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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板清洁组合物、基板处理方法、以及基板处理设备-CN201811075544.9有效
发明人：崔海圆;姜基文;崔基勋;A·科里阿金;许瓒宁;李在晟;林权泽;金勇勲;李相昊 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种无水基板清洁组合物，基板处理方法和基板处理设备。所述无水基板清洁组合物包括含氟刻蚀化合物、溶解所述刻蚀化合物的溶剂、以及作为含磷化合物的粘结剂。
清洁组合处理方法以及设备

[发明专利]用于处理基板的装置-CN201910852522.7有效
发明人：崔基勋;许瓒宁;金度宪;崔海圆;李在晟;A·科里阿金;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-09-10 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的装置包括：显影室，其通过供应显影溶液对基板执行显影工艺；超临界室，其通过供应超临界流体来处理基板；和传送室，其具有传送单元，该传送单元在显影室与超临界室之间传送基板W。
用于处理装置

[发明专利]基板清洁组合物、基板清洁方法和基板处理装置-CN201910962253.X有效
发明人：崔海园;崔基勋;李在晟;许瓒宁;A·科里阿金;金度宪;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：提供了一种用于清洁基板的组合物。根据一个实施方式，用于清洁基板的组合物包含有机溶剂，该有机溶剂针对聚苯乙烯胶乳的汉森溶解度参数为5以上至12以下。
清洁组合方法处理装置

[发明专利]用于处理基板的装置-CN201910350495.3有效
发明人：李在晟;崔基勋;崔海圆;A·科里阿金;许瓒宁;金度宪;郑址洙 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-04-28 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的装置，其包括在内部具有处理空间的腔室、在所述处理空间中支承所述基板的基板支承单元、以及安装在所述腔室中并调节所述处理空间中的温度的温度调节单元。所述温度调节单元包括加热所述处理空间的加热构件、以及冷却所述处理空间的冷却构件。所述冷却构件位于比所述加热构件更靠近所述腔室的中心轴线。
用于处理装置

[发明专利]用于处理基板的方法及设备-CN202210239103.8在审
发明人：崔海圆;A·科里阿金;元俊皓;金旻祐;崔基熏;金应秀;金泰熙;许弼覠;李章晋;成进荣 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及用于处理基板的方法及设备。本发明构思提供一种用于处理基板的方法。用于处理基板的方法包含：加压步骤，用于在将基板放入内部空间之后，通过向内部空间供应处理流体来增大腔室的内部空间的压力；流动步骤，用于通过将处理流体供应给内部空间及从内部空间排放处理流体的组合来产生处理流体的流动；及减压步骤，通过从内部空间排放处理流体来降低内部空间的压力，且加压步骤包含：底面供应工艺，通过将处理流体供应给被放入内部空间中的基板的背面来增大内部空间的压力；及顶面供应工艺，通过向放入到内部空间中的基板的顶面供应处理流体来增大内部空间的压力。
用于处理方法设备

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201810752460.8有效
发明人：李梦龙;曹美英;延蕊林;A·科里阿金 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-07-10 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开了一种基板处理装置和基板处理方法。所述基板处理方法包括将含有单体物质的处理液涂覆到要清洁的基板上，通过向处理液照射光并使单体物质聚合以将处理液固化为清洁膜，并去除清洁膜。
处理装置方法

[发明专利]用于处理基板的方法-CN201910653248.0在审
发明人：崔海园;A·科里阿金;郑址洙;崔基勋;李在晟;许瓒宁;金度宪 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2020-01-31 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种基板处理方法包括：通过将显影流体涂覆到经过曝光工艺和后烘工艺的基板而对所述基板执行显影工艺；将冲洗流体涂覆到经过所述显影工艺的所述基板；以及将涂覆有所述冲洗流体的所述基板移动到高压腔室且通过使用超临界流体处理所述基板。
基板涂覆冲洗流体显影工艺超临界流体处理高压腔室基板处理基板移动曝光工艺显影流体后烘

[发明专利]基板处置装置和基板处置方法-CN201810659255.7在审
发明人：崔海圆;崔基勋;姜基文;许瓒宁;A·科里阿金;李在晟 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-06-25 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明涉及基板处置装置和基板处置方法。基板处置装置包括第一处理室，其构造为向在基板上执行曝光处理之后被运送到第一处理室中的基板供给显影液，第二处理室，其构造为通过超临界流体处置基板，进给机械手，其构造为将基板从第一处理室递送到第二处理室；以及控制器，其构造为控制进给机械手，使得在由第一处理室供给的显影液驻留在基板上的状态下，基板被传送到第二处理室。
基板第一处理室处置装置机械手显影液进给超临界流体基板供给曝光处理控制器驻留运送

[发明专利]无水基板清洁组合物、基板处理方法和基板处理装置-CN201710899501.1在审
发明人：姜基文;A·科里阿金;郑仁一;崔海园 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2018-04-06 - 主分类号： C11D7/08 文献下载
摘要：本发明涉及无水基板清洁组合物、基板处理方法和基板处理装置。基板清洁组合物包括蚀刻化合物，所述蚀刻化合物提供用于处理基板的组分；和溶剂，所述溶剂溶解所述蚀刻化合物，其中所述基板清洁组合物是不包含水的无水组合物。
无水清洁组合处理方法装置

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