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- [发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN202110922904.X有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2017-05-15
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置(EX)具备：位置计测部(MU)，其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置；第1调整构件(HVP)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少，而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整；及第2调整构件(AOM1)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少，而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。
- 图案描绘装置方法
- [发明专利]图案形成装置-CN202180036026.X在审
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中山修一;中野贵之;堀正和
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株式会社尼康
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2021-05-18
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2023-01-31
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G03F9/00
- 图案形成装置具备在基板上形成图案的图案形成机构和对形成在基板上的标记进行检测的标记检测机构。标记检测机构具有：物镜光学系统，其向设定在基板上的检测区域内投射照明光，并且照明光的反射光入射到该物镜光学系统；像检测系统，其对由反射光生成的检测区域内的像进行检测；以及光分割器，其配置在物镜光学系统和像检测系统之间的光路中。图案形成装置具备：照明系统，其朝向光分割器投射照明光，在物镜光学系统的光瞳面上形成照明光的光源像；以及调整机构，其使形成在物镜光学系统的光瞳面内的光源像的位置发生变化。
- 图案形成装置
- [发明专利]描绘装置-CN201910171295.1有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2017-04-25
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2022-06-10
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G02B26/08
- 作为于基板(P)上一维地扫描光束(LBn)的光束扫描装置的扫描单元(Un)，具备于一方向具有聚焦力的第1柱面透镜(CY1)、使透过第1柱面透镜(CY1)的光束(LBn)偏向以便进行一维扫描的多面镜(PM)、将以远心的状态偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透镜系统(FT)、及入射透过fθ透镜系统(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透镜(CY2)，第1柱面透镜(CY1)与第2柱面透镜(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力，该扫描单元(Un)进而具备设置于第1柱面透镜(CY1)与多面镜(PM)之间的透镜系统(G10)。
- 描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置及基板处理装置-CN201910086630.8有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2016-09-27
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2022-06-03
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G02B26/12
- 本发明是一种图案描绘装置(EX)，其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变，一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上形成图案者，且具备：扫描装置(14)，其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描，而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un)，以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置；及电光偏向装置(BDU)，其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者，而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态，并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位，而可调整射束(LB)的偏向角。
- 图案描绘装置处理
- [发明专利]图案描绘装置-CN201880069602.9有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2018-10-22
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2022-03-18
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G02B26/10
- 本发明提供一种图案描绘装置，其具备：第1圆柱透镜CYa，其供来自光源装置的光束LB入射，且具有使朝向多面镜PM的反射面RPa的光束LB于与主扫描方向正交的副扫描方向上收敛的各向异性的折射率；fθ透镜系统FT，其用以供借由多面镜PM的反射面RPa偏向的光束LB入射，且将该光束LB于被照射体的表面Po上聚光为点光SP；及第2圆柱透镜CYb，其具有使自fθ透镜系统FT射出并朝向表面Po的光束LB于副扫描方向上收敛的各向异性的折射率。以于fθ透镜系统FT的视野内通过光束扫描范围的周边像高的位置而入射至第2圆柱透镜CYb前产生的光束LB的弧矢彗星像差引起的弯曲量成为艾瑞斑半径以下的方式，设定上述第2光学系统的焦距。
- 图案描绘装置
- [发明专利]描绘装置-CN201910171306.6有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2017-04-25
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2021-09-10
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G02B26/08
- 作为于基板(P)上一维地扫描光束(LBn)的光束扫描装置的扫描单元(Un)，具备于一方向具有聚焦力的第1柱面透镜(CY1)、使透过第1柱面透镜(CY1)的光束(LBn)偏向以便进行一维扫描的多面镜(PM)、将以远心的状态偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透镜系统(FT)、及入射透过fθ透镜系统(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透镜(CY2)，第1柱面透镜(CY1)与第2柱面透镜(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力，该扫描单元(Un)进而具备设置于第1柱面透镜(CY1)与多面镜(PM)之间的透镜系统(G10)。
- 描绘装置
- [发明专利]光束扫描装置-CN201780027995.2有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2017-04-25
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2021-08-27
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G03F7/20
- 作为于基板(P)上一维地扫描光束(LBn)的光束扫描装置的扫描单元(Un)，具备于一方向具有聚焦力的第1柱面透镜(CY1)、使透过第1柱面透镜(CY1)的光束(LBn)偏向以便进行一维扫描的多面镜(PM)、将以远心的状态偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透镜系统(FT)、及入射透过fθ透镜系统(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透镜(CY2)，第1柱面透镜(CY1)与第2柱面透镜(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力，该扫描单元(Un)进而具备设置于第1柱面透镜(CY1)与多面镜(PM)之间的透镜系统(G10)。
- 光束扫描装置
- [发明专利]图案描绘装置及基板处理装置-CN201811044160.0有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2016-09-27
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2021-08-06
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G03G15/04
- 本发明是一种图案描绘装置(EX)，其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变，一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上形成图案者，且具备：扫描装置(14)，其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描，而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un)，以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置；及电光偏向装置(BDU)，其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者，而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态，并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位，而可调整射束(LB)的偏向角。
- 图案描绘装置处理
- [发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN201780061213.7有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2017-05-15
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2021-08-06
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置(EX)具备：位置计测部(MU)，其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置；第1调整构件(HVP)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少，而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整；及第2调整构件(AOM1)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少，而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。
- 图案描绘装置方法
- [发明专利]图案描绘装置及基板处理装置-CN201910086058.5有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2016-09-27
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2021-07-30
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G02B26/12
- 本发明是一种图案描绘装置(EX)，其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变，一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上形成图案者，且具备：扫描装置(14)，其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描，而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un)，以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置；及电光偏向装置(BDU)，其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者，而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态，并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位，而可调整射束(LB)的偏向角。
- 图案描绘装置处理
- [发明专利]图案描绘装置-CN201780061760.5有效
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鬼头义昭;加藤正纪;中山修一;铃木智也
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株式会社尼康
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2017-09-14
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2021-07-23
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G03F7/20
- 本发明提供一种图案描绘装置(EX)，其包括：光束切换部，具有多个选择用光学构件(OSn)，为了使光源装置(LS)射出的光束选择性地供给至多个描绘单元(Un)的其中之一，所述光学构件被设置成能依照顺序的引导光源装置(LS)射出的光束通过，且藉由电气控制使光束射向描绘单元(Un)；以及控制部(250)，在调整自多个描绘单元(Un)中特定的描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度时，在对应于特定的描绘单元(Un)的光束强度调整部的可调整范围内调整投射向基板(P)的光束的强度，并以使自特定的描绘单元(Un)以外的其他各个描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度，与自特定的描绘单元(Un)投射向基板(P)的光束的强度一致的方式，控制对应于其他各个描绘单元(Un)的前述光束强度调整部。
- 图案描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN201880058830.6在审
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加藤正纪;中山修一;鬼头义昭;铃木智也;堀正和;林田洋祐
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株式会社尼康
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2018-09-11
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2020-04-24
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G03F7/20
- 本发明提供了一种图案描绘装置(EX)，具备将描绘光束(LBn)的点光(SP)于主扫描方向扫描以描绘图案的描绘单元(Un)、以及用以使基板(P)与描绘单元(Un)往副扫描方向相对移动的移动机构。图案描绘装置(EX)使用选择用光学元件(OSn)，将来自光源装置(LS)的光束(LB)，在因电气信号造成的光学特性变化而以既定偏向角度偏向以作为描绘光束(LBn)射入描绘单元(Un)的第1状态、与不射入描绘单元(Un)的第2状态之间择一切换，为了在第1状态时，使从描绘单元(Un)投射的点光(SP)往副扫描方向位移既定量，控制电气信号以使因选择用光学元件(OSn)产生的偏向角度变化，并将伴随因选择用光学元件(OSn)产生的偏向角度变化而产生的点光(SP)强度变化，根据选择用光学元件(OSn)的光学特性加以修正。
- 图案描绘装置
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