发明人： H·桑达拉拉贾恩;张寿松;C·李;J·P·多明;S·达塔;D·斯克里亚尔;P·D·巴特菲尔德;C·波拉德;吴昊晟 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-28 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：一种化学机械抛光系统，其包括蒸汽产生器，该蒸汽产生器具有：加热元件，其对容器施加热量以产生蒸汽；开口，其将蒸汽输送至抛光垫上；第一阀，其在开口与容器之间的流体管线中；传感器，其监测蒸汽参数；及控制系统。控制系统经配置以：根据配方中的蒸汽输送排程使阀打开及关闭；接收来自传感器的蒸汽参数的测量值；接收蒸汽参数的目标值；用目标值及测量值作为输入来执行比例积分微分控制算法，从而控制第一阀和/或第二释压阀和/或加热元件，以使得在根据蒸汽输送排程打开阀之前测量值基本上到达目标值。
控制化学机械抛光蒸汽产生

[发明专利]在配给下通过混合的浆料温度控制-CN202080056668.1在审
发明人：吴昊晟;H·桑达拉拉贾恩;唐建设;张寿松;B·J·布朗;Y-C·杨;Y·王;R·巴贾杰 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：一种化学机械抛光系统包括：平台，所述平台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；加热流体的源；储藏室，所述储藏室用于保持抛光液体；以及配给器，所述配给器具有悬吊在平台之上的一个或多个孔，以将抛光液体引导至抛光表面上，其中加热流体的源耦合至配给器，并且配置成在抛光液体离开储藏室之后并且在抛光液体被配给至抛光表面上之前将加热流体传输至抛光液体中以加热抛光液体。
配给通过混合浆料温度控制

[发明专利]CMP温度控制的装置和方法-CN202080056838.6在审
发明人：吴昊晟;张寿松;卓志忠;唐建设;陈辉;H·桑达拉拉贾恩;B·J·布朗 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-08-10 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：一种化学机械研磨系统包括：托板，支撑具有研磨表面的研磨垫；导管，具有耦合到气体源的入口；以及，分配器，耦合至导管，并且具有悬挂在托板上方的收敛扩散形喷嘴，以将来自气体源的气体引导到研磨垫的研磨表面上。
cmp 温度控制装置方法

[发明专利]用于最小化凹陷和腐蚀并提高垫粗糙度的低温金属CMP-CN202080055434.5在审
发明人：吴昊晟;H·桑达拉拉贾恩;唐建设;张寿松;B·J·布朗;Y-C·杨;Y·王;R·巴贾杰 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2022-03-11 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：一种化学机械抛光系统，包括：工作台，所述工作台用于支撑具有抛光表面的抛光垫；冷却剂源；配给器，所述配给器具有悬吊在工作台之上的一个或多个孔，以将冷却剂从冷却剂源引导至抛光垫的抛光表面上；以及控制器，所述控制器耦合至冷却剂源，并且配置成在抛光操作的选定步骤期间，使冷却剂源通过喷嘴将冷却剂传输至抛光表面上。
用于最小化凹陷腐蚀提高粗糙低温金属 cmp

[发明专利]用于化学机械研磨的蒸汽产生-CN202080046722.4在审
发明人： H·桑达拉拉贾恩;张寿松;吴昊晟;P·D·巴特菲尔德;唐建设;C·波拉德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-06-25 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： F22D5/26 文献下载
摘要：一种蒸汽产生设备包括具有进水口和蒸汽出口的罐。蒸汽产生设备在罐中包括屏障，屏障将罐分成下部腔室和上部腔室。下部腔室被定位成从进水口接收水。蒸汽出口阀从上部腔室接收蒸汽。屏障具有孔，孔用于蒸汽从下部腔室传递到上部腔室，并且允许冷凝水从上部腔室传递到下部腔室。蒸汽产生设备包括加热组件，加热组件配置成向下部腔室的一部分施加热量。蒸汽产生设备包含控制器，控制器被配置为修改通过进水口的水的流速，以将水位保持在加热组件上方和蒸汽出口下方。
用于化学机械研磨蒸汽产生

[发明专利]用于温度控制的化学机械抛光温度扫描设备-CN202080041893.8在审
发明人： H·桑达拉拉贾恩;张寿松;吴昊晟;唐建设 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-04-15 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：一种化学机械抛光设备，包括平台，具有顶部表面以保持抛光垫；载具头，以在抛光处理期间保持基板抵靠抛光垫的抛光表面；以及温度监控系统。温度监控系统包括定位在平台上方的非接触式热传感器，非接触式热传感器具有在平台上的抛光垫的部分的视场。传感器能够由发动机围绕旋转轴旋转，以便跨抛光垫移动视场。
用于温度控制化学机械抛光扫描设备

[发明专利]CMP期间基于温度的原位边缘不对称校正-CN202080036814.4在审
发明人：吴昊晟;张寿松;唐建设;C·郑;H·陈;H·桑达拉拉贾恩;B·切里安 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-04-15 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：一种化学机械抛光设备，包括：平台，所述平台用于保持抛光垫；载体，所述载体通过致动器可在整个抛光垫上横向移动以在抛光工艺期间将基板保持抵靠抛光垫的抛光表面；热控制系统，所述热控制系统包括多个可独立控制的加热器和冷却器以独立地控制抛光垫上的多个区的温度；以及控制器，所述控制器经配置为使热控制系统在抛光垫上生成具有第一温度的第一区和具有不同的第二温度的第二区。
cmp 期间基于温度原位边缘不对称校正

[发明专利]使用蒸汽用于预热或清洁CMP部件-CN202080038768.1在审
发明人：陈辉;卓志忠;吴昊晟;唐建设;H·桑达拉拉贾恩;张寿松;A·J·菲舍;P·D·巴特菲尔德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-05-28 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：一种用于化学机械抛光系统的温度控制方法，包括以下步骤：当抛光系统中的部件与抛光系统中的抛光垫分隔开时，将包含蒸汽的气体从孔口引导到部件上以清洁部件或使部件的温度上升到升高的温度。将部件移动到与抛光垫接触，这可以在部件返回到环境温度之前发生。
使用蒸汽用于预热清洁 cmp 部件

[发明专利]用于化学机械研磨系统的蒸气处理站-CN202080038936.7在审
发明人：吴昊晟;唐建设;H·桑达拉拉贾恩;张寿松;陈辉;卓志忠;A·J·菲舍;P·D·巴特菲尔德 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-05-28 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。
用于化学机械研磨系统蒸气处理

[发明专利]用于CMP温度控制的装置及方法-CN202080001434.7在审
发明人： S-S·张;H·桑达拉拉贾恩;吴昊晟;唐建设 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-02-19 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：一种化学机械抛光装置，包括：平台，用以保持抛光垫；载具，用以在抛光工艺期间保持基板抵靠抛光垫的抛光表面；和温度控制系统，所述温度控制系统包括流体介质的源和一个或多个开口，所述一个或多个开口定位在平台之上并与抛光垫分开，且配置用于使流体介质流至抛光垫上，以加热或冷却抛光垫。
用于 cmp 温度控制装置方法

[发明专利]化学机械抛光的温度控制-CN201980006568.5在审
发明人： H·桑达拉拉贾恩;S-S·常;H·吴;J·唐;吴政勋;R·巴贾杰;A·锡尔迪亚 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-06-21 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种化学机械抛光设备包括压板、载体、分配器和温度控制系统，压板保持抛光垫，载体在抛光工艺期间保持基板抵靠抛光垫的抛光表面，分配器向抛光表面供应抛光液，温度控制系统包含主体，所述主体经配置以接触抛光表面或抛光表面上的抛光液。主体支撑定位在抛光垫上的热控制模块。
化学机械抛光温度控制

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