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[发明专利]分选方法、分选装置、计算机可读存储介质及电子设备-CN202011240480.0有效
发明人：杨浩;杨富可;张嘉修 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-11-09 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： B07C5/34 文献下载
摘要：本申请涉及一种分选方法、分选装置、计算机可读存储介质及电子设备。本申请的分选方法，用于同时对多个芯片进行筛分，所述芯片包括相背设置的第一表面和第二表面，所述方法包括：获取每个所述芯片的所述第一表面的第一检测数据及所述第二表面的第二检测数据；根据所述第一检测数据及第二检测数据对所述多个芯片进行分类，并筛除具有缺陷的所述芯片。本申请的分选方法可以更好的避免检测过程中芯片的浪费，且分选准确性更高。
分选方法装置计算机可读存储介质电子设备

[发明专利]晶圆测试方法和装置、计算机存储介质及计算机设备-CN202010790708.7有效
发明人： 杨富可;杨浩;张嘉修 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-08-07 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶圆测试方法及装置、计算机存储介质及计算机设备。该测试方法包括：确定待测试的晶圆；采用标准点测机从晶圆中抽测目标数量的晶粒，得到第一测试数据；通过工作点测机对晶圆中的每颗晶粒进行测试，得到第二测试数据；基于第一测试数据和第二测试数据，确定晶圆测试过程是否出现异常，从而及时发现晶圆测试过程中是否出现异常，以确保测试站的良率的技术效果。
测试方法装置计算机存储介质设备

[发明专利]一种外延层刻蚀方法及LED芯片-CN202110910423.7在审
发明人： 杨富可 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2021-08-09 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种外延层刻蚀方法及LED芯片，在该外延层刻蚀方法中，对外延层的刻蚀会分初刻蚀与再刻蚀至少两个阶段进行，且初刻蚀所对应的初始倾斜侧面与再刻蚀对应的次生倾斜侧面的斜率不同，这样刻蚀得到的外延层侧壁可以提供至少两种倾斜角度不同的出光临界面，降低了外延层内部光线因全反射而无法射出的概率，提升了基于该外延层所制得的LED芯片的外量子效率。
一种外延刻蚀方法 led 芯片

[实用新型]一种用于涂布设备的光刻胶回收系统以及涂布设备-CN202022891455.0有效
发明人：向雪燕;杨富可;杨浩;王山平;张嘉修 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-12-04 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于涂布设备的光刻胶回收系统以及涂布设备，所述涂布设备包括出液管道，所述出液管道用于导出光刻过程产生的多余的光刻胶；其中，所述光刻胶回收系统包括供气结构和回收结构，所述供气结构向所述出液管道送气，用于挤出所述出液管道内残留的光刻胶；所述回收结构与所述出液管道连接，回收所述出液管道内排出的光刻胶。本申请的涂布设备在更换光刻胶时通过供气结构输气，挤出液管道内的光刻胶，并收集到回收结构中，方便下次使用，减少光刻胶的浪费，节约成本。
一种用于布设光刻回收系统以及

[实用新型]一种湿法蚀刻机台清洗装置-CN202022273776.4有效
发明人：兰升友;李瑶;熊超超;肖清凯;杨富可 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-10-13 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种湿法蚀刻机台清洗装置。包括：储液箱，存储清洗液；至少包括顺次设置于储液箱一侧的第二冲洗单元、第一冲洗单元，第一、第二冲洗单元分别对待清洗物进行第一次冲洗、第二次冲洗；储液箱通过第一输液管与第一、第二冲洗单元连通向第一、第二冲洗单元输送清洗液；第一冲洗单元包括第一积液箱，积存经第一冲洗单元清洗后的清洗液，第一积液箱底部设有排流管；第二冲洗单元包括第二积液箱，第二积液箱通过第二输液管与第一冲洗单元连通，第二输液管上设置有过滤装置，过滤第二积液箱内排出的清洗液。通过设置的积液箱和过滤装置将清洗液进行过滤后重复利用，减少了清洗液的用量，降低了厂务处理废水的费用。
一种湿法蚀刻机台清洗装置

[实用新型]一种自动光学检测系统-CN202022524481.X有效
发明人：杨浩;杨富可;张嘉修 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本申请公开了一种自动光学检测系统，包括第一图像获取设备、透明支撑膜和第二图像获取设备；第一图像获取设备和第二图像获取设备分别设置于透明支撑膜相对的两侧，第一图像获取设备的镜头和第二图像获取设备的镜头分别朝向透明支撑膜。本申请中，通过在透明支撑膜的上方和下方分别设置图像获取设备，当待测芯片放置于透明支撑膜上之后，第一图像获取设备和第二图像获取设备可以分别获取芯片背面的图像和正面的图像，根据背面的图像可以完成外观检测，根据正面的图像可以完成光电性能检测。由此，实现了一个工序采集芯片两面的图像，进而可以达到一次性检测芯片两面的目的，减少了生产工序，加快了生产节拍，节约了生产资源。
一种自动光学检测系统

[实用新型]测试机-CN202022932401.4有效
发明人：杨浩;王山平;向雪燕;杨富可;张嘉修 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-12-08 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： G01R31/26 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种测试机。测试机包括：测试机构，测试机构具有测试区，待测晶片放置在测试区处；测距装置，测距装置位于测试机构的一侧，测距装置用于测量测距装置与待测晶片之间的距离；收光结构，收光结构位于测试机构的一侧，收光结构用于收集待测晶片发出的光；距离调整装置，测试机构或收光结构设置在距离调整装置上，距离调整装置根据测距装置测量的距离调整测试机构与收光结构之间的距离，以使得待测晶片与收光结构之间的距离始终相同。本实用新型解决了现有技术中测试机存在测试误差大的问题。
测试

[实用新型]晶圆预载装置及自动光学检测仪-CN202021675531.8有效
发明人：杨浩;杨富可;张嘉修 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-08-11 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： G01N21/94 文献下载
摘要：本申请提供一种晶圆预载装置及自动光学检测仪，用于将晶圆按预设状态送入自动光学检测仪的检测装置中进行检测。晶圆预载装置包括用于承载并固定需要预载的晶圆的旋转载台、用于将所述晶圆置入或移出所述旋转载台的转运单元、用于识别晶圆的身份标识的标识单元、用于识别所述晶圆的放置角度并控制所述旋转载台转正所述晶圆的调整单元、以及用于向承载于所述旋转载台上的所述晶圆的第一外表面喷射惰性气体以清除杂质的清洁单元。其中所述旋转载台还用于在所述清洁单元工作时带动所述晶圆相对于所述清洁单元旋转。本申请晶圆预载装置利用所述晶圆检测前需要旋转角度以规正的特点，在其承载于所述旋转载台上时对其进行清洁，可以获得更好的清洁效果，且改造成本较低。
晶圆预载装置自动光学检测

[实用新型]可除静电的晶圆储存装置-CN202022165254.2有效
发明人： 杨富可;杨浩;兰升友;易熊军;向雪燕 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-09-27 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： H05F1/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种可除静电的晶圆储存装置。可除静电的晶圆储存装置包括箱体和负离子气体供应单元，箱体具有进气口，负离子气体供应单元与进气口可拆卸地连接，以向箱体内通入负离子气体，箱体包括多个叠置的晶圆储存腔，用以储存晶圆，多个晶圆储存腔均与进气口连通。本实用新型解决了现有技术中无法有效去除晶圆表面的静电的问题。
静电储存装置

[实用新型]蚀刻机台装置-CN202022136615.0有效
发明人：兰升友;柘涛;易熊军;杨富可;黄韬 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-09-25 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种蚀刻机台装置。蚀刻机台装置包括：机体，机体具有沿晶圆的移动方向依次设置的第一蚀刻槽、第二蚀刻槽和水槽；快门，快门为多个，第一蚀刻槽和第二蚀刻槽之间的槽壁上、第二蚀刻槽和水槽之间的槽壁上分别开设有槽壁开口，各槽壁开口处分别对应设置有一个能够平移滑动的快门，以遮挡或避让槽壁开口，以使晶圆能够穿过槽壁开口在第一蚀刻槽、第二蚀刻槽和水槽之间移动。本实用新型解决了现有技术中蚀刻机台的元器件易腐蚀以及各工作区间之间互相影响的问题。
蚀刻机台装置

[实用新型]晶圆存储装置-CN202021527368.0有效
发明人： 杨富可;杨浩;兰升友;张嘉修 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-07-28 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种晶圆存储装置。该装置包括箱体、门体及惰性气体供应单元：箱体具有腔体，且箱体设置有惰性气体进口和开口，开口用于使晶圆进出；门体设置在箱体的开口处，门体用于控制开口的开闭；惰性气体供应单元与惰性气体进口相连通，且惰性气体供应单元用于向箱体内吹扫惰性气体。本实用新型提供的晶圆存储装置，通过设置可开闭的门体，能够在晶圆装入箱体后起到隔离外界空气的作用。通过设置惰性气体供应单元，能够在晶圆装入箱体、门体关闭后对晶圆表面进行惰性气体吹扫，以吹掉晶圆表面的灰尘等脏污，进一步提高晶圆表面的洁净度。因此，采用本实用新型的晶圆存储装置能够有效减少晶圆与外界空气的接触时长，降低晶圆被污染的可能。
存储装置

[实用新型]清洗及除静电装置-CN202021603140.5有效
发明人：兰升友;张涛;张彬彬;杨富可 -专利权人：重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请日： 2020-08-05 - 公布日： 2021-02-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种清洗及除静电装置，包括：第一壳体，包括第一容置空间；传送组件，容置于所述第一容置空间，且所述传送组件具有倾斜于水平面的传送面，所述传送面用于承载基板；以及喷淋组件，容置于所述第一容置空间，且位于所述传送组件上方，所述喷淋组件用于朝向所述传送面喷射清洗液。由于传送面相对水平面倾斜，使得基板也呈相对水平面倾斜的姿态，清洗液喷射到基板上时，基板上的残留物随清洗液流淌到第一容置空间的底部，倾斜的基板可以加速清洗液的流动速度，从而加快清洗速度，不需要大量的清洗液，可节约清洗液用量，缩短清洗时间。
清洗静电装置

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