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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理装置-CN202210096669.X在审
  • 西部幸伸 - 芝浦机械电子装置株式会社
  • 2022-01-26 - 2022-08-05 - H01L21/67
  • 本发明提供一种可提高基板的品质的基板处理装置。实施方式是一种基板处理装置，对具有翘曲的基板进行处理，且所述基板处理装置包括：多个搬送辊，将在与基板的搬送方向正交的宽度方向上隔开地设置的两个作为一组，沿着搬送方向设置有多组，支撑凹面侧并以轴为中心旋转，由此搬送基板；第一轴，将在宽度方向上隔开地设置的两根作为一组，沿着搬送方向设置有多组，安装有搬送辊；以及流体供给部，向基板的凹面供给流体，流体供给部从在宽度方向上隔开的各组的搬送辊之间向基板的凹面供给流体。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板搬送装置以及基板处理装置-CN202210018112.4在审
  • 西部幸伸 - 芝浦机械电子装置株式会社
  • 2022-01-07 - 2022-07-29 - H01L21/677
  • 本发明提供一种基板搬送装置以及基板处理装置，能够提高基板的品质。实施方式是搬送具有翘曲的基板的基板搬送装置，包括：多个搬送辊，具有支撑基板的凹面侧的圆柱部，通过圆柱部以轴为中心而旋转，从而搬送基板；第一轴，与搬送辊成同轴地沿着与基板的搬送方向正交的宽度方向而设；按压辊，按压基板的凸面；及第二轴，与按压辊成同轴地设置，且搬送辊是将在宽度方向上隔开地设置的两个作为一组，而沿搬送方向配置有多组，在各组的两个搬送辊，设有在宽度方向上隔开的两根第一轴，搬送辊与按压辊的隔开距离具有沿着搬送方向而变短的部分。
  • 基板搬送装置以及处理
  • [发明专利]基板处理装置-CN202111609726.1在审
  • 加藤智也;西部幸伸;宫迫久显 - 芝浦机械电子装置股份有限公司
  • 2021-12-27 - 2022-07-01 - B08B3/02
  • 本发明提供基板处理装置，该基板处理装置能够高效地对由搬送装置搬送的基板进行处理。实施方式的基板处理装置在处理室(100)内从配置于搬送装置的上方的喷嘴(10a)向以待处理的表面朝上的方式由所述搬送装置搬送的基板喷出高压处理流体而对所述基板(W)的表面进行处理，其中，所述基板处理装置具有分隔板(12)，该分隔板(12)配置于所述喷嘴(10a)的所述基板(W)的搬送方向(Dt)的下游侧，阻碍以被从所述喷嘴(10a)朝向所述基板(W)的表面喷出的所述高压处理流体的流动引入的方式产生的气流向所述下游侧流动，所述分隔板(12)配置为在该分隔板(12)的上端缘与所述处理室(100)的顶部(103)之间形成有间隙(Gb)。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN202111500391.X在审
  • 手岛理惠;西部幸伸 - 芝浦机械电子装置股份有限公司
  • 2021-12-09 - 2022-06-14 - B08B3/02
  • 本发明提供基板处理装置。根据一个实施方式的基板处理装置，构成为具有：部件(21、23)，其包含第1喷嘴(23)，该第1喷嘴(23)与以一个面朝向上方的姿势被搬送的基板(W)的所述一个面对置配置，向所述一个面喷出第1处理液；以及第2喷嘴(24)，其与被搬送的基板W的另一个面对置配置，向所述另一个面喷出第2处理液，第2喷嘴(24)配置为所述第2处理液的喷出方向相对于基板(W)的所述另一个面倾斜。
  • 处理装置
  • [发明专利]有机膜形成装置-CN201880080915.4有效
  • 西部幸伸;矶明典;大森圭悟;高桥崇史 - 芝浦机械电子株式会社
  • 2018-12-13 - 2022-03-29 - F26B9/06
  • 实施方式所涉及的有机膜形成装置具备：腔，可维持比大气压更被减压的环境；至少1个处理室，设置在所述腔的内部且被罩围住；及排气部，可对所述腔的内部进行排气。所述处理室中设置有：上部加热部，具有至少1个第1加热器；下部加热部，具有至少1个第2加热器且与所述上部加热部对峙；及工件支撑部，在所述上部加热部与所述下部加热部之间，可支撑具有基板和涂布于所述基板的上面的含有有机材料、溶剂的溶液的工件。所述处理室具有连通于所述腔的空间。所述排气部对所述腔的内部的压力进行减压，同时对所述腔的内壁与所述罩之间的空间的压力进行减压。
  • 有机形成装置
  • [发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201610525373.X有效
  • 今冈裕一;西部幸伸 - 芝浦机械电子株式会社
  • 2016-07-06 - 2020-03-06 - H01L21/67
  • 本发明提供能够以短时间形成均匀地喷出处理液的状态的水刀、基板处理装置及基板处理方法。实施方式所涉及的水刀(11)具有：贮存部(11T)，贮存处理液；喷出部(11S)，形成为沿着贮存部(11T)的长度方向延伸的狭缝状，与贮存部(11T)连接并喷出处理液；处理液供给路径(11P)，对贮存部(11T)供给处理液；及吸引路径(11V)，吸引存在于贮存部(11T)的气体。从处理液供给路径(11P)向贮存部(11T)供给处理液的同时，对贮存部(11T)施加吸引力，该吸引力是外部气体不会从喷出部(11S)被吸引到贮存部(11T)内的吸引力。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]基板处理装置-CN201510810502.5有效
  • 西部幸伸;矶明典 - 芝浦机械电子株式会社
  • 2015-11-20 - 2019-05-03 - G02F1/13
  • 提供一种基板处理装置，能够防止气泡的影响并且通过处理液良好地进行处理。实施方式的基板清洗装置(100)(基板处理装置的一个例子)从喷淋喷嘴(11)对由搬送机构(13)搬送的基板(W)供给清洗液(L)并进行清洗处理。第一回收配管(14)从清洗槽(10)的底部将在清洗处理使用后的清洗液(L)回收到罐(T)。第二回收配管(15)将在清洗工序中产生的气泡回收到罐(T)。在第二回收配管(15)具备强制地回收气泡的吸气器(16)。
  • 处理装置
  • [发明专利]基板处理装置-CN201610046871.6有效
  • 高原龙平;西部幸伸;矶明典;坂下健司;松田大辉 - 芝浦机械电子株式会社
  • 2016-01-25 - 2018-10-26 - H01L21/02
  • 一种基板处理装置，能够抑制基板的抖动以及输送偏移。基板处理装置(1)具备：在处理室(2)内以夹着输送路(H)的方式在输送路的上下分别设置，分别朝输送路吹送气体的第1吹拂器(4a)以及第2吹拂器(4b)；以及设置在处理室内并对气体的流动进行整流的整流板(5)。第1吹拂器以及第2吹拂器设置成分别具有长条状的吹出口(13)，吹出口的长度方向在水平面内相对于基板(W)的输送方向(Ha)朝相同的方向倾斜，吹出口朝基板的输送方向的上游侧吹出气体。整流板设置成具有第1面(5a)以及其相反面即第2面(5b)，位于输送路的下方且朝基板的输送方向的下游侧倾倒，将气体的流动分成沿着第1面的流动和沿着第2面的流动。
  • 处理装置
  • [发明专利]处理装置及处理方法-CN201410080006.4无效
  • 佐佐木真一;添田胜之;西部幸伸 - 株式会社东芝
  • 2014-03-06 - 2014-09-10 - H01L21/67
  • 本发明的一个实施方式，为具备用冲刷液冲洗处理物的表面的处理液的冲刷部、以及使上述处理物的表面干燥的干燥部的处理装置，上述干燥部具有：腔室；设置在上述腔室的内部、朝上述处理物的表面喷射气体的喷嘴；设置在上述冲刷部与设置有上述喷嘴的上述腔室内部的空间之间的气流控制部；以及沿上述处理物的搬送方向排列的多个搬送辊。并且，上述气流控制部具有设置在上述处理物搬入一侧的第1开口部和设置在上述处理物搬出一侧的第2开口部，上述第2开口部的开口面积比上述第1开口部的开口面积小。
  • 处理装置方法
  • [发明专利]处理装置和处理方法-CN201310070532.8有效
  • 藤田博;矶明典;添田胜之;西部幸伸;佐佐木真一 - 株式会社东芝;芝浦机械电子株式会社
  • 2013-03-06 - 2013-09-18 - B05C5/00
  • 本发明提供一种即使在利用回收的处理液进行处理的情况下也能够进行恰当的处理的处理装置和处理方法。根据一个实施方式，处理装置具备输送被处理物的输送部、回收已供给到由输送部输送的被处理物的处理面上的第一处理液的回收部、将由回收部回收的第一处理液向被处理物的处理面喷出的第一喷嘴、设置在第一喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出第二处理液的第二喷嘴、以及设置在第二喷嘴的输送方向的下游侧且向被处理物的处理面喷出清洗液的第三喷嘴。而且，第二喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的下游侧喷出第二处理液，第三喷嘴朝着与相对输送方向垂直的方向相比向输送方向的上游侧喷出清洗液。
  • 处理装置方法
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