专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种轮椅上下楼梯机构-CN201922320138.0有效
  • 刘健;俞斌杰;汪杰;韦荣 - 浙江工业大学之江学院
  • 2019-12-23 - 2020-11-03 - A61G5/06
  • 本实用新型公开了一种轮椅上下楼梯机构,包括升降机构和水平移动机构,升降机构包括升降机构上板、升降机构下板、一个第一丝杆螺母组、两个第二丝杆螺母组以及两个第三丝杆螺母组,升降机构上板和升降机构下板之间通过四根气动弹簧连接;第一丝杆螺母组用于驱动升降机构下板的上下移动;第二丝杆螺母组用于驱动后轮的上下移动;水平移动机构包括两根导杆、若干滑块和水平设置于坐垫和升降机构上板之间的第四丝杆螺母组,第四丝杆螺母组用于驱动升降机构上板的水平移动;本实用新型实现了轮椅的自动上下楼梯,操作简单便捷,运行平稳安全。
  • 一种轮椅上下楼梯机构
  • [实用新型]一种用于渗透试验中密封材料的搅拌装置-CN201922330795.3有效
  • 韦荣;肖爱兰;吴丹;仲淑香 - 江苏新亚勘测设计有限公司
  • 2019-12-23 - 2020-10-02 - B01F9/06
  • 本实用新型属于搅拌装置技术领域,具体涉及一种用于渗透试验中密封材料的搅拌装置,包括两个第一支撑脚和两个第二支撑脚,两个第一支撑脚和两个第二支撑脚之间设有C形支撑架,C形支撑架设有铰接座,铰接座设有圆环形支撑件,圆环形支撑件设有搅拌桶,搅拌桶设有齿圈,搅拌桶设有桶盖,桶盖设有橡胶密封垫,C形支撑架设有斜支架,斜支架设有滑轮,两个第一支撑脚之间固定连接有横板,横板上端固定连接有电机,电机设有转轴,转轴固定连接有与齿圈相匹配的驱动齿轮,C形支撑架后端设有倚靠架;本实用新型在解决现有装置搅拌时容易出现粉尘飞扬的同时,解决了现有装置存在搅拌盲区的问题以及搅拌效率较低的问题。
  • 一种用于渗透试验密封材料搅拌装置
  • [实用新型]CMP设备内部喷洒系统-CN201720065384.4有效
  • 韦荣 - 吉姆西半导体科技(无锡)有限公司
  • 2017-01-19 - 2017-09-05 - B24B37/34
  • 本实用新型提供一种CMP设备内部喷洒系统,包括至少一根支撑杆,所述支撑杆连接在支撑装置上,支撑杆位于相邻两个研磨头之间;支撑杆的安装高度高于研磨头;在支撑杆上固定有喷洒器;所述喷洒器包括底座、底座内部的通道、转接头和喷嘴;两个转接头分别设在底座的两端,与通道连通,且所述转接头为倾斜角度转接头;喷嘴设在转接头上;底座固定在支撑杆上,底座上的两个喷嘴分别位于所在支撑杆的两侧,并朝向外侧下方。本实用新型可实现CMP设备内部环境的清洁,降低CMP工艺时颗粒密度,提高晶圆良率。
  • cmp设备内部喷洒系统
  • [实用新型]晶圆单面抛光装置-CN201720064901.6有效
  • 韦荣 - 吉姆西半导体科技(无锡)有限公司
  • 2017-01-19 - 2017-09-05 - B24B49/12
  • 本实用新型提供一种晶圆单面抛光装置,包括大盘、抛光垫、晶圆夹持装置、支撑装置、侦测杆、影像传感器;抛光垫设置在大盘的一个工作面;晶圆夹持装置设置在抛光垫上方;晶圆夹持装置下端用于固定住晶圆;侦测杆设置在抛光垫上方,影像传感器安装在侦测杆上并对准抛光垫;影像传感器的侦测范围至少包括晶圆夹持装置内侧边缘至晶圆夹持装置外侧边缘之间区域;侦测杆固定在支撑装置上;本实用新型能够通过实时监控抛光垫上面的颜色差异来判断抛光工艺进行的程度,使抛光工艺参数达到自动化优化,还可以发现可能发生的抛光液污染问题,抛光过程中的晶圆碎裂问题。
  • 单面抛光装置

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