专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种集成肖特基的碳化硅UMOSFET的制造方法-CN202310104836.5在审
  • 李昀佶;张长沙;李佳帅;何佳 - 泰科天润半导体科技(北京)有限公司
  • 2023-02-13 - 2023-03-21 - H01L21/336
  • 本发明提供了一种集成肖特基的碳化硅UMOSFET的制造方法,包括:在碳化硅衬底的漂移层上形成阻挡层,并对阻挡层蚀刻形成通孔,通过通孔对漂移层进行离子注入,以形成掩蔽层;重新形成阻挡层,并对阻挡层和漂移层进行蚀刻形成沟槽;氧化所述沟槽,形成绝缘层;在绝缘层内淀积,形成栅极;重新形成阻挡层,蚀刻,离子注入,形成源区;重新形成阻挡层,蚀刻,淀积金属,形成肖特基金属层;重新形成阻挡层,蚀刻,淀积金属,形成源极金属层;重新形成阻挡层,并对阻挡层蚀刻形成通孔,对栅极淀积金属,形成栅极金属层;清除阻挡层,对碳化硅衬底淀积金属,形成漏极金属层;降低该部分的栅极电场强度,解决栅击穿问题,优化反向恢复特性和续流特性。
  • 一种集成肖特基碳化硅umosfet制造方法
  • [发明专利]提高耐压的横向沟槽型碳化硅MOSFET的制造方法-CN202211646425.0在审
  • 李昀佶;周海;何佳;单体玮 - 泰科天润半导体科技(北京)有限公司
  • 2022-12-21 - 2023-01-20 - H01L21/336
  • 本发明提供了一种提高耐压的横向沟槽型碳化硅MOSFET的制造方法,在碳化硅衬底上形成阻挡层,蚀刻形成沟槽;对沟槽进行氧化形成绝缘层;形成阻挡层,并对阻挡层蚀刻,淀积,形成多晶硅层;形成阻挡层,并对阻挡层蚀刻、离子注入,形成源区和漏区;形成阻挡层,蚀刻形成栅极区域,对栅极区域进行氧化形成栅极氧化层;形成阻挡层,蚀刻,淀积金属,形成源极金属层和漏极金属层;在碳化硅衬底上形成阻挡层,并对阻挡层蚀刻形成通孔,对栅极氧化层刻蚀到多晶硅层;进行金属淀积,形成栅极金属层,并清除所有阻挡层;结构简单,制造工艺也简单,成本较低,有效控制器件成本的情况下,在100‑650V电压领域完成碳化硅器件的应用市场拓展。
  • 提高耐压横向沟槽碳化硅mosfet制造方法
  • [实用新型]一种低体二极管正向导通压降的沟槽型碳化硅MOSFET-CN202222053743.8有效
  • 李昀佶;张长沙;周海 - 泰科天润半导体科技(北京)有限公司
  • 2022-08-05 - 2023-01-10 - H01L29/78
  • 本实用新型提供了一种低体二极管正向导通压降的沟槽型碳化硅MOSFET包括:漂移层设于所述碳化硅衬底上侧面,多晶硅源区设于第二掩蔽层上,且多晶硅源区下部侧壁连接至漂移层;栅极绝缘层为凹字型,栅极绝缘层底部连接至第一掩蔽层,栅极绝缘层下部侧壁连接至漂移层;栅极多晶硅层设于栅极绝缘层上;第一夹断区底部连接至漂移层,且第一夹断区侧壁连接至多晶硅源区的一侧壁;第二夹断区底部连接至漂移层,第二夹断区一侧壁连接至多晶硅源区的另一侧壁,第二夹断区的另一侧壁连接至栅极绝缘层的侧壁;源极金属层底部连接多晶硅源区;栅极金属层底部连接栅极多晶硅层;漏极金属层连接至碳化硅衬底的下侧面,降低源极到漏极的体二极管压降。
  • 一种二极管向导通压降沟槽碳化硅mosfet

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