专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果28个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种超宽温区负电卡效应Pb(Zrx-CN202010979494.8有效
  • 彭彪林;汪婷婷 - 广西大学
  • 2020-09-17 - 2022-09-06 - C04B35/472
  • 本发明涉及一种通过衬底调控Pb(ZrXTi1‑X)O3薄膜电卡性能的制备方法,属于化学工程技术领域。一种超宽温区负电卡效应Pb(ZrXTi1‑X)O3基薄膜的制备方法,是将Pb(ZrXTi1‑X)O3前驱体溶液旋涂于衬底上制得湿膜;产品干燥、热解,退火制得单层Pb(ZrXTi1‑X)O3薄膜;重复前面步骤,制得多层Pb(ZrXTi1‑X)O3薄膜。本发明的有益效果是:获得具有纯度高、致密性好、平均晶粒尺寸小、电场击穿强度大、可调控温区宽、电卡效应大等优点的薄膜;本发明制备方法相对简单,是一种方便快捷的制备技术。
  • 一种超宽温区负电效应pbzrbasesub
  • [发明专利]一种PSTT基高性能陶瓷电卡制冷材料的制备方法-CN202010981783.1有效
  • 彭彪林;黎家余 - 广西大学
  • 2020-09-17 - 2022-08-19 - C04B35/472
  • 本发明涉及一种PSTT基高性能陶瓷电卡制冷材料的制备方法,属于化学工程技术领域。一种PSTT基高性能陶瓷电卡制冷材料的制备方法,将原料与酒精球磨,研磨所得的混合粉烘干、压柱;所得的原料块煅烧合成,研磨后得到陶瓷颗粒;压制成陶瓷胚体;在所得陶瓷颗粒覆盖下烧结;退火,制得所需陶瓷材料。本制备方法可以在室温及以下得到较优异的电卡性能;同时,可以通过改变多元高熵原理、退火时间及温度控制陶瓷的结构与性能。本发明制备方法相对简单,是一种方便快捷的制备技术。
  • 一种pstt性能陶瓷制冷材料制备方法
  • [发明专利]一种PNNZT基多相共存弛豫铁电外延薄膜的制备方法-CN202010979491.4有效
  • 彭彪林;韩飞飞 - 广西大学
  • 2020-09-17 - 2022-08-05 - C04B35/493
  • 本发明涉及一种PNNZT基多相共存弛豫铁电外延薄膜的制备方法,属于化学工程技术领域。一种PNNZT基多相共存弛豫铁电外延薄膜的制备方法,包括以下步骤:将同为钙钛矿结构的SrTiO3(100/111)单晶基片作为衬底,采用固相合成法和激光脉冲沉积法制备钙钛矿结构的La0.7Sr0.3MnO3(100/111)外延薄膜;采用溶胶凝胶法和固相烧结法制备PNNZT靶材,将PNNZT前驱体溶液于室温下搅拌1.5‑2h,并放置24‑30h,自然风干,制得凝胶;所得凝胶干燥、煅烧、研磨、压制制得粒料,所得粒料经过烧结,自然冷却即得所需的PNNZT靶材;制得的PNNZT靶材利用激光脉冲沉积法在底电极上外延制备出多相共存的弛豫铁电外延薄膜。本发明的有益效果是获得具有纯度高、致密性好、平均晶粒尺寸小、电场击穿强度大、电卡效应大等优点的薄膜。
  • 一种pnnzt基多共存弛豫铁电外延薄膜制备方法
  • [发明专利]Sb2-CN202210422936.8在审
  • 李欣芮;何秋蔚;赵雨杰;陈雪;彭彪林;刘来君 - 南京卡巴卡电子科技有限公司
  • 2022-04-21 - 2022-07-22 - C23C18/12
  • 本发明提供Sb2O3薄膜材料及基于溶胶‑凝胶法制备Sb2O3薄膜材料的方法和应用,属于电子材料与元器件领域。制备方法是将Sb2O3前驱体溶液旋涂在衬底上面,得到湿膜;制得的湿膜首先在80‑120℃下蒸干10‑15min,然后在300‑400℃下热处理5‑15min,取出冷却至室温,得到一层未完全晶化的Sb2O3薄膜;重复以上步骤多次,得到多层未完全晶化的Sb2O3薄膜;将薄膜在450‑600℃于空气氛围中晶化0.5‑2h,得到完全晶化的Sb2O3薄膜,即获得具有纯度高、致密性好、平均晶粒尺寸小、电子迁移率高等优点的薄膜。
  • sbbasesub
  • [发明专利]一种PMN-PSN超高击穿电场薄膜材料的制备方法-CN202010981820.9有效
  • 彭彪林;陆秋萍 - 广西大学
  • 2020-09-17 - 2022-05-17 - C04B35/497
  • 本发明涉及一种PMN‑PSN超高击穿电场薄膜材料的制备方法,属于化学工程技术领域。一种PMN‑PSN超高击穿电场薄膜材料的制备方法,是将PMN‑PSN前驱体溶液旋涂于衬底上制得湿膜,干燥、热解,制得单层PMN‑PSN薄膜;重复以上,制得多层PMN‑PSN薄膜,将所得产品进行退火,即得所需薄膜材料。本发明的有益效果是:获得具有高的纯度、好的致密性、小的平均晶粒尺寸、超高的电场击穿强度等优点的薄膜;本发明制备方法相对简单,可以通过不同的晶化方式、不同的退火时长控制薄膜的结构和性能,是一种方便快捷的制备技术。
  • 一种pmnpsn超高击穿电场薄膜材料制备方法
  • [发明专利]一种PSINT基高熵铁电薄膜材料的制备方法-CN202010981769.1有效
  • 彭彪林;于芳 - 广西大学
  • 2020-09-17 - 2022-05-03 - C04B35/497
  • 本发明涉及一种PSINT基高熵铁电薄膜材料的制备方法,属于化学工程技术领域。一种PSINT基高熵铁电薄膜材料的制备方法,是将PSINT前驱体溶液旋涂在衬底上面,得到湿膜;制得的湿膜首先在300‑350℃干燥5‑10min,然后在550‑600℃热解5‑10min,最后在700‑800℃于空气氛围中退火3‑5min,得到一层PSINT薄膜;重复以上步骤多次,得到多层PSINT薄膜;另外将制得的湿膜首先在300‑400℃干燥3‑5min,然后在500‑600℃热解3‑5min,得到一层PSINT薄膜;重复上述步骤多次,得到未完全晶化的PSINT薄膜,在700‑800℃于空气氛围中晶化30‑60min,得到完全晶化的PSINT薄膜;将得到的多层PSINT薄膜和得到的完全晶化的PSINT薄膜分别退火,即得所需薄膜。获得具有纯度高、致密性好、平均晶粒尺寸小、电场击穿强度大、电卡效应大等优点的薄膜。
  • 一种psint基高熵铁电薄膜材料制备方法
  • [发明专利]一种PSINT基高熵陶瓷电卡制冷材料的制备方法-CN202010991507.3有效
  • 彭彪林;于芳 - 广西大学
  • 2020-09-17 - 2022-05-03 - C04B35/497
  • 本发明涉及一种PSINT基高熵陶瓷电卡制冷材料的制备方法,属于化学工程技术领域。一种PSINT基高熵陶瓷电卡制冷材料的制备方法,将原料与酒精球磨,研磨所得的混合粉烘干、压柱;所得的原料块煅烧合成,研磨后得到陶瓷颗粒;压制成陶瓷胚体;在所得陶瓷颗粒覆盖下烧结;退火,制得所需陶瓷材料。本制备方法可以在室温及以下得到较优异的电卡性能;同时,可以通过改变多元高熵原理、退火时间及温度控制陶瓷的结构与性能。本发明制备方法相对简单,是一种方便快捷的制备技术。
  • 一种psint基高熵陶瓷制冷材料制备方法
  • [发明专利]一种KNN基超高击穿电场单晶薄膜材料的制备方法-CN202010979464.7有效
  • 彭彪林;李盈盈 - 广西大学
  • 2020-09-17 - 2022-04-19 - C04B35/495
  • 本发明涉及一种KNN基超高击穿电场单晶薄膜材料的制备方法,属于化学工程技术领域。一种KNN基超高击穿电场单晶薄膜材料的制备方法,包括以下步骤:制备KNNS‑LT‑BZ前驱体溶液;所得KNNS‑LT‑BZ前驱体溶液旋涂于不同取向的Nb‑doped SrTiO3衬底上面,得到湿膜;干燥、热解、退火制得一层KNNS‑LT‑BZ薄膜;重复以上制得多层KNNS‑LT‑BZ薄膜。本发明制备方法相对简单,可以通过可以通过多远高熵原理、不同的晶化方式和不同的退火时长控制薄膜的结构和性能,是一种方便快捷的制备技术。
  • 一种knn超高击穿电场薄膜材料制备方法
  • [发明专利]一种通过频率调控Nb掺杂的PZST基驰豫反铁电薄膜制备方法-CN202010979480.6在审
  • 彭彪林;张苗苗 - 广西大学
  • 2020-09-17 - 2020-12-29 - C04B35/493
  • 本发明涉及一种通过频率调控Nb掺杂的PZST基驰豫反铁电薄膜制备方法,属于铁电功能材料领域。一种通过频率调控Nb掺杂的PZST基驰豫反铁电薄膜制备方法,是将LaNiO3前驱体溶液旋涂于衬底上制得湿膜;所得产品干燥、热解,退火制得单层LaNiO3薄膜;重复以上两个步骤,制得多层LaNiO3复合基底;将Pb0.99Nb0.02(ZrxSnyTi1‑x‑y)0.98O3前驱体溶液旋涂于所得的LaNiO3复合基底上制得凝胶湿膜;将所得凝胶湿膜干燥、热解、退火制得单层Nb掺杂的PZST薄膜;重复以上两个步骤制得多层Nb掺杂的PZST薄膜。本发明的有益效果是:获得一种致密性好、平均晶粒尺寸小、高介电常数、电场击穿强度大、制冷温度较大等优点的反铁电薄膜;本发明制备方法相对简单,是一种高效低成本的制备技术。
  • 一种通过频率调控nb掺杂pzst基驰豫反铁电薄膜制备方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top