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[发明专利]图案曝光装置-CN202180073728.5在审
发明人：铃木智也;加藤正纪;木内徹;鬼头义昭;中山修一;林田洋祐 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：图案曝光装置，其具有：第1光分割器，其设置于第1光束的从第1光源装置到在基板上描绘图案的第1描绘单元之间的光路中，将第1光束的一部分分割为第1测量用光束；第2光分割器，其设置于第2光束的从第2光源装置到在基板上描绘图案的第2描绘单元之间的光路中，将第2光束的一部分分割为第2测量用光束；变动检测光学单元，其接受第1测量用光束和第2测量用光束，并检测第1光束与第2光束的相对的位置变动或者相对的倾斜变动；第1导光系统，其形成基于第1测量用光束的光路；以及第2导光系统，其形成基于第2测量用光束的光路。
图案曝光装置

[发明专利]基板处理装置-CN202210005576.1有效
发明人：鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和;木内徹 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2017-08-07 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
处理装置

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202210080392.1在审
发明人：鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和;木内徹 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2017-08-07 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： B65H26/04 文献下载
摘要：一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
处理装置方法

[发明专利]制造系统-CN201680056621.9有效
发明人：加藤正纪;鬼头义昭;奈良圭;堀正和;木内徹 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-09-28 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明的制造系统(10)，是一边将长条的可挠性片材基板(P)搬送于长边方向、一边通过多个处理装置(PR)连续的对该片材基板施以处理，其具备设置在该多个处理装置(PR)中的第1处理装置(PR2)与相邻的第2处理装置(PR3)之间的蓄积部(BF1)，以及于第1处理装置(PR2)中，暂时停止对该片材基板(P)的处理、或该片材基板(P)的搬送时，判定该蓄积部(BF1)的该片材基板(P)的蓄积状态是否满足以预想的该第1处理装置(PR2)的停止时间决定的所需蓄积状态的控制装置(14,18)。
制造系统

[发明专利]基板处理装置-CN202010235350.1有效
发明人：鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和;木内徹 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2017-08-07 - 公布日： 2022-04-01 - 主分类号： B65H23/188 文献下载
摘要：一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
处理装置

[发明专利]基板支承装置、曝光装置、及图案化装置-CN201780030933.7有效
发明人：加藤正纪;鬼头义昭;堀正和;木内徹;仓重贵广 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2017-04-17 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： G03F7/24 文献下载
摘要：本发明是将具有可挠性的长条片状基板(P)的一部分沿圆筒状的外周面的圆周方向卷绕而加以支承的转筒(DR)，包括：圆筒体(50)，其具有距中心轴(AXo)为固定半径的圆筒状外周面；光电感测器(PDi)，其输出与朝向圆筒体(50)的外周面投射并射入至形成于圆筒体(50)的外周面的一部分的开口部(50n)的光束(LBn)的强度对应的信号；及感测器电路基板(60)，其输入来自光电感测器(PDi)的信号，以进行用以测量光束(LBn)的强度变化或光束位置的信号处理。
支承装置曝光图案化装

[发明专利]光束扫描装置及图案描绘装置-CN201780022102.5有效
发明人：铃木智也;加藤正纪;木内徹 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2017-03-28 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： G02B26/12 文献下载
摘要：本发明的将通过反射面的角度会变化的多面镜(PM)而偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的扫描单元(Un)具备：再反射光学系统(CY2、M10)，其反射最初于多面镜(PM)反射的第1反射光束(LBn)而产生朝向多面镜(PM)的第2反射光束(LBn)，并且于与多面镜(PM)的偏向方向交叉的非偏向方向上使第2反射光束(LBn)收敛；及扫描用光学系统(FT、CY3)，其入射第2反射光束(LBn)于多面镜(PM)再次反射所得的第3反射光束(LBn)并朝向基板(P)射出。
光束扫描装置图案描绘

[发明专利]基板处理装置-CN201780048591.1有效
发明人：鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和;木内徹 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2017-08-07 - 公布日： 2020-08-21 - 主分类号： B65H26/00 文献下载
摘要：一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
处理装置

[发明专利]基板处理方法以及元件制造装置-CN201811346147.0在审
发明人：铃木智也;宫地章;木内徹;加藤正纪;鬼头义昭 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-11-30 - 公布日： 2019-02-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明将基板P沿长边方向搬送并于基板P上曝光电子元件用图案的曝光装置EX；且具备：对准显微镜ALG，其检测形成于基板P上的多个标记的标记位置信息；第1图案曝光部EXH1，其为于基板P上的曝光区域曝光图案，而将与图案的设计信息对应的能量射线根据标记位置信息进行位置调整后进行投射；及控制装置14，其为制作与应曝光于元件形成区域内的图案对应的遮罩图案，而输出与投射至曝光区域的能量射线的位置调整相关的调整信息及标记位置信息中的至少一者。又，曝光装置具备：具有支承面的基板支承构件，该支承面使基板于上述搬送方向弯曲而对其进行支承；及多个曝光部，其沿搬送方向配置，构成为以互不相同的曝光方式将上述图案曝光于上述基板。
基板标记位置信息图案能量射线曝光区域曝光装置图案曝光位置调整投射支承基板支承构件元件形成区域调整信息方向配置基板处理控制装置曝光方式曝光图案设计信息元件制造曝光曝光部支承面长边遮罩显微镜对准输出检测制作

[发明专利]曝光装置、曝光系统、基板处理方法、以及元件制造装置-CN201680065114.1在审
发明人：铃木智也;宫地章;木内徹;加藤正纪;鬼头义昭 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-11-30 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明将基板P沿长边方向搬送并于基板P上曝光电子元件用图案的曝光装置EX；且具备：对准显微镜ALG，其检测形成于基板P上的多个标记的标记位置信息；第1图案曝光部EXH1，其为于基板P上的曝光区域曝光图案，而将与图案的设计信息对应的能量射线根据标记位置信息进行位置调整后进行投射；及控制装置14，其为制作与应曝光于元件形成区域内的图案对应的遮罩图案，而输出与投射至曝光区域的能量射线的位置调整相关的调整信息及标记位置信息中的至少一者。又，曝光装置具备：具有支承面的基板支承构件，该支承面使基板于上述搬送方向弯曲而对其进行支承；及多个曝光部，其沿搬送方向配置，构成为以互不相同的曝光方式将上述图案曝光于上述基板。
基板标记位置信息曝光装置图案能量射线曝光区域图案曝光位置调整投射支承基板支承构件元件形成区域调整信息方向配置基板处理控制装置曝光方式曝光图案曝光系统设计信息元件制造曝光曝光部支承面长边遮罩显微镜对准输出检测制作

[发明专利]基板盒及基板收容装置-CN201080060044.3有效
发明人：水谷英夫;木内徹;川口透;增川孝志 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-12-28 - 公布日： 2014-12-31 - 主分类号： B65H75/14 文献下载
摘要：基板盒，包括：轴部，卷绕有片状基板，该片状基板具有经电路生成处理后的电路区域；以及罩部，用以收容卷绕于该轴部的状态的基板；轴部，具有保持基板的开始卷绕的一端部中与电路区域不同的区域的保持部。
基板盒收容装置

[发明专利]曝光装置及曝光方法以及设备制造方法-CN200680032751.5有效
发明人： 木内徹;水谷刚之;根井正洋;滨谷正人;奥村正彦 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-09-08 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供曝光装置。曝光装置(EX)具备浸液系统(1)、第一移动体(4)、和给定构件(30)。曝光装置(EX)经由光学构件(FL)和液体(LQ)将基板(P)曝光。浸液系统(1)进行上述液体(LQ)的供给和回收。第一移动体(4)在第一区域(10)中移动，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。给定构件(30)在上述第一移动体(4)离开上述光学构件(FL)的对置位置后被从上述第一移动体(4)上取下，可在其与上述光学构件(FL)之间保持上述液体(LQ)。
曝光装置方法以及设备制造

[发明专利]曝光装置-CN02108207.3无效
发明人：白数广;木内徹 -专利权人：尼康株式会社
申请日： 2002-03-27 - 公布日： 2002-11-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置可高精确度地维持光罩与感光基板之间的平行度,并将光罩上的图案正确地投影曝光于感光基板上。由照明光学投影系统(30)照明光罩(10)上所形成的图案再经由投影光学系统(40)投影于感光基板(20)上且光罩(10)与感光基板(20)相对于投影光学系统(40)朝所定的扫描方向进行同步扫描而使图案曝光于感光基板(20)上的曝光装置(1)具有位于光罩(10)上方且可由负压将前述光罩朝上方吸引的吸引装置(50)。吸引装置(50)配置于照明光学系统(30)的附近,且具有与光罩对向的多个吸引垫(51A～51E)。
曝光装置

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