“李正亮”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果191个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种数据发送方法、数据接收方法及相关设备、系统-CN201510732307.5有效
发明人：关峰;曹占锋;李正亮;姚琪;谷耀辉 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2015-11-02 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G06F3/14 文献下载
摘要：本发明提供一种数据发送方法、数据接收方法及相关设备、系统。其中，数据发送设备包括：显示屏；第一确定模块，用于在所述显示屏上，确定一个或多个发送区域；发送模块，用于通过控制所述发送区域的画面显示，以光信号形式发送目标数据的机械语言。数据发送设备包括：面板，所述面板设置有多个光传感器；第二确定模块，用于在面板上，确定一个或多个接收区域，每个接收区域对应一个或多个光传感器；接收模块，用于通过所述接收区域的光传感器，接收由光信号传输的目标数据的机械语言。本发明能够基于具有显示屏的终端设备，实现一种LI‑FI数据传输方案。
一种数据发送方法接收相关设备系统

[发明专利]一种发光基板及显示装置-CN202180003038.2在审
发明人：姚念琦;杨锦;宁策;贺家煜;黄杰;胡合合;赵坤;李菲菲;李正亮;袁广才 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-10-22 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： H01L33/62 文献下载
摘要：一种发光基板及显示装置，该发光基板包括：衬底基板(1)，衬底基板(1)具有发光区(A1)；多个第一焊盘(2，2')，位于衬底基板(1)的一侧，且位于发光区(A1)，第一焊盘(2，2')的材料包括Cu；氧化防护层(3)，位于第一焊盘(2，2')背离衬底基板(1)的一侧，多个第一焊盘(2，2')用于通过氧化防护层(3)与多个发光单元绑定连接；氧化防护层(3)的材料包括CuNiX，其中X包括Al、Sn、Pb、Au、Ag、In、Zn、Bi、Mg、Ga、V、W、Y、Zr、Mo、Nb、Pt、Co、Sb其中之一或任意组合元素。
一种发光显示装置

[发明专利]一种提高单晶硅片双面率和填充的抛光方法及硅片-CN202310241177.X在审
发明人：刘银生;滕三月;李正亮;乐雄英 -专利权人：江苏润阳悦达光伏科技有限公司
申请日： 2023-03-13 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高单晶硅片双面率和填充的抛光方法及硅片，先对硅片进行前清洗，去除硅片表面脏污；然后将清洗后的硅片置入抛光溶液中，进行碱抛光，抛出硅片的金字塔，所述抛光溶液采用采用氢氧化钾和抛光添加剂混合形成，氢氧化钾的浓度为1.6‑2.6wt％，抛光添加剂的溶度为0.8‑1.8wt％；再对抛光后的硅片进行后清洗，去除抛光产生的残留物；最后将经过后清洗工序的硅片置于酸性溶液中进行酸洗，营造酸性环境并进一步去除硅片表面的残留物；本发明抛光方法在产线抛光的基础上增强添加剂的保护效果，增强填充因子，同时减小背面塔基尺寸，减少正面熔融硅的腐蚀，通过提升塔基高度，提升背面电流和双面率。
一种提高单晶硅双面填充抛光方法硅片

[发明专利]一种阵列基板、显示面板及其制备方法-CN202310092547.8在审
发明人：李菲菲;黄杰;宁策;李正亮;胡合合;姚念琦;赵坤;贺家煜 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-01-17 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：本发明公开了一种阵列基板、显示面板及其制备方法，方法包括：在衬底上依次形成栅极和栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成有源区，所述有源区采用氧化物半导体材料，所述有源区中掺杂有作为正电中心的电子捕获元素；在所述有源区上形成源漏极，并在所述源漏极上形成绝缘保护层。通过本发明提供了一种光照稳定性更好、性能更优的阵列基板、显示面板及其制备方法。
一种阵列显示面板及其制备方法

[发明专利]氧化物薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示装置-CN202111222802.3有效
发明人：薛大鹏;袁广才;宁策;胡合合;李正亮;王利忠;董水浪;姚念琦;王东方;赵磊;雷利平 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-10-20 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L29/10 文献下载
摘要：本发明公开一种氧化物薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板、显示装置，氧化物薄膜晶体管的制作方法包括：在基板的一侧形成有源层；在有源层远离基板的一侧形成待形成源极和漏极的金属层；在金属层远离基板的一侧通过构图工艺形成第一掩膜结构；在形成有第一掩膜结构的基板上通过构图工艺形成第二掩膜结构；第一掩膜结构的形成位置和第二掩膜结构的形成位置之一位于待形成的源极的区域，另一位于待形成的漏极的区域；第一掩膜结构和第二掩膜结构位于同一层相互间隔预设距离设置，间隔的区域漏出金属层；刻蚀掉金属层未被第一掩膜结构和第二掩膜结构遮挡的部分，形成相互间隔预设距离保持绝缘的源极和漏极；源极和漏极之间的间距小于3μm。
氧化物薄膜晶体管及其制作方法阵列显示装置

[发明专利]一种触控阵列基板及显示装置-CN202310274208.1在审
发明人：胡合合;宁策;袁广才;王东方;贺家煜;刘凤娟;李正亮;卢鑫泓 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-03-17 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本公开提供一种触控阵列基板及显示装置，触控阵列基板包括衬底基板；第一保护层，设置在所述衬底基板的一侧；介质层，设置在第一保护层与衬底基板之间；触控电极，设置在所述第一保护层背离介质层的一侧；源漏极，设置在介质层背离所述第一保护层的一侧。本公开提供的触控阵列基板及显示装置在所述第一保护层与所述衬底基板之间设置了介质层，将触控电极设置在第一保护层背离所述介质层的一侧，将源漏极设置介质层背离所述第一保护层的一侧；令源漏极和触控电极的距离在第一保护层的基础上增加了介质层的厚度，令源漏极与触控电极的距离变远，从而减小了寄生电容的产生，以至于源漏极的产生的源漏信号不易对触控电极产生的触控信号造成串扰。
一种阵列显示装置

[实用新型]阵列基板及显示装置-CN202320177661.6有效
发明人：宁策;胡合合;袁广才;李正亮;王东方;刘凤娟;贺家煜 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-01-19 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G02F1/1362 文献下载
摘要：本实用新型涉及显示技术领域，针对阵列基板的功耗和成本过高的情况，提供一种阵列基板，包括：衬底、设置在衬底上的至少一个第一晶体管、至少一条数据线和至少一个像素电极。第一晶体管包括第一有源层。第一有源层的材料包括氧化物半导体材料。第一晶体管的第一有源层分别与一条数据线和一个像素电极电连接。数据线位于第一有源层靠近衬底的一侧。第一晶体管的第一有源层与所连接的像素电极为一体结构；或者，第一晶体管的第一有源层与所连接的像素电极位于不同层且直接搭接，从而降低阵列基板的功耗和成本。
阵列显示装置

[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置-CN202180002785.4在审
发明人：贺家煜;宁策;李正亮;胡合合;黄杰;姚念琦;赵坤;李菲菲;雷利平;齐琪 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-09-30 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G09G3/3225 文献下载
摘要：一种显示基板，包括：衬底基板以及位于衬底基板上的多个发光单元和多个光检测单元。至少一个发光单元包括：发光元件以及与发光元件连接的像素电路，至少一个光检测单元包括：光学传感元件以及与光学传感元件连接的发光检测电路。光学传感元件靠近衬底基板一侧设置至少一个无机阻氢层。发光元件具有第一发光区和第二发光区，发光元件的第一发光区从远离衬底基板的一侧出光，发光元件的第二发光区从靠近衬底基板的一侧出光；发光元件的第二发光区在衬底基板的正投影完全落入第一发光区在衬底基板的正投影内。光学传感元件在衬底基板的正投影与至少一个发光元件的第二发光区在衬底基板的正投影至少部分交叠。
显示及其制备方法显示装置

[发明专利]一种指纹识别基板、电子设备和指纹识别方法-CN202180002683.2在审
发明人：董水浪;宁策;袁广才;胡合合;王利忠;姚念琦;薛大鹏;雷利平;许晨;王东方;李正亮 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-09-24 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G09G3/36 文献下载
摘要：本公开提供一种电压提供单元、电压提供方法、显示驱动模组和显示装置。电压提供单元，应用于显示面板，用于为驱动电路提供控制电压信号，电压提供单元包括降压电路和第一电平转换电路；降压电路用于接收第一电压信号，并对第一电压信号进行降压操作，得到第二电压信号；第一电平转换电路与降压电路连接，用于接收输入控制电压、第三电压信号和第二电压信号，并根据输入控制电压、第三电压信号和第二电压信号生成控制电压信号，以使得控制电压信号的电压值小于预定电压值。本公开实施例能够实现对于控制电压信号的电平控制，能够降低控制电压信号的电平过高对显示面板的性能造成影响，有助于提高显示面板的可靠性。
一种指纹识别电子设备方法

[发明专利]一种抑制牙斑菌菌膜活性的漱口水-CN202010206733.6有效
发明人：童建华;李正亮 -专利权人：浙江敬紫堂生物科技有限公司
申请日： 2020-03-23 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： A61K8/98 文献下载
摘要：本发明涉及医药配方技术领域，尤其是一种抑制牙斑菌菌膜活性的漱口水。该漱口水包括以下重量份计的原料：蜂胶醇提物、倍他环糊精、茶多酚、薄荷香精、纳米银粒子、金纳米棒吸附物、维生素D、苹果酸、酒石酸、硫酸多糖、明胶、表面活性剂、双氯苯双胍己烷、苦参超微粉和纯化水。本发明针对牙斑菌中数量最多的变异链球菌表面蛋白样参与粘附形成生物膜，通过干扰变异链球菌细胞膜功能蛋白的合成，促进药物对生物膜的渗透，减少菌体对双氯苯双胍己烷的耐药性，显著降低牙斑菌生物膜活性。
一种抑制牙斑菌菌膜活性漱口水

[发明专利]阵列基板、液晶显示面板及显示装置-CN202310084323.2在审
发明人：宁策;胡合合;袁广才;贺家煜;刘凤娟;王东方;李正亮 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2023-01-18 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本公开关于一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置，涉及显示领域。阵列基板包括显示区和显示区外的外围区；外围区包括感光区；阵列基板包括衬底和设于衬底一侧的多个晶体管，晶体管包括位于显示区的开关晶体管和位于感光区的感光晶体管；感光晶体管为底栅结构，开关晶体管为顶栅结构。开关晶体管的有源层为开关有源层，感光晶体管的有源层为感光有源层；开关有源层与感光有源层同层设置。
阵列液晶显示面板显示装置

[发明专利]一种阵列基板及显示装置-CN202180002293.5在审
发明人：贺家煜;宁策;李正亮;胡合合;黄杰;姚念琦;赵坤;李菲菲;雷利平;齐琪 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-08-26 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01L29/417 文献下载
摘要：本公开实施例提供的一种阵列基板及显示装置，该阵列基板包括：衬底基板；导电层，位于衬底基板上，导电层的材料包括铜；氧化防护层，位于导电层背离衬底基板的一侧，氧化防护层的材料包括钨。
一种阵列显示装置

[发明专利]一种显示器件、制备方法以及温度检测方法-CN202110257110.6有效
发明人：贺家煜;宁策;李正亮;胡合合;黄杰;姚念琦;赵坤 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-03-09 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： H10K59/60 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示器件、显示器件的制备方法以及温度检测方法，该显示器件具体包括：显示面板以多个温度传感器，多个所述温度传感器间隔设置于所述显示面板远离发光层的一侧，所述温度传感器用于根据检测到的暗电流强度确定出所述显示面板该位置的温度，以对所述显示面板上不同位置的温度进行检测，若检测出上述任何一个温度大于预设的温度阈值时，则说明此时显示面板温度过高，此时仅需向终端发送此时显示面板温度过高，需要进行关机降温的提醒信息即可，以提醒用户对显示面板进行关机处理，综上所述，采用本方案的设计可以有效避免由于自身高温引起被烧毁的问题，延长显示面板的使用寿命。
一种显示器件制备方法以及温度检测

[发明专利]一种薄膜晶体管、显示基板及其制作方法和显示装置-CN202180000493.7在审
发明人：黄杰;赵坤;宁策;李正亮;胡合合;贺家煜;姚念琦;刘凤娟;雷利平 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L29/786 文献下载
摘要：一种薄膜晶体管、显示基板及其制作方法和显示装置，其中，薄膜晶体管，设置在基底上，包括：依次设置在基底上的有源层和源漏电极，有源层包括：第一沟道区域和第二沟道区域；第一沟道区域在基底上的正投影与源漏电极在基底上的正投影无重叠区域；第一沟道区域的长度方向的边缘的形状为非直线形，且第一沟道区域的长度方向的边缘的长度大于源漏电极之间的距离。
一种薄膜晶体管显示及其制作方法显示装置

[发明专利]显示基板、显示面板、显示设备和制造显示基板的方法-CN201880001007.1有效
发明人：舒适;卢江楠;张星;刘威;李正亮;盖翠丽 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H10K59/126 文献下载
摘要：本申请提供了一种具有多个子像素区域的显示基板。显示基板包括：基底基板；多个薄膜晶体管，其位于所述基底基板上；和多个半导体结，其构造为阻挡光照射到所述多个薄膜晶体管的有源层。
显示面板设备制造方法