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[发明专利]定向能量射束偏转场监测器和校正器-CN202280018896.9在审
发明人：雅切克·卡齐米日·泰敏斯基;麦可·比尔克·宾纳德 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2022-03-04 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01J37/304 文献下载
摘要：通过将图案化场的图像的像素坐标映射到图案化场空间坐标来补偿定向能量射束偏转。举例来说，通过对在光罩上限定的校准特征成像以产生像素与物理坐标之间的映射来补偿电子射束扫描。扫描电子射束以在图案化场中的多个扫描位置处产生阴极发光。通过所述像素坐标映射，使用所述阴极发光的图像确定补偿的扫描驱动值。可类似地补偿其它定向能量射束偏转。
定向能量偏转监测器校正

[发明专利]相移掩模、检测元件、散焦量检测方法、焦点调整方法以及器件的制造方法-CN202280014132.2在审
发明人：泷优介;矢岛海都;牛田正男;冨冈贞祐;原笃史;铃木一弘;樋口潔 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2022-04-22 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明涉及相移掩模(100、200)，其具有基材(10)、第1半透过层(20)和第2半透过层(20)、以及遮光层(30)，在上述基材的表面形成有测量标记，该测量标记具有下述区域沿着与上述表面平行的排列方向相邻地设置的图案：配置有第1半透过层的第1区域(A1)；上述基材表面露出的第2区域(B1)；配置有上述遮光层的第3区域(C)；配置有第2半透过层的第4区域(A2)；以及上述基材表面露出的第5区域(B2)。
相移检测元件散焦方法焦点调整以及器件制造

[发明专利]曝光装置、平板显示器的制造方法、以及元件制造方法-CN202110746539.1有效
发明人：青木保夫 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的移动体装置，具备可保持基板(P)往X轴及Y轴方向移动的基板保持具(32)、可往Y轴方向移动的Y粗动载台(24)、将基板保持具(32)的位置信息以设于基板保持具(32)的读头(74x、74y)与设于Y粗动载台(24)的标尺(72)加以取得的第1测量系统、将Y粗动载台(24)的位置信息以设于Y粗动载台(24)的读头(80x、80y)与标尺(78)加以取得的第2测量系统、以及根据以第1及第2测量系统取得的位置信息控制基板保持具(32)的位置的控制系统，第1测量系统一边使读头(74x、74y)相对标尺(72)往X轴方向移动一边照射测量光束，第2测量系统一边使读头(80x、80y)相对标尺(78)往Y轴方向移动一边照射测量光束。
曝光装置平板显示器制造方法以及元件

[发明专利]基板处理系统及基板处理方法-CN202010504124.9有效
发明人：柴崎祐一 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2016-02-23 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的光刻系统(1000)，具备：测量被保持在第1载台的基板上的多个标记的位置信息的测量装置(100)、将结束了标记的位置信息的测量的基板载置于第2载台上并进行测量该基板上的多个标记中所选择的部分标记的位置信息的对准测量及曝光的曝光装置(200)。测量装置系测量基板上多数个标记的位置信息以求出多个区划区域的排列的修正量的高次成分，曝光装置则测量该基板上少数个标记的位置信息以求出多个区划区域的排列的修正量的低次成分，并使用所求出的低次成分与使用测量装置求出的高次成分，一边控制基板的位置、一边使多个区划区域曝光。
处理系统方法

[发明专利]玻璃组合物以及玻璃组合物的制造方法-CN202180090113.3在审
发明人：吉本幸平;藤原圣树 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2021-11-17 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C03C3/12 文献下载
摘要：一种玻璃组合物，其中，主要含有成分以质量％计，为TeO2含有率：50～80％、Bi2O3含有率：0～30％、WO3含有率：0～30％、ZnO含有率：0～30％、BaO含有率：0～30％、GeO2含有率：0～30％、Ga2O3含有率：0～30％，其中，被导入以下的添加对象元素中的至少任意一种，所述添加对象元素为Si4+：1～1500mg/kg、B3+：1～1500mg/kg、P5+：1～1500mg/kg、Li+：1～1500mg/kg、Na+：1～1500mg/kg、K+：1～1500mg/kg、Mg2+：1～1500mg/kg、Ca2+：1～1500mg/kg、Al3+：1～1500mg/kg、以及Sr2+：1～1500mg/kg。
玻璃组合以及制造方法

[发明专利]图案形成方法、晶体管的制造方法和图案形成用部件-CN201880079273.6有效
发明人：川上雄介 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2018-12-11 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种图案形成方法，其是在对象物的被处理面上形成图案的图案形成方法，其包括下述工序：第1层形成工序，在上述被处理面上形成第1层，该第1层包含具有能够用酸分解、并且还能够用光分解的保护基团的化合物；第2层形成工序，在上述第1层上形成包含通过曝光而产生酸的光产酸剂的第2层；曝光工序，对上述第1层和上述第2层进行曝光，在上述第1层上形成由曝光区域和未曝光区域构成的潜像；以及配置工序，将图案形成材料配置在上述曝光区域或上述未曝光区域。
图案形成方法晶体管制造部件

[发明专利]图案曝光装置以及图案曝光方法-CN202180082822.7在审
发明人：鬼头义昭;加藤正纪 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2021-12-03 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G02B26/12 文献下载
摘要：具有在基板上描绘图案的描绘单元的图案曝光装置具有：第1光源装置，其射出第1光束；第2光源装置，其射出第2光束；光束合成部，其将来自第1光源装置的第1光束和来自第2光源装置的第2光束以分别入射到描绘单元的方式进行合成；光束形状变形部，其以使投射到基板上的第1光束所形成的第1点光的形状与第2光束所形成的第2点光的形状相互不同的方式使入射到光束合成部的第1光束与第2光束各自的截面形状相互不同；以及控制装置，其以利用第1点光和第2点光中的任意一方或双方对在基板上描绘的图案的至少边缘部进行描绘的方式进行控制。
图案曝光装置以及方法

[发明专利]光学玻璃、使用其的光学元件、接合透镜、光学系统、照相机用更换镜头及光学装置-CN202310518186.9在审
发明人：小出哲也 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2018-04-18 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C03C3/21 文献下载
摘要：本发明涉及光学玻璃、使用其的光学元件、接合透镜、光学系统、照相机用更换镜头及光学装置。一种光学玻璃，其中，以质量％计，P2O5成分超过30％且为60％以下，Al2O3成分超过2％且为10％以下，TiO2成分为10％以上且小于36％，Nb2O5成分为0％以上5％以下，Ta2O5成分为0％以上15％以下，Bi2O3成分为0％以上且小于5％，Sb2O3成分为0％以上1％以下。
光学玻璃使用光学元件接合透镜光学系统照相机更换镜头装置

[发明专利]氟化钙烧结体、氟化钙颗粒及烧结体的制造方法、光学元件及系统、替换镜头以及光学装置-CN202180079945.5在审
发明人：平山麻里子;石沢均;中村拓郎;江面嘉信;山本优也 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C01F11/22 文献下载
摘要：一种氟化钙烧结体，其每10mm厚度的波长550nm的光的内部透射率为98％以上。
氟化钙烧结颗粒制造方法光学元件系统替换镜头以及装置

[发明专利]图案曝光装置-CN202180073728.5在审
发明人：铃木智也;加藤正纪;木内徹;鬼头义昭;中山修一;林田洋祐 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：图案曝光装置，其具有：第1光分割器，其设置于第1光束的从第1光源装置到在基板上描绘图案的第1描绘单元之间的光路中，将第1光束的一部分分割为第1测量用光束；第2光分割器，其设置于第2光束的从第2光源装置到在基板上描绘图案的第2描绘单元之间的光路中，将第2光束的一部分分割为第2测量用光束；变动检测光学单元，其接受第1测量用光束和第2测量用光束，并检测第1光束与第2光束的相对的位置变动或者相对的倾斜变动；第1导光系统，其形成基于第1测量用光束的光路；以及第2导光系统，其形成基于第2测量用光束的光路。
图案曝光装置

[发明专利]光学玻璃、光学元件、光学系统、接合透镜、照相机用更换镜头、显微镜用物镜和光学装置-CN202080106796.2在审
发明人：小出哲也 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2020-11-12 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C03C3/068 文献下载
摘要：一种光学玻璃，其中，以质量％计，P2O5含量为20～55％，TiO2含量为10～40％，Nb2O5含量为0～30％，Al2O3含量为0～2％，B2O3含量为0～10％，BaO含量为0～30％，Bi2O3含量为0～30％，Ta2O5含量为0～20％，WO3含量为0～25％，TiO2的含量相对于P2O5、B2O3和Al2O3的总含量之比即TiO2/(P2O5+B2O3+Al2O3)为0.25～0.85，TiO2的含量相对于TiO2、Nb2O5、WO3、Bi2O3和Ta2O5的总含量之比即TiO2/(TiO2+Nb2O5+WO3+Bi2O3+Ta2O5)为0.25～1.00。
光学玻璃光学元件光学系统接合透镜照相机更换镜头显微镜物镜装置

[发明专利]测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法、曝光方法以及元件制造方法-CN202010107493.4有效
发明人：柴崎祐一 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2016-02-23 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法、曝光方法以及元件制造方法，该测量装置(100)具备可保持基板(W)与XY平面平行移动的滑件(10)、驱动滑件的驱动系统、可从读头部(32)对设置于滑件具有格子部(RG1)的测量面照设多条光束并接收该多条光束各个的来自测量面的返回光束以测量滑件的包含绝对位置坐标的至少3自由度方向的位置信息的位置测量系统(30)、检测基板上的标记的标记检测系统(MDS)以及一边控制滑件的驱动并一边使用标记检测系统分别检测基板上的多个标记一边根据各标记的检测结果与检测时的位置测量系统的测量信息求出各标记的绝对位置坐标的控制装置。
测量装置光刻系统曝光测量方法方法以及元件制造

[发明专利]测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法以及曝光方法-CN202010107659.2有效
发明人：柴崎祐一 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2016-02-23 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法以及曝光方法，该测量装置(100)具备可保持基板(W)与XY平面平行移动的滑件(10)、驱动滑件的驱动系统、可从读头部(32)对设置于滑件具有格子部(RG1)的测量面照设多条光束并接收该多条光束各个的来自测量面的返回光束以测量滑件的包含绝对位置坐标的至少3自由度方向的位置信息的位置测量系统(30)、检测基板上的标记的标记检测系统(MDS)以及一边控制滑件的驱动并一边使用标记检测系统分别检测基板上的多个标记一边根据各标记的检测结果与检测时的位置测量系统的测量信息求出各标记的绝对位置坐标的控制装置。
测量装置光刻系统曝光测量方法以及方法

[发明专利]测量装置、曝光装置、光刻系统、测量方法及曝光方法-CN202010107660.5有效
发明人：柴崎祐一 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2016-02-23 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种测量装置、曝光装置、光刻系统、测量方法及曝光方法，该测量装置(100)具备可保持基板(W)与XY平面平行移动的滑件(10)、驱动滑件的驱动系统、可从读头部(32)对设置于滑件具有格子部(RG1)的测量面照设多条光束并接收该多条光束各个的来自测量面的返回光束以测量滑件的包含绝对位置坐标的至少3自由度方向的位置信息的位置测量系统(30)、检测基板上的标记的标记检测系统(MDS)以及一边控制滑件的驱动并一边使用标记检测系统分别检测基板上的多个标记一边根据各标记的检测结果与检测时的位置测量系统的测量信息求出各标记的绝对位置坐标的控制装置。
测量装置曝光光刻系统测量方法方法

[发明专利]处理系统-CN201910510003.2有效
发明人：鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和 -专利权人： 株式会社尼康
申请日： 2015-09-03 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
处理系统

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