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[发明专利]用于激光加工的处理台和具有其的用于激光加工的设备-CN202110680843.0在审
发明人：将盛旭;李基雄;严泰骏;金圣进 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2021-06-18 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B23K26/38 文献下载
摘要：本发明提供一种易于组装和拆卸的用于激光加工的处理台以及一种具有其的用于激光加工的设备。用于激光加工的处理台包含：底板，包含具有连接到真空管线的真空孔的真空部和配置成通过连接到排气管线的排气孔排出过程副产物的排气部；连接板，包含与真空孔连通以在厚度方向上延伸的第一连通孔和与排气孔连通以在厚度方向上延伸的第二连通孔；以及吸附板，包含与第一连通孔连通以吸附衬底的吸附孔和与第二连通孔连通以在厚度方向上延伸的抽吸孔。
用于激光加工处理具有设备

[发明专利]卡盘工作台、其支撑板制造方法及包含其的激光处理装置-CN202010645513.3在审
发明人：将盛旭;李基雄;金圣进;张民奎 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2020-07-07 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本公开涉及一种卡盘工作台、包含卡盘工作台的激光处理装置以及用于制造卡盘工作台的支撑板的方法，且卡盘工作台包含支撑板和真空泵，支撑板具有深度小于宽度的气流槽，以通过真空压力吸附待处理的物件。由于气流槽的深度低，当抽吸经处理物件(或衬底)的一部分的竖直方向力减小时，可防止经处理物件的翘曲。因此，可防止在经处理物件的激光处理期间在经处理物件中产生的斑，且可解决处理均匀性的降低。
卡盘工作台支撑制造方法包含激光处理装置

[发明专利]激光设备、激光处理装备以及激光设备的污染防止方法-CN201710614877.3有效
发明人：李基雄;金圣进;车恩熙;金炳秀 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： B23K26/14 文献下载
摘要：本发明提供一种激光设备、激光处理装备以及激光设备的污染防止方法，激光设备包含具有内部空间的壳体、用于通过激光辐照所述壳体的内部的激光单元、安装在所述壳体中以便将吹扫气体供应到所述壳体中的气体供应单元、以及具备安装在所述壳体中以便测量所述壳体内部多个位置处的氧浓度的主要氧浓度测量装置的测量单元。本发明可通过精确调节激光设备内部的吹扫气体的量来防止所述激光设备内部的透镜或反射镜的污染。
激光设备激光处理装备以及污染防止方法

[发明专利]吡啶-2-基烷基氨基取代的羟肟酸及其用途-CN201980019216.3在审
发明人：焦关胜;金圣进;艾伦·T·约翰逊 -专利权人：夏威夷生物技术公司
申请日： 2019-03-12 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： A61K31/506 文献下载
摘要：提供了式I化合物，其中X为NH或CH2，Y为单键或‑CHR5‑，R1为H、C1‑C4烷基或C1‑C4羟烷基，R2和R2'各自独立为H，C1‑C4烷基或C1‑C4羟烷基，每个R3独立地为H、卤素、‑CF3、C1‑C4烷基或C1‑C4烷氧基、C3全卤代烷基，每个R4独立地为H、卤素或C1‑C4烷基，R5为C1‑C4烷氧基，r是0至3的整数；以及p是0至3的整数。
吡啶烷基氨基取代羟肟酸及其用途

[发明专利]衬底处理设备-CN201410563526.0有效
发明人：金戊一;金泰俊;金圣进;金钟元 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2014-10-21 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够去除衬底处理空间内的颗粒的衬底处理设备。衬底处理设备包含：具有衬底处理空间的腔壳，所述衬底处理空间由底壁、上壁，以及将底壁连接到上壁的侧壁界定；经配置以在衬底处理空间内在第一轴向方向以及与第一轴向方向交叉的第二轴向方向上移动的衬底平台；以及分别沿着腔壳的两个侧壁安置的侧壁排气单元，所述侧壁排气单元经配置以将通过衬底平台的移动在衬底平台与侧壁之间产生的气流引导到外部。
衬底处理侧壁衬底处理设备衬底平台排气单元第一轴底壁腔壳上壁侧壁界定方向交叉气流引导第二轴上移动配置去除安置外部移动

[发明专利]截止器及衬底加工装置-CN201810149301.9在审
发明人：金镐岩;李基雄;金圣进;金戊一 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2018-02-13 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本发明提供一种截止器及衬底加工装置。所述衬底加工装置包括：光辐照器，包括透射光的透射窗口，且安装在上面置有衬底的平台上方以将光辐照到所述衬底上；以及耗散诱导部件，设置在所述透射窗口上方以使通过从所述衬底反射而穿过所述透射窗口的所述光入射，且具有捕获所述光以多次对所述光进行反射的第一凹槽。因此，激光束的反射次数可进一步增加以防止截止器因激光束的热量而劣化，从而防止当在工艺进行时因截止器劣化导致截止器周围气氛发生改变的情况下在衬底上出现因劣化导致的云纹。
截止器衬底衬底加工装置透射窗口劣化反射激光束光辐照器诱导部件光辐照光入射透射光耗散云纹捕获穿过

[发明专利]用于处理待处理的物体的设备和方法和用于其的平台单元-CN201710615381.8在审
发明人：李基雄;金镐岩;严泰骏;金圣进 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于处理待处理的物体的设备和方法和用于其的平台单元。所述设备包含腔室，其具有处理待处理的物体用的处理空间；底座，包括一个表面，面对一个表面的另一个表面，以及配置成将所述一个表面连接到所述另一个表面的侧表面；托盘，包含可变固定单元，可变固定单元包括可变固定部件，可变固定部件安装在底座上，以能与待处理的物体的尺寸相对应地变化位置；控制单元，连接到可变固定单元以根据待处理的物体的数据而控制固定部件的移动；以及光照部分，配置成在垂直于待处理的物体的转移方向的垂线上照射光。因此，根据待处理的物体的数据调节多个固定部件的位置以固定待处理的物体，由此容易支撑和处理各种尺寸的主体。
用于处理物体设备方法平台单元

[发明专利]光照射设备-CN201410831829.6在审
发明人：沈亨基;白圣焕;金圣进;车恩熙 -专利权人： AP系统股份有限公司;三星显示有限公司
申请日： 2014-12-26 - 公布日： 2015-07-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于将光照射到衬底上以处理所述衬底的光照射设备。所述光照射设备包含透射窗，光透射穿过所述透射窗；收集器，设置在透射窗上方并且向上倾斜到透射窗的外部，收集器使在从所述衬底反射之后透射穿过透射窗的反射光偏移；以及冷却块，在冷却块中制冷剂在其中循环，冷却块设置在收集器中以冷却所述收集器。因此，根据实施例，因为收集器设置在透射窗上方并向上倾斜到透射窗的外部，并且在收集器的底表面上形成了突出部，所以可抑制或最小化反射光的漫反射。并且，收集器可将反射光朝所述透射窗的外部引导以防止从衬底S反射的反射光再入射到透射窗中。因此，可抑制由所述透射窗的温度失衡和温度升高造成的不均和光移位的产生。
照射设备

[发明专利]衬底支撑模块-CN201310560032.2有效
发明人：金贤中;李基雄;金圣进;车恩熙 -专利权人： AP系统股份有限公司;三星显示有限公司
申请日： 2013-11-12 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： C30B1/02 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底支撑模块，包括：平台，用于在上面安放衬底；支撑物，经安装从而使得支撑物的至少一部分垂直地穿过平台，并且支撑物经配置以通过升高和降低运动在平台上装载和卸载衬底；下部旋转机构，放置在平台内部，并且具有面向彼此安装的第一和第二下部旋转构件，支撑物安置在中央，并且第一和第二下部旋转构件经配置以抵靠支撑物旋转；以及第一上部旋转机构，放置在平台内部的下部旋转机构上方，并且具有面向彼此安装的第一和第二上部旋转构件，支撑物安置在中央，第一和第二上部旋转构件经配置以抵靠支撑物旋转。
衬底支撑模块

[发明专利]透光设备及具有所述透光设备的退火设备-CN201310560178.7有效
发明人：梁相熙;李基雄;权五成;金圣进 -专利权人： AP系统股份有限公司;三星显示有限公司
申请日： 2013-11-12 - 公布日： 2014-05-21 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本发明提供一种透光设备及具有所述透光设备的退火设备，所述透光设备包括：光可穿透的透射窗；提供于所述透射窗的边缘上的框架；以及多个夹钳，其用于将压力施加到所述框架以紧密地固定所述透射窗；其中所述夹钳包括本体、插入于所述本体中的弹性部件及经由所述弹性部件穿过所述本体且从所述本体的下端突出的紧固件部件，且所述弹性部件将由所述紧固件部件所施加的压力控制在所要范围内。
透光设备有所退火

[发明专利]基板传送装置-CN201210555398.6有效
发明人：梁相熙;李基雄;金圣进;车恩熙 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2012-12-19 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本申请提供了一种基板传送装置。所述基板传送装置包括：基部，基板放置在所述基部上；支撑单元，所述支撑单元穿过所述基部以支撑所述基板；以及驱动单元，所述驱动单元用于向上或向下移动所述支撑单元。基板传送装置利用支撑单元的薄板支撑基板，从而防止基板因色不均现象而受损。
传送装置

[发明专利]退火装置-CN201210551881.7有效
发明人：梁相熙;李基雄;金圣进;安珍荣 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2012-12-18 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： C03B25/00 文献下载
摘要：本发明提供一种退火装置。退火装置包括：底板单元，所述底板单元具有激光束透过的入射口；密封单元，所述密封单元固定至所述底板单元以通过气动压力膨胀；以及顶板单元，所述顶板单元放置在所述底板单元上且与所述密封单元紧密接触。所述密封单元可通过气动压力膨胀或收缩以防止所述密封单元卡在所述顶板单元上，从而允许所述底板单元平稳地与所述顶板单元分开。
退火装置

[发明专利]对接导向装置-CN201210560640.9有效
发明人： 金圣进;金利镐;安珍荣;金廷奎 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2012-12-20 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本申请提供了一种对接导向装置。所述对接导向装置包括：底部框架单元；可移动单元，所述可移动单元可移动地安装在所述底部框架单元上；以及联接单元，所述联接单元放置在所述可移动单元上并且被联接到导向模块。对接导向装置可以调节导向模块的位置，使得导向模块被配置在光学模块附近，从而改善光学模块和导向模块的组装效率。
对接导向装置

[发明专利]激光处理装置及其控制方法-CN201210559128.2有效
发明人：朴宪旭;林基锡;金圣进;崔东奎 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2012-12-20 - 公布日： 2013-06-26 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本文提供一种激光处理装置及其控制方法，其能够仅对衬底的待进行激光处理的部分选择性地进行激光处理，并且能够防止气体存留在衬底与平台之间直到衬底放置在平台上。该激光处理装置包括：平台，其被放置在反应室内且在该平台上放置衬底；真空单元，被提供给平台以将氧气从位于衬底与平台之间的空间排放到反应室的外部；以及控制器，当衬底放置在平台上时，其将操作信号发送到真空单元，使得从平台的中心部向其外围依序执行氧气排放操作。
激光处理装置及其控制方法

[发明专利]可控制激光束长度及强度的激光加工设备-CN201010196885.9无效
发明人：金相午;金踵明;白圣焕;金圣进 -专利权人： AP系统股份有限公司
申请日： 2010-06-10 - 公布日： 2010-12-29 - 主分类号： C23C16/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光加工设备，具备：在内部安装基板并在上方安装石英窗的反应室；安装于反应室的外部，使其位于石英窗的顶部，并将帘状激光束照射于基板的激光装置；安装于激光装置和石英窗之间，并隔离激光束的侧面，为使沿着激光束的纵向水平移动，并在激光束的两端中至少安装于一端的光束隔离手段。反馈手段的光电探测器接受由光束隔离手段反射的激光束，并测量其强度后反馈给激光装置，从而控制激光装置输出的激光束强度。根据本发明，可控制入射于基板的激光束长度，而且还能在实施过程中实时控制激光束的强度。
控制激光束长度强度激光加工设备

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