“矢岛雅美”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果7个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]反射器单元及成膜装置-CN202210959960.5在审
发明人：梅津拓人;矢岛雅美;铃木邦彦 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-08-11 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：提供一种能够充分地抑制向腔室的热传导并抑制应力的发生的反射器单元及成膜装置。反射器单元具备：圆筒状的第1反射器零件，在外周侧设有用来被成膜腔室支承的第1卡合部，在内周侧设有第1搭载部；以及圆筒状的第2反射器零件，配置在第1反射器零件的内侧，在外周侧设有用来在第1搭载部上卡合而被第1反射器零件支承的第2卡合部。
反射单元装置

[实用新型]反射器单元及成膜装置-CN202222114459.7有效
发明人：梅津拓人;矢岛雅美;铃木邦彦 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-08-11 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：提供一种能够充分地抑制向腔室的热传导并抑制应力的发生的反射器单元及成膜装置。反射器单元具备：圆筒状的第1反射器零件，在外周侧设有用来被成膜腔室支承的第1卡合部，在内周侧设有第1搭载部；以及圆筒状的第2反射器零件，配置在第1反射器零件的内侧，在外周侧设有用来在第1搭载部上卡合而被第1反射器零件支承的第2卡合部。
反射单元装置

[发明专利]成膜装置-CN201711130137.9有效
发明人：铃木邦彦;池谷尚久;矢岛雅美;原一都;藤林裕明;松浦英树;铃木克己 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2017-11-15 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： C30B25/02 文献下载
摘要：本发明的实施方式的成膜装置具备：成膜室，可收容基板；气体供给部，设置在成膜室的上部，具有向基板的成膜面上供给气体的多个喷嘴；加热器，对基板进行加热；以及第一保护罩，在与气体供给部的多个喷嘴相对应的位置具有多个开口部。
装置

[外观设计]盖环-CN202130342454.8有效
发明人：梅津拓人;矢岛雅美;铃木邦彦 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2021-06-04 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： 15-99 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：盖环。2.本外观设计产品的用途：在半导体制造装置（热化学气相沉积装置）中使用，被安装在圆筒状的腔室的顶板开口部。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。5.右视图与左视图相同，省略右视图;后视图与主视图相同，省略后视图。6.使用状态参考图中数字1~3分别表示气体环、顶板和本物品。

[发明专利]气相生长装置-CN202080008842.5在审
发明人：醍醐佳明;矢岛雅美;铃木邦彦;石黑晓夫 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2020-01-23 - 公布日： 2021-08-20 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：实施方式的气相生长装置具备：反应室；设于反应室之上且被导入第一工艺气体的第一气体室；多个第一气体导管，从第一气体室向反应室供给所述第一工艺气体，具有规定的长度；以及第一调整导管，插入于多个第一气体导管中的至少一个第一气体导管的上侧，第一调整导管具有在上端部的外周设置的环状的凸部，能够从第一气体导管取下。
相生装置

[发明专利]气相生长装置-CN201980055815.0在审
发明人：醍醐佳明;矢岛雅美;铃木邦彦;石黑晓夫 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：实施方式的气相生长装置具备：反应室；第一气体室，设置于反应室之上，被导入第一工艺气体；以及多个第一气体流路，从第一气体室向反应室供给第一工艺气体，多个第一气体流路中的至少1个第一气体流路具有第一区域和位于第一区域与反应室之间的第二区域，第一区域具有与第一工艺气体的流动方向垂直的面中的第一开口截面积和上述方向的第一长度，第二区域具有与上述方向垂直的面中的第二开口截面积和上述方向的第二长度，第一开口截面积比第二开口截面积小，第一长度为第二长度以下。
相生装置

[发明专利]成膜装置-CN201711130148.7在审
发明人：铃木邦彦;池谷尚久;矢岛雅美;原一都;藤林裕明;松浦英树;铃木克己 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2017-11-15 - 公布日： 2018-05-25 - 主分类号： C30B25/16 文献下载
摘要：本发明的实施方式的成膜装置具备：成膜室，收容基板并进行成膜处理；气体供给部，设置在成膜室的上部，并向基板上供给气体；以及加热器，对基板进行加热；成膜室具有温度上升抑制区域，所述温度上升抑制区域位于气体供给部的下部，并且抑制供给到加热器上部的气体的温度上升。
成膜室加热器气体供给部成膜装置成膜处理供给气体收容基板对基板基板加热

1
共 7 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top