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[发明专利]基片液处理装置和基片液处理方法-CN202180032981.6在审
发明人： 中岛干雄;小宫洋司;中森光则;北野淳一;南辉臣;大塚贵久;小佐井一树;尾嶋智明 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供有利于抑制颗粒混入到要提供给基片的处理液中的技术。基片液处理装置包括：供给容器，处理液经由引导管线被供给到供给容器的内侧；对供给容器的内侧加压的加压装置；喷出被供给来的处理液的喷出嘴；供给管线，其与供给容器和喷出嘴连接，没有设置对连接供给容器与喷出嘴的流路进行可变限制的调节机构；第一排液管线，其与供给管线中的供给容器与喷出嘴之间的第一分支部分连接；液流调节机构，其设置于第一排液管线，限制压力比设定压低的处理液通过；和调节设定压的控制部。
基片液处理装置方法

[发明专利]基片处理装置和基片处理方法-CN202111516671.X在审
发明人： 中岛干雄;梅﨑翔太;稻富弘朗 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-12-13 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供在使用超临界状态的处理流体的干燥处理时，能够抑制晶片的图案倒塌的基片处理装置和基片处理方法。基片处理装置包括处理容器和对其供给超临界状态的处理流体的处理流体供给部，处理流体供给部包括：一侧与流体供给源连接，另一侧与处理容器连接的流体供给管线；插设在流体供给管线，冷却气体状态的处理流体而生成液体状态的处理流体的冷却部；插设在流体供给管线，设置在冷却部的下游侧的泵；插设在流体供给管线，设置在泵的下游侧，加热液体状态的处理流体而生成超临界状态的处理流体的加热部；插设在流体供给管线，设置在泵与加热部之间，调节对处理容器供给的处理流体的供给流量的第一流量调节部；和控制第一流量调节部的控制部。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理装置的组装方法-CN201710065981.1有效
发明人： 中岛干雄;古贺胜也 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-02-06 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置和基板处理装置的组装方法。缩短基板处理装置的设置所需的时间，且缩短设置时的设备的检查所需要的检查时间。基板处理装置包括：多个基板处理部，其向基板供给处理流体而进行处理；多个处理流体供给控制部，其1对1地与多个所述基板处理部相对应，并且包括通过对向基板处理部供给的处理流体起作用来对该处理流体的流动进行控制的流体控制设备；多个驱动部，其1对1地与多个处理流体供给控制部相对应，并且包括使所对应的处理流体供给控制部的流体控制设备动作的驱动设备。所对应的基板处理部、处理流体供给部以及驱动部形成组装体。
处理装置组装方法

[发明专利]基片液处理装置和基片液处理方法-CN202110515961.6在审
发明人： 中岛干雄;田中明贤;绪方信博;宫本勋武 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-05-12 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供有利于检测处理液的泄漏等不良情况的发生的基片液处理装置和基片液处理方法。基片液处理装置包括：供处理液流动的液配管；释放嘴，其释放经由液配管供给的处理液；阀机构，其调节液配管中的处理液的流动；和液检测传感器，其检测液配管中是否存在处理液。在阀机构工作以使液配管中的处理液位于比液配管的第一配管测量部位靠上游处的状态下，液检测传感器检测在位于第一测量点的第一配管测量部位是否存在处理液。
基片液处理装置方法

[发明专利]粘接剂片-CN201580084445.5有效
发明人： 中岛干雄;高田芳邦;吉住武美;江口力人 -专利权人：中岛橡胶工业股份公司
申请日： 2015-11-12 - 公布日： 2021-07-02 - 主分类号： C09J7/21 文献下载
摘要：粘接剂片是将未硫化橡胶与金属接合的粘接剂片，其具备：含浸了与上述未硫化橡胶具有反应性的溶剂分散型硫化粘接剂的基布层，以及与上述金属具有反应性的粘接剂层。
粘接剂片

[发明专利]安装检查装置-CN201380079577.X有效
发明人： 中岛干雄;稻垣光孝 -专利权人：株式会社富士
申请日： 2013-09-17 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：安装检查装置(40)基于缺件检查的结果，对被检测出安装的元件(P)的缺件的基板进行基板上的异物检查。另外，安装检查装置(40)对通过缺件检查未检测出缺件的基板不进行异物检查。安装检查装置(40)取得与基板中的被检测出缺件的位置相关的信息即缺件位置信息，并优先对基板中的根据缺件位置信息所确定的缺件位置的周边进行异物检查。安装检查装置(40)取得与安装被检测出的缺件所涉及的元件时的基板上的搬运路线相关的信息即缺件搬运信息，优先对基板中的根据缺件搬运信息所确定的区域进行异物检查。
安装检查装置

[发明专利]用于将橡胶层粘接于圆筒形粘接对象物的内外面的前处理方法-CN201480074404.3有效
发明人：江口力人;中岛干雄;高田芳邦;吉住武美 -专利权人：中岛橡胶工业股份公司
申请日： 2014-01-29 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： C09J5/00 文献下载
摘要：使用粘接片和附着固定机将用于在粘接对象物的粘接对象面上粘接未硫化橡胶的粘接剂层形成于所述粘接对象面上的方法，所述附着固定机具有密闭的室，所述附着固定机能够从所述室的内部排出气体，并且能够将气体导入所述室的内部，所述附着固定机具备能够在所述室的内部载置所述粘接对象物的工作台，所述粘接片具有形成于膜上的上涂粘接剂层和形成于所述上涂粘接剂层上的下涂粘接剂层。
用于橡胶层粘接圆筒形粘接对象外面处理方法

[发明专利]基片液处理装置、处理液供给方法和存储介质-CN201810551247.0在审
发明人：福田孝佑;中岛干雄;筱原和义;东博之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-05-31 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基片液处理装置、处理液供给方法和存储介质。当使用低表面张力的处理液时，防止来自喷嘴的处理液供给停止后的液体下落，定量地控制开闭阀关闭期间的处理液流量，并且减小处理液的消耗量。控制部(4)在从将处理液以第一流量从喷嘴(40)向基片(W)供给的状态起停止供给来自喷嘴的处理液时，使开闭阀(716)从打开状态转变为关闭状态，并且进行将比第一流量小的第二流量作为流量目标值给予流量控制机构(715)的停止控制，最晚至开闭阀开始从打开状态向关闭状态转变之前。
处理液处理液供给喷嘴开闭阀液处理装置存储介质流量控制机构处理液流量关闭期间停止供给停止控制状态转变消耗量减小

[发明专利]粘接片-CN201580077634.X在审
发明人： 中岛干雄;高田芳邦;吉住武美;江口力人 -专利权人：中岛橡胶工业股份公司
申请日： 2015-03-11 - 公布日： 2017-11-28 - 主分类号： C09J7/00 文献下载
摘要：本发明的粘接片是将未硫化橡胶接合于金属的粘接片，具备下述脱模膜、上涂粘接剂层和下涂粘接剂层，所述脱模膜由下述第一膜层和第二膜层构成，并以一体膜的形式形成，所述第一膜层由聚丙烯形成，所述第二膜层由聚对苯二甲酸乙二醇酯形成，所述上涂粘接剂层是在前述脱模膜的前述第一膜层一侧进行与前述未硫化橡胶具有反应性的溶剂分散型硫化粘接剂的涂布并使其干燥而形成的，所述下涂粘接剂层是在前述上涂粘接剂层的干燥后，在前述上涂粘接剂层上进行与前述金属具有反应性的粘接剂的涂布并使其干燥而形成的。
粘接片

[发明专利]基板作业机械-CN201110424405.4有效
发明人：天野雅史;星川和美;中岛干雄;栗生浩之;山阴勇介 -专利权人：富士机械制造株式会社
申请日： 2011-12-16 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： H05K13/04 文献下载
摘要：本发明提供一种实用性高的基板作业机械。该基板作业机械(10)具备头(H)、头保持装置(24)、使头保持装置移动的移动装置(26)，其中，作为头，在储料器(52)中不仅配置作业头，还配置摄像头等检测头，头保持装置可在保持部有选择性地保持所述头中的一个头。明确地说，检测头以与作业头自动交换的方式构成。检测头可在与作业头相同的位置安装于头保持装置，由此即使没有额外地扩大移动装置具有的头保持装置的可动范围，也能够使检测头在作业头具有的作业区域移动，实现紧凑的基板作业机械。
作业机械

[发明专利]安装用/检查用数据生成装置及安装用/检查用数据生成方法-CN201280073085.5有效
发明人：天野雅史;中岛干雄;杉山健二 -专利权人：富士机械制造株式会社
申请日： 2012-05-10 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： H05K13/00 文献下载
摘要：在安装用/检查用数据生成装置(11)的上部侧和下部侧设置第一相机(13)和第二相机(14)，在第一相机(13)的镜头(16)的下侧设置第一照明装置(17)和上侧遮蔽板(18)，在第二相机(14)的镜头(21)的上侧设置第二照明装置(22)和下侧遮蔽板(23)。在配置于上侧遮蔽板(18)与下侧遮蔽板(23)之间的透明的载置板(25)上载置元件(15)，在利用第一相机(13)拍摄元件(15)的下表面侧(安装面侧)时使上侧遮蔽板(18)向第一相机(13)的拍摄区域的外侧滑动移动，在利用第二相机(14)拍摄元件(15)的上表面侧(吸附面侧)时使下侧遮蔽板(23)向第二相机(14)的拍摄区域的外侧滑动移动。基于由第二相机(14)拍摄到的元件(15)的下表面侧的图像而生成安装用数据，基于由第一相机(13)拍摄到的元件(15)的上表面侧的图像而生成检查用数据。
安装检查数据生成装置方法

[发明专利]处理装置-CN201210067142.0有效
发明人： 中岛干雄;稻富弘朗;冈村聪 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-03-14 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种处理装置。该处理装置抑制在利用高压流体对被处理基板进行处理的处理容器中产生颗粒，确保处理容器内的气密性。以围绕处理腔室(2)的输送口(31)的方式设置密封构件(62)，利用盖体(7)封堵输送口(31)，利用锁板(15)限制盖体(7)因处理腔室(2)内的压力而后退，同时在处理腔室(2)内利用高压流体对晶圆(W)进行干燥处理。在干燥处理的期间，由于上述密封构件(62)被处理腔室(2)的内部气氛加压而被向盖体(7)侧按压，因此，能够将上述盖体(7)与处理腔室(2)之间的间隙气密地封堵。另外，由于密封构件(62)不会相对于处理腔室(2)、盖体(7)滑动，因此，能够抑制产生颗粒。
处理装置

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201110344043.8有效
发明人：户岛孝之;岩下光秋;上川裕二;中岛干雄 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-11-02 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置在使用高压流体进行被处理基板的处理时，能够防止高压流体经由被设于用于进行该处理的处理容器的配管向其他的设备的流入。在处理容器中，利用超临界状态或者亚临界状态的高压流体对被处理基板进行处理，该处理容器与在流体的流动方向上被分割成第1配管构件以及第2配管构件、并且供流体流通的配管连接。连接-分开机构使上述第1、第2配管构件中的至少一个在将第1配管构件和第2配管构件彼此连接起来的位置与将第1配管构件和第2配管构件分开的位置之间移动，开闭阀分别设于第1、第2配管构件、并且在使上述配管构件分开时被关闭。
处理装置方法

[发明专利]印网掩模-CN200710104748.6无效
发明人：柳原直人;瀬户政行;中岛干雄;牛房信之 -专利权人：富士通日立等离子显示器股份有限公司
申请日： 2007-04-26 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： B41F15/36 文献下载
摘要：本发明提供一种能够提高丝网印刷精度的技术。本发明的印网掩模包括具有张紧力范围为196～392N/mm的丝网(2)；张紧力范围为49～98N/mm的张力网(3)；以包围丝网(2)的外周的方式进行配置，张紧力范围为392～980N/mm，固定张力网(3)的一部分的树脂板(固定部)(4)；和版框(5)。其中，当进行丝网印刷时，与刮墨刀在丝网(2)上擦动的方向交叉的第一方向(55)上的丝网(2)长度(Ls)为第一方向(55)上的张力网(3)长度(Lt)的0.6～0.9倍。当取系数(a)时，第一方向(55)的树脂板(4)长度(Lk)、长度(Ls)与长度(Lt)的关系为Lk＝a(Lt+Ls)/2，系数(a)在0.5～1.2范围内。
印网掩模

[发明专利]印刷装置-CN200710102213.5无效
发明人：瀬户政行;柳原直人;中岛干雄 -专利权人：富士通日立等离子显示器股份有限公司
申请日： 2007-04-27 - 公布日： 2008-04-02 - 主分类号： B41F15/34 文献下载
摘要：本发明提供一种能够提高丝网印刷的印刷精度的技术。本发明的将印刷装置的丝网掩模(1)固定在掩模支架(2)上的固定机构由第一固定机构和第二固定机构构成：第一固定机构用于固定在丝网掩模(1)的外周缘具有的框(5)的四边中沿作为刮墨刀(9)的擦动方向的箭头(12)配置的边(51)和边(52)以及掩模支架(2)，第二固定机构用于固定在框(5)的四边中沿与箭头(12)交叉的方向配置并且从擦动开始位置看时在与箭头(12)相反的方向上配置的边(53)以及掩模支架(2)。
印刷装置

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