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[发明专利]多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法-CN202180047071.5在审
发明人：加藤靖雄;川名亮;速水雅生 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2021-05-14 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的一个方式的多带电粒子束描绘装置，其特征在于，具备：射束形成机构，形成多带电粒子束；块区域生成电路，从将在多带电粒子束的各射束与相邻的其他多个射束之间被包围的各小区域组合而成的上述多带电粒子束的照射区域生成多个块区域；以及描绘机构，使用多带电粒子束，以通过多重描绘的任一个描绘处理至少进行各块区域的照射的方式、且以上述多重描绘的各描绘处理使用多个块区域中的一个而在各描绘处理中通过该块区域的照射不重复地覆盖试样的描绘区域的方式进行描绘，由此进行多重描绘。
带电粒子束描绘装置以及方法

[发明专利]多射束描绘方法及多射束描绘装置-CN202010660659.5有效
发明人：松本裕史 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：实施方式涉及多射束描绘方法以及多射束描绘装置。多射束描绘方法具备：形成对基板进行多重描绘的多射束的射束阵列的工序；针对每个所述描绘，对将所述基板上的区域分割而得到的多个子条纹区域的每一个，分配将所述射束阵列分割而得到的所述子射束阵列的工序；针对每个所述子射束阵列，计算应用于子射束阵列内的各射束的照射时间调制率的工序；对于与相互重叠的所述子条纹区域的组分别对应的所述子射束阵列，基于所述子射束阵列内的射束的照射时间调制度，对每个所述子射束阵列计算权重并分配的工序；及将分配给各所述子射束阵列的权重与所述子射束阵列内的各射束的照射时间相乘，描绘各所述子条纹区域，对各所述子条纹区域进行多重描绘的工序。
多射束描绘方法装置

[发明专利]多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法-CN202211113618.X在审
发明人：上羽亮介;广濑晓;伊佐治俊辅;西村理惠子 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止描绘精度的下降的多带电粒子束描绘装置及多带电粒子束描绘方法。本实施方式的多带电粒子束描绘方法具备：在对载置于连续移动的工作台上的基板照射包括多个带电粒子束的多束的期间中，进行跟踪动作以使上述多束的偏转位置追随于上述工作台的移动的工序；以及在上述跟踪动作中将上述多束的各束向上述基板的描绘区域被分割为网格状后的多个矩形区域分别照射的工序；在对上述矩形区域被以规定尺寸分割为网格状后的多个像素的至少一部分分别以第1发射顺序照射上述各束后，以与上述第1发射顺序不同的第2发射顺序照射上述各束。
带电粒子束描绘装置方法

[发明专利]多带电粒子束描绘方法、多带电粒子束描绘装置以及计算机可读取的记录介质-CN202211119387.3在审
发明人：山田拓;中山贵仁 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-09-14 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供多带电粒子束描绘方法、多带电粒子束描绘装置以及计算机可读取的记录介质，能够提高多射束的描绘精度。本实施方式的多带电粒子束描绘方法包括：将用于向消隐孔径阵列基板上的单元阵列输入用于控制多射束的各射束的开启或截止的控制数据的数据路径，根据多个输入输出电路的各输入输出电路、以及基于向上述多个输入输出电路的多个布线的布线间距离而集中的多个布线组中的至少任一个，分割为多个第1块，针对分割后的上述多个第1块的每个，计算因电场以及磁场的至少任一个而产生的上述多个第1块的每个的上述多射束的第1移位量的工序；以及基于上述第1移位量，校正上述多射束的照射位置或者照射量并照射上述多射束的各射束的工序。
带电粒子束描绘方法装置以及计算机读取记录介质

[发明专利]放电检测装置以及带电粒子束照射装置-CN202210951298.9在审
发明人：室伏达也;山中吉郎;早川裕树 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-08-09 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： H01J37/06 文献下载
摘要：本发明提供一种放电检测装置以及带电粒子束照射装置，能够减少因保持天线的保持部件而引起的放电的频率。实施方式的放电检测装置包括：真空容器；导电性的设置部件，设置在上述真空容器内，通过与上述真空容器连接而保持在上述真空容器；导电性的天线，设置在上述真空容器内；以及保持体，包含具有处在1×105到1×1011(Ω·cm)的范围内的电阻率的材料，通过螺钉遍及上述天线的内部以及上述保持体的内部设置，不使上述设置部件与上述天线接触地将上述天线保持于上述设置部件。
放电检测装置以及带电粒子束照射

[发明专利]反射器单元及成膜装置-CN202210959960.5在审
发明人：梅津拓人;矢岛雅美;铃木邦彦 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-08-11 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：提供一种能够充分地抑制向腔室的热传导并抑制应力的发生的反射器单元及成膜装置。反射器单元具备：圆筒状的第1反射器零件，在外周侧设有用来被成膜腔室支承的第1卡合部，在内周侧设有第1搭载部；以及圆筒状的第2反射器零件，配置在第1反射器零件的内侧，在外周侧设有用来在第1搭载部上卡合而被第1反射器零件支承的第2卡合部。
反射单元装置

[发明专利]描绘数据生成方法以及多带电粒子束描绘装置-CN201910972026.5有效
发明人：安井健一;中山田宪昭 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2019-10-14 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及描绘数据生成方法以及多带电粒子束描绘装置，生成在多带电粒子束描绘装置中使用的描绘数据。在该描绘数据生成方法中，计算设计数据所包含的包含曲线和直线的图形的、表现上述曲线的多个控制点和上述曲线以及上述直线的多个顶点，并将各控制点以及各顶点的位置用从相邻的控制点或者顶点起的位移表现，从而生成上述描绘数据。
描绘数据生成方法以及带电粒子束装置

[发明专利]放电部位检测方法以及放电部位检测装置-CN202210863722.4在审
发明人：有泉亨 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-07-21 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种放电部位检测方法以及放电部位检测装置，能够提高放电的检测精度。根据一个实施方式，提供用于能够切换地具有第1模式和第2模式的带电粒子束照射装置的放电部位检测方法。在第1模式中，通过对多个电极分别施加电压，能够使带电粒子的射束偏转。在第2模式中，不进行电压施加，能够取得表示发射射束的期间的多个电极各自的电位的数据。放电部位检测方法在第2模式中包含：在与多个电极中的任一个电极相关的数据所示的电位的变动超过了规定的阈值的情况下，检测为产生了放电，并将与电极对应的部位检测为产生了放电的部位。
放电部位检测方法以及装置

[实用新型]反射器单元及成膜装置-CN202222114459.7有效
发明人：梅津拓人;矢岛雅美;铃木邦彦 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-08-11 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：提供一种能够充分地抑制向腔室的热传导并抑制应力的发生的反射器单元及成膜装置。反射器单元具备：圆筒状的第1反射器零件，在外周侧设有用来被成膜腔室支承的第1卡合部，在内周侧设有第1搭载部；以及圆筒状的第2反射器零件，配置在第1反射器零件的内侧，在外周侧设有用来在第1搭载部上卡合而被第1反射器零件支承的第2卡合部。
反射单元装置

[发明专利]成膜装置-CN201711130137.9有效
发明人：铃木邦彦;池谷尚久;矢岛雅美;原一都;藤林裕明;松浦英树;铃木克己 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2017-11-15 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C30B25/02 文献下载
摘要：本发明的实施方式的成膜装置具备：成膜室，可收容基板；气体供给部，设置在成膜室的上部，具有向基板的成膜面上供给气体的多个喷嘴；加热器，对基板进行加热；以及第一保护罩，在与气体供给部的多个喷嘴相对应的位置具有多个开口部。
装置

[发明专利]多带电粒子束描绘装置-CN202210661233.0在审
发明人：木村骏生;森田博文;东矢高尚;冈泽光弘 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实施方式提供抑制试样面上的射束位置偏移的多带电粒子束描绘装置。本实施方式的带电粒子束描绘装置为一种多带电粒子束描绘装置，具备：消隐孔径阵列基板，设有多个消隐器，该多个消隐器进行构成多射束的多个带电粒子束各自的消隐偏转；以及第一屏蔽部件，配置于比所述消隐孔径阵列基板靠所述多射束的行进方向的下游侧，具有供所述多射束在内部穿过的圆筒部，由高磁导率材料构成。
带电粒子束描绘装置

[发明专利]多带电粒子束描绘装置以及多带电粒子束描绘方法-CN202180027978.5在审
发明人：加藤靖雄;川名亮 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2021-03-16 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明的一个方式的多带电粒子束描绘装置的特征在于，具备：射束形成机构，形成多带电粒子束；剂量运算电路，对试样上的各位置处的剂量进行运算；追加剂量分配电路，将多带电粒子束中的、无法进行射束的剂量控制而照射的剂量过剩的剂量过剩缺陷射束，照射到在过剩剂量扩散的范围内用于抵消过剩剂量的剂量不足的位置，由此，将用于使基于在试样产生的过剩剂量的第1剂量分布成为中心位于第1剂量分布的范围内且位于存在用于抵消过剩剂量的射束照射的描绘对象的图案的内侧的第2剂量分布的追加剂量，分配给图案内的位置；校正电路，进行校正，以从向上述第2剂量分布的中心或者第2剂量分布的中心的附近照射的剂量减少由于分配追加剂量而在第2剂量分布的中心产生的剂量增加量；以及描绘机构，使用包含剂量过剩缺陷射束的多带电粒子束，在试样上描绘图案。
带电粒子束描绘装置以及方法

[发明专利]带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置-CN202010343027.6有效
发明人：安井健一 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：实施方式涉及带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置。实施方式的带电粒子束描绘方法具备如下工序：使用被定义了图形图案的描绘数据，将所述图形图案分割为通过带电粒子束的发射而能够照射的尺寸的多个发射图形；将描绘对象基板虚拟分割成网格状而分为多个网格区域，基于所述图形图案的位置，按照每个所述网格区域，计算对邻近效应以及与邻近效应相比影响半径更小的中距离效应进行校正的校正照射量；使用所述校正照射量计算各发射图形的照射量；基于所述照射量计算所述发射图形的边缘部的不足照射量；基于所述不足照射量对所述发射图形进行尺寸调整；以及使用所述照射量的带电粒子束，对所述描绘对象基板描绘进行了尺寸调整的发射图形。
带电粒子束描绘方法以及装置

[发明专利]带电粒子射束描绘方法、装置及计算机可读取的记录介质-CN202210546780.4在审
发明人：野村春之;中山田宪昭;小笠原宗博 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-05-18 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实施方式提供高精度地校正射束照射位置而能够防止描绘精度降低的带电粒子射束描绘方法、带电粒子射束描绘装置及计算机可读取的记录介质。本实施方式的带电粒子射束描绘方法，通过偏转器使带电粒子射束偏转，并向基板照射所述带电粒子射束来描绘图案，该带电粒子射束描绘方法，基于刚照射所述带电粒子射束后的所述基板上的射束照射区域的带电量和所述基板中的电荷的扩散系数，计算带电量分布；基于所述带电分布，计算所述基板上的所述带电粒子射束的位置偏移量分布；基于所述位置偏移量分布，校正所述带电粒子射束的照射位置。
带电粒子描绘方法装置计算机读取记录介质

[发明专利]带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置-CN202010343206.X有效
发明人：安井健一;加藤靖雄 -专利权人： 纽富来科技股份有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：实施方式涉及带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置。在实施方式的带电粒子束描绘方法中，计算以第一网格尺寸将基板的描绘区域虚拟分割而得的每个第一网格区域的图案的面积密度而制作第一网格数据，将所述第一网格数据的网格尺寸转换为比第一网格尺寸大的第二网格尺寸而制作第二网格数据，进行所述第二网格数据与邻近效应校正内核的卷积运算，制作第三网格数据，将所述第三网格数据的网格尺寸转换为所述第一网格尺寸而制作第四网格数据，进行所述第一网格数据与中距离效应校正内核的卷积运算，制作第五网格数据，将所述第四网格数据与所述第五网格数据相加，计算每个所述第一网格区域的带电粒子束的照射量。
带电粒子束描绘方法以及装置