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[发明专利]立式基板湿制程装置-CN202010078719.2在审
发明人：丁鸿泰 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2020-02-03 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明提供一种立式基板湿制程装置，其中湿制程装置至少包含：蚀刻段、至少两组风刀单元以及一传送组件，蚀刻段具有一蚀刻槽体以供容置蚀刻药液，蚀刻槽体两相对侧面分别形成一入口及一出口，至少两组风刀单元分别设于入口与出口，可供产生一风墙以阻挡蚀刻槽的蚀刻药液从入口和出口流出，并利用传送组件以立式于蚀刻段移送至少一基板，可克服水池效应，从而提高蚀刻均匀性。
立式基板湿制程装置

[发明专利]导电膜的制造方法-CN201810502242.9有效
发明人：丁鸿泰;陈来成;龙显盛 -专利权人： 睿明科技股份有限公司;艾图雅科技股份有限公司
申请日： 2018-05-23 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H01B13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种导电膜的制造方法，包含：步骤(1)，于基材上涂布含有金属线的涂料；步骤(2)，扰动涂布于所述基材上的涂料，以减少金属线的有序化；以及步骤(3)，固化所述涂料，以形成导电膜。由此，本发明的导电膜的制造方法可使金属线杂乱地分布于导电膜中，可有效地减少所述导电膜层的纵向电阻与横向电阻之间的差异。本发明的导电膜的制造方法可应用于印刷式电路的导电膜的制作，例如：软性传感器、软性太阳能电池、软性照明、触控面板等装置上的导电膜的制作。
导电制造方法

[发明专利]薄型线路制作方法-CN201910923538.2在审
发明人：丁鸿泰;郭肯华 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： H05K3/18 文献下载
摘要：本发明中薄型线路制作方法主要于一导电基材的上、下表面分别设置一光阻层，于该上表面的光阻层进行图案化，以形成一图案化光阻层，该图案化光阻层具有多个上方窗口，该些上方窗口暴露部分该导电基材；再进行电镀步骤，于暴露该些上方窗口的部分该导电基材上形成一图案化金属层；接着，利用第一移除步骤，移除该下表面的该光阻层；最后，进行图案化步骤，于该下表面图案化该导电基材，以形成一图案化线路层，该图案化线路层具有多个下方窗口，该些下方窗口暴露至少部分该图案化金属层，以完成一线路结构，本发明的制作方法改良有蚀刻制程会产生侧蚀的缺失，亦可大为降低线路厚度达到薄型化。
线路制作方法

[发明专利]基板形成通孔的制作方法-CN201910707320.3在审
发明人：郭肯华;丁鸿泰 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2019-08-01 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本发明中基板形成通孔的制作方法具有下列步骤：提供一基板；于基板一表面形成一图案化阻挡层，以形成多个开口，复数开口暴露部分基板；干蚀刻步骤，以移除被复数开口所暴露的部分基板而形成复数通孔；以及去除图案化阻挡层，本发明以干蚀刻方式形成通孔，可同时间形成大量钻孔，不会因为通孔密度大小而影响量产效率。
形成制作方法

[发明专利]清洗基材表面的方法-CN201910423762.5在审
发明人：郭肯华;丁鸿泰;连伟佐 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2019-05-21 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明中清洗基材表面的方法主要提供奈米水以及一外力于该基材表面，将位于该基板表面的复数残留粒子移除；最后进行一干燥步骤去除残留于该基材表面的该奈米水，本发明主要利用奈米水来移除清洗经研磨或抛光处理后的一半导体晶圆、一玻璃或一光学镜片等基材，具有较佳的清洗效率，可有效地移除基材表面的残留粒子，也不会让基材上的表面处理或电子线路遭受损害。
清洗基材表面方法

[发明专利]微元件对位组装方法及其装置-CN201810595713.5在审
发明人：郭肯华;丁鸿泰 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2018-06-11 - 公布日： 2019-12-17 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明关于微元件对位组装方法及其装置。本发明的组装方法涉及先提供一载体，其具有相对的第一、第二表面，并具有复数贯穿第一、第二表面的穿槽。随后，于第一表面提供一流体，其具有分散于其中的复数微元件。再提供一作用力使流体由第一表面朝第二表面流动，而让微元件随流体的流动而掉入穿槽内，藉由本发明的组装方法可快速让大量微元件以自动化完成对位组装。
微元件第二表面组装第一表面流体穿槽对位复数流动自动化贯穿

[发明专利]微元件工艺及制作显示器面板的方法-CN201810483374.1在审
发明人：郭肯华;丁鸿泰 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2018-05-18 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本案关于微元件工艺及制作显示器面板的方法。本发明涉及先提供一基板。随后，切割基板形成多个微晶片。再配置多个微晶片于一载体上，其中多个微晶片以阵列方式排列于载体之上。最后，形成多个半导体结构于多个微晶片上，形成多个微元件，通过本发明的工艺可大幅提升移转良率，并且改善微元件的运作效率。
微晶片微元件阵列方式排列半导体结构显示器面板切割基板运作效率再配置基板良率移转制作

[发明专利]基板镀膜方法-CN201810245336.2在审
发明人：丁鸿泰;郭肯华 -专利权人： 睿明科技股份有限公司;鸿超光电科技股份有限公司
申请日： 2018-03-23 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： H05K3/02 文献下载
摘要：本发明披露一种基板镀膜方法，包含：以纳米水清洗基板的表面，接着干燥基板，使纳米水的羟基停留于基板的表面，以提升基板的表面能，以及于基板的表面形成镀膜层。
基板基板镀膜纳米水表面形成镀膜干燥基板清洗基板表面能羟基停留

[发明专利]微波干燥装置-CN201810149799.9在审
发明人：丁鸿泰;陈来成;龙显盛 -专利权人： 睿明科技股份有限公司;艾图雅科技股份有限公司
申请日： 2018-02-13 - 公布日： 2019-08-23 - 主分类号： F26B11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种微波干燥装置，包含：微波发射单元；微波照射单元，其与该微波发射单元连接，包括：导波管，其中，该导波管具有管壁且具有由该管壁所围绕的照射空间，且该导波管的管壁上具有两个狭缝；隔离单元，其设置于该微波发射单元及该微波照射单元之间；以及排气单元，其与该导波管连接。由此，本发明的微波干燥装置可有效地提升对于工作件的干燥效率，可应用于显示面板产业、触控面板产业及太阳能模块产业。
导波管微波发射单元微波干燥装置管壁微波照射单元太阳能模块触控面板干燥效率隔离单元排气单元显示面板工作件有效地狭缝照射应用

[实用新型]环保式清洗机台-CN201821668296.4有效
发明人：李国光;陈韦融;郭肯华;丁鸿泰 -专利权人：鸿超光电科技股份有限公司;睿明科技股份有限公司
申请日： 2018-10-15 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： B08B11/00 文献下载
摘要：本创作是一种环保式清洗机台用于清洗一基板，其包含一传输部、一第一清洗部、一第二清洗部与一烘干部。传输部通过一驱动件驱动一传输件，以移动基板。一第一清洗部能够将一第一清洗液输出至基板，让第一清洗液包覆位在基板的杂质。一第二清洗部能够将一第二清洗液输出至基板，用以清洗经第一清洗液包覆的杂质。一烘干部输出一风切至基板，以去除基板的杂质、第一清洗液与第二清洗液。
清洗液基板清洗清洗机台传输部输出移动基板包覆的传输件驱动件包覆去除环保驱动创作

[实用新型]基板传送设备-CN201820256964.6有效
发明人：丁鸿泰;杨一德 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2018-02-13 - 公布日： 2018-09-25 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本实用新型公开一种基板传送设备，用以传送基板，所述基板传送设备包含：壳体；多个支撑滚轮，多个支撑滚轮彼此平行地设置于壳体内；多个上压滚轮，设置于多个支撑滚轮之上，各上压滚轮包括轴心部与可压缩部，可压缩部围绕于轴心部；以及动力装置，用以驱动多个支撑滚轮及多个上压滚轮转动。本实用新型所提出的传送设备的上压滚轮包括可压缩部，被传输的基板与上压滚轮的接触处即为可压缩部，由于各上压滚轮的可压缩部可提供各上压滚轮与基板相对推动的缓冲，能有效避免(非平面)基板在传输过程中损伤或破裂。同时，基板仍与位于其下方的支撑滚轮及位于其上方的上压滚轮紧密接触，因此，在传输过程中仍可稳定地被传输。
上压滚轮可压缩部支撑滚轮基板传送设备基板本实用新型传输过程轴心部传输彼此平行传送基板传送设备动力装置基板相对非平面接触处地被缓冲壳体转动破裂损伤体内驱动

[实用新型]用于化学浴沉积的设备-CN201721065275.9有效
发明人：丁鸿泰;连伟佐;杨一德 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2017-08-24 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： C23C18/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于化学浴沉积的设备，包含：槽体；循环泵，其通过第一引流管与该槽体的上部连接；分配支流结构，其通过第二引流管与该循环泵连接，且连接至该槽体的底部，该分配支流结构包括：多个喇叭状分散器，其连接至该槽体的底部，该等喇叭状分散器的内径由上至下渐缩；多个开孔管帽，其设置于该等喇叭状分散器的内部，通过该第二引流管与该循环泵连接，且于侧边具有多个开孔；分散板，其设置于该槽体与该等喇叭状分散器之间，且具有多个孔洞。借此，本实用新型的用于化学浴沉积的设备可使化学液在槽体中均匀地上升。
槽体分散器喇叭状化学浴沉积循环泵引流管本实用新型支流孔洞分散板化学液开孔管侧边渐缩开孔分配

[实用新型]传输装置与应用其的挠性基材连续式化学水浴沉积整平传输机构-CN201720984554.9有效
发明人：丁鸿泰;连伟佐;郑征仲 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2017-08-08 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型公开一种传输装置与应用其的挠性基材连续式化学水浴沉积整平传输机构，传输装置包含：吸附单元，包括吸附板及吸附控制器；以及基材滚卷单元，设置于吸附单元的两侧；其中基材滚卷单元包括导轮组，导轮组具有至少两个导轮，导轮分别位于吸附单元两侧的上方，用以传输挠性基材。借此，本实用新型所提出的传输装置与应用其的挠性基材连续式化学水浴沉积整平传输机构可借由吸附单元提供吸力，使水平通过吸附单元上方的挠性基材在传输过程中能平整地被吸附于吸附单元上，进而使化学水浴的反应液可均匀地被喷洒于挠性基材上，借以提高沉积膜的均匀性并提高产品的合格率。
挠性基材吸附单元传输装置化学水传输机构连续式整平沉积基材滚卷单元本实用新型导轮组导轮地被吸附吸力应用传输过程水平通过控制器沉积膜均匀性吸附板喷洒平整合格率传输

[实用新型]挠性基材水平连续式双面制程处理机构-CN201721206618.9有效
发明人：丁鸿泰;连伟佐;庄镇吉 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2017-09-19 - 公布日： 2018-04-06 - 主分类号： H05K3/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种挠性基材水平连续式双面制程处理机构，包含送料装置，包括第一导轮组；双面处理装置；以及收料装置，包括第二导轮组；其中双面处理装置包括至少两个浮力管组；以及至少一个化学药液供液管组，且至少一个化学药液供液管组具有上供液管及下供液管。藉此，由于本实用新型的双面处理装置包括至少两个浮力管组，可通过浮力管组使水平通过双面处理装置的挠性基材在传输过程中能平稳地位于上浮力管与下浮力管之间，并同时对挠性基材的两个表面进行处理，能有效解决现有技术中欲对挠性基材的双面进行表面处理导致制程耗时的缺点，亦能避免挠性基材的表面被破坏，使产品的良率提高，并降低生产成本。
基材水平连续双面处理机构

[实用新型]挠性基板的蚀刻装置-CN201721089711.6有效
发明人：丁鸿泰;连伟佐;古凯奇 -专利权人： 睿明科技股份有限公司
申请日： 2017-08-29 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开一种挠性基板的蚀刻装置，包含槽体；第一导轮组，其包含多个设置于槽体内部的下方导轮；第二导轮组，其包含多个设置于下方导轮的上方的上方导轮，其中下方导轮与上方导轮在水平方向上间隔排列；水刀机构组，其包含多个在垂直方向上设置于下方导轮与上方导轮之间的水刀机构。藉此，本实用新型可解决蚀刻不均匀的现象及增加化学液的置换效率。
挠性基板蚀刻装置

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