专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种基于多源图像模板匹配方法及系统-CN202310784560.X在审
  • 王怀野;张军;赵晓霞;梅立春;赵元富;朱大平 - 北京航天飞腾装备技术有限责任公司
  • 2023-06-29 - 2023-10-20 - G06V10/74
  • 本发明涉及一种基于多源图像模板匹配方法及系统,包括:分割模板图像和参考图像为大小相等的图像块;纯化分割出的图像块和压缩图像的灰度级来滤除图像噪声和提高算法效率;处理过的图像块转化为与灰度无关的灰度级分布矩阵;根据经验给由模板图像和参考图像中的图像块对应的所有灰度级分布矩阵组合赋予相似度值;通过灰度级分布矩阵组合及其对应的数量计算整幅模板图像和参考图像中的候选窗口图像之间的相似度;相似度最高的候选窗口图像在参考图像中的位置即为要寻找的位置;本发明中的灰度级分布矩阵可以有效提取与灰度无关的复杂来源的多源图像特征,通过经验相似度值实现多源图像之间的模板匹配。
  • 一种基于图像模板匹配方法系统
  • [发明专利]一种热电优化的鳍式氧化镓MOSFET结构及制作方法-CN202211510940.6在审
  • 李园;李佳宁;陆小力;何云龙;马晓华;赵元富;郝跃 - 西安电子科技大学
  • 2022-11-29 - 2023-03-03 - H01L29/78
  • 本发明涉及一种热电优化的鳍式氧化镓MOSFET结构及制作方法,该MOSFET结构包括:β‑Ga2O3衬底、β‑Ga2O3非故意掺杂外延层、导电沟道层、栅介质层、源电极、漏电极、栅电极和若干场笼,导电沟道层和β‑Ga2O3非故意掺杂外延层中贯穿有沿着栅宽方向分布的若干梯形凹槽,相邻梯形凹槽之间的导电沟道层形成斜鳍栅,斜鳍栅靠近源电极的边与靠近漏电极的边平行;栅介质层覆盖导电沟道层和若干梯形凹槽;源电极位于导电沟道层的一端,漏电极位于导电沟道层的另一端;栅电极位于部分梯形凹槽和部分斜鳍栅对应的栅介质层上,且位于若干梯形凹槽和源电极之间的栅介质层上;若干场笼分布于漏电极和斜鳍栅之间的栅介质层上。该结构降低了氧化镓MOSFET结构的电场峰值,降低了器件的工作温度。
  • 一种热电优化氧化mosfet结构制作方法

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