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[发明专利]图案曝光装置-CN202180073728.5在审
发明人：铃木智也;加藤正纪;木内徹;鬼头义昭;中山修一;林田洋祐 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2021-11-02 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：图案曝光装置，其具有：第1光分割器，其设置于第1光束的从第1光源装置到在基板上描绘图案的第1描绘单元之间的光路中，将第1光束的一部分分割为第1测量用光束；第2光分割器，其设置于第2光束的从第2光源装置到在基板上描绘图案的第2描绘单元之间的光路中，将第2光束的一部分分割为第2测量用光束；变动检测光学单元，其接受第1测量用光束和第2测量用光束，并检测第1光束与第2光束的相对的位置变动或者相对的倾斜变动；第1导光系统，其形成基于第1测量用光束的光路；以及第2导光系统，其形成基于第2测量用光束的光路。
图案曝光装置

[发明专利]图案描绘装置、图案描绘方法、以及元件制造方法-CN201910096369.X有效
发明人：鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;加藤正纪 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2017-03-28 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： G02B26/12 文献下载
摘要：一种曝光装置(EX)，其一面根据图案信息对来自光源装置(LS)的光束(LBn)进行强度调变，一面将光束(LBn)投射至基板(P)上并沿主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上描绘图案，且具备：扫描单元(Un)，其具有光束扫描部，该光束扫描部包含为了实现光束(LBn)的扫描而使光束(LBn)偏向的多面镜(PM)，该光检测器(DTn)对光束(LBn)被投射至基板(P)时产生的反射光进行光电检测；电光学器件(36)，其以于形成于基板(P)上的第1图案(PT1)的至少一部分，重迭地描绘应重新描绘的第2图案(PT2)的至少一部分的方式，根据图案信息而控制光束(LBn)的强度调变；及测量部(116)，其于在基板(P)上描绘第2图案(PT2)的期间，根据自光检测器(DTn)输出的检测信号(PSn)而测量第1图案(PT1)与第2图案(PT2)的相对的位置关系。
图案描绘装置方法以及元件制造

[发明专利]光束扫描装置-CN201780061776.6有效
发明人：加藤正纪;鬼头义昭;林田洋祐 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2017-09-04 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： G02B26/12 文献下载
摘要：曝光装置(EX)，是将加工用光束(LBn)投射至绕旋转轴(AXp)旋转的多面镜(PM)的多个反射面(RP)的各个，并使被多个反射面(RP)的各个反射的加工用光束(LBn)通过fθ透镜系统(FT)于基板(P)上进行扫描。该曝光装置(EX)具备：原点感测器，是在每当多面镜(PM)的多个反射面(RP)的各个成为既定的规定角度时便产生原点信号(SZn)；及修正部，其产生经修正值修正的修正原点信号(SZn')，该修正值是相应于对应多个反射面(RP)的各个而产生的原点信号(SZn)的时间上间隔的偏差量的修正值。
光束扫描装置

[发明专利]图案描绘装置-CN201911069205.4有效
发明人：铃木智也;奈良圭;加藤正纪;渡辺智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;小宫山弘树 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-02-26 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
图案描绘装置

[发明专利]图案描绘装置-CN201780022186.2有效
发明人：鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;加藤正纪 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2017-03-28 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光装置(EX)，其一面根据图案信息对来自光源装置(LS)的光束(LBn)进行强度调变，一面将光束(LBn)投射至基板(P)上并沿主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上描绘图案，且具备：扫描单元(Un)，其具有光束扫描部，该光束扫描部包含为了实现光束(LBn)的扫描而使光束(LBn)偏向的多面镜(PM)，该光检测器(DTn)对光束(LBn)被投射至基板(P)时产生的反射光进行光电检测；电光学器件(36)，其以于形成于基板(P)上的第1图案(PT1)的至少一部分，重迭地描绘应重新描绘的第2图案(PT2)的至少一部分的方式，根据图案信息而控制光束(LBn)的强度调变；及测量部(116)，其于在基板(P)上描绘第2图案(PT2)的期间，根据自光检测器(DTn)输出的检测信号(PSn)而测量第1图案(PT1)与第2图案(PT2)的相对的位置关系。
图案描绘装置

[发明专利]基板处理装置及元件制造方法-CN201810732338.4有效
发明人：铃木智也;奈良圭;加藤正纪;渡辺智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;小宫山弘树 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-02-26 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
处理装置元件制造方法

[发明专利]扫描曝光装置-CN201810312226.3有效
发明人：加藤正纪;铃木智也;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-03-24 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种扫描曝光装置，其使在从中心线以规定的半径弯曲成圆筒状的外周面上形成有电子设备用的图案的圆筒光罩绕中心线旋转，使被支承为圆筒状或平面状的基板以对应于圆筒光罩的旋转速度的速度移动，由此将圆筒光罩的图案曝光至基板，其具有在曝光装置主体可旋转地支承向圆筒光罩的中心线延伸的方向上的两侧突出的转轴、并且在改变圆筒光罩的中心线与基板的距离的Z方向上能够相对于曝光装置主体移动圆筒光罩的支承机构，支承机构包括：可旋转地支承转轴的可动体；以改变可动体相对于曝光装置主体在Z方向上的位置的方式在Z方向上驱动可动体的驱动源；及用于利用曝光装置主体支承圆筒光罩的自重的大部分来减轻驱动源的负荷的弹性支承构件。
扫描曝光装置

[发明专利]基板处理装置-CN201810608818.X有效
发明人：铃木智也;小宫山弘树;加藤正纪;渡边智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
处理装置

[发明专利]扫描曝光方法以及电子器件的制造方法-CN201711078129.4有效
发明人：加藤正纪;铃木智也;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-03-24 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： G03F7/24 文献下载
摘要：本发明提供一种扫描曝光方法，将形成于以规定曲率半径弯曲成圆筒状的光罩的一面的图案投影至被支承为圆筒状或者平面状的柔性基板的表面，使光罩沿着弯曲的一面以规定速度移动的同时使基板沿着被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面以规定速度移动，将图案的投影像扫描曝光至基板上，在将以最佳聚焦状态形成有由投影光学系统投影的图案的投影像的投影像面的曲率半径设为Rm，将被支承为圆筒状或者平面状的基板的表面的曲率半径设为Rp，将通过光罩的移动而沿着投影像面移动的图案的投影像的移动速度设为Vm，将沿着基板的表面的规定的速度设为Vp时，在Rm＜Rp的情况下设定为Vm＞Vp，在Rm＞Rp的情况下设定为Vm＜Vp。
扫描曝光方法以及电子器件制造

[发明专利]图案描绘装置-CN201880058830.6在审
发明人：加藤正纪;中山修一;鬼头义昭;铃木智也;堀正和;林田洋祐 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种图案描绘装置(EX)，具备将描绘光束(LBn)的点光(SP)于主扫描方向扫描以描绘图案的描绘单元(Un)、以及用以使基板(P)与描绘单元(Un)往副扫描方向相对移动的移动机构。图案描绘装置(EX)使用选择用光学元件(OSn)，将来自光源装置(LS)的光束(LB)，在因电气信号造成的光学特性变化而以既定偏向角度偏向以作为描绘光束(LBn)射入描绘单元(Un)的第1状态、与不射入描绘单元(Un)的第2状态之间择一切换，为了在第1状态时，使从描绘单元(Un)投射的点光(SP)往副扫描方向位移既定量，控制电气信号以使因选择用光学元件(OSn)产生的偏向角度变化，并将伴随因选择用光学元件(OSn)产生的偏向角度变化而产生的点光(SP)强度变化，根据选择用光学元件(OSn)的光学特性加以修正。
图案描绘装置

[发明专利]基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法-CN201680006570.9有效
发明人：铃木智也;奈良圭;加藤正纪;渡辺智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;小宫山弘树 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2016-02-26 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
处理装置元件制造系统方法

[发明专利]器件制造系统及图案形成装置-CN201710545966.7有效
发明人：铃木智也;小宫山弘树;加藤正纪;渡边智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及器件制造系统及图案形成装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
器件制造系统图案形成装置

[发明专利]曝光装置、利用该曝光装置的器件制造系统和器件制造方法以及图案曝光方法-CN201611264164.0有效
发明人：加藤正纪;铃木智也;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-03-24 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： G03F7/24 文献下载
摘要：具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
曝光装置利用器件制造系统方法以及图案

[发明专利]基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置-CN201480049332.7有效
发明人：铃木智也;小宫山弘树;加藤正纪;渡边智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
曝光单元基板处理装置设置面减振器件制造系统图案形成装置位置调整单元处理单元独立状态曝光处理器件制造驱动单元非接触基板曝光

[发明专利]基板处理装置以及器件制造方法-CN201480034715.7有效
发明人：加藤正纪;铃木智也;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-03-24 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： G03F7/24 文献下载
摘要：具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
支承构件基板光罩扫描曝光方向移动移动机构投影像支承曲率基板处理装置投影光学系统支承构件移动图案器件制造曲率弯曲投影光束投影区域圆筒面状曝光面上移动主光线平行垂直

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