专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果12个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]半导体封装件-CN202320918079.0有效
  • 王麒玮;吴尚霖 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2023-04-21 - 2023-09-05 - H01L23/538
  • 本申请的实施例提供了一种半导体封装件,包括:第一衬底;第一无源元件,设置在第一衬底上;第二无源元件,设置在第一无源元件上;第一纳米线结构,位于第一无源元件和第二无源元件之间,并且电连接第一无源元件和第二无源元件。本申请的实施例通过使用第一纳米线结构电连接第一无源元件和第二无源元件,第一纳米线结构的厚度和体积远小于现有技术的焊球/焊料/其他焊接金属材料,在有限的空间内可以堆叠更多无源元件,提高了半导体封装件的空间利用率。
  • 半导体封装
  • [实用新型]电子装置-CN202223366286.4有效
  • 吴尚霖 - 日月光半导体制造股份有限公司
  • 2022-12-15 - 2023-07-18 - H01L23/488
  • 本申请公开了一种电子装置,该电子装置包括基板,基板具有置件区和非置件区;电子元件,设置在置件区并且通过互连件连接至基板,互连件由焊料形成;测试电极,设置在非置件区;第一限位元件,设置在非置件区,并且用于与互连件相同的焊料连接;第二限位元件,设置在第一限位元件与测试电极之间,并且用于阻挡焊料。上述技术方案至少可以防止来自形成互连件的焊料喷溅至测试电极,使得焊料不会对后段制程的电性测试造成影响。
  • 电子装置
  • [发明专利]主动元件基板-CN202211471373.8在审
  • 吴尚霖 - 友达光电股份有限公司
  • 2022-11-23 - 2023-03-07 - H01L27/092
  • 本发明公开一种主动元件基板,包括基板、缓冲层、第一金属氧化物图案、第一栅绝缘结构、第二半导体层、第二栅绝缘结构、第一栅极、第二栅极、第一源极、第一漏极、第二源极以及第二漏极。第一金属氧化物图案位于缓冲层上,且包括第一半导体层以及第一阻氧层。第一栅绝缘结构位于第一金属氧化物图案上。第二半导体层位于第一栅绝缘结构上。第一阻氧层至少部分重叠于第二半导体层。第二栅绝缘结构位于第二半导体层以及第一栅绝缘结构上。第一栅极以及第二栅极位于第二栅绝缘结构之上,且分别重叠于第一半导体层以及第二半导体层。
  • 主动元件
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN202210825455.1在审
  • 吴尚霖 - 友达光电股份有限公司
  • 2022-07-13 - 2022-09-23 - H01L27/12
  • 本发明公开一种半导体装置及其制造方法。半导体装置包括基板、第一氮化硅层、第二氮化硅层、氧化物绝缘层以及第一金属氧化物层。第一氮化硅层位于基板之上。第二氮化硅层位于第一氮化硅层之上。第一氮化硅层与第二氮化硅层都包含氢元素。第二氮化硅层的氢浓度低于第一氮化硅层的氢浓度。第二氮化硅层的厚度小于第一氮化硅层的厚度。氧化物绝缘层位于第二氮化硅层上。第一金属氧化物层位于氧化物绝缘层上。第二氮化硅层位于第一金属氧化物层与基板之间。
  • 半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN202210826221.9在审
  • 吴尚霖 - 友达光电股份有限公司
  • 2022-07-13 - 2022-09-16 - H01L27/12
  • 本发明公开一种半导体装置及其制造方法。半导体装置包括基板、金属氧化物半导体层、第一栅介电层、栅极、层间介电层、第一导电氧化物层、第一电极以及第二电极。第一栅介电层位于金属氧化物半导体层之上。栅极位于第一栅介电层之上,且重叠于金属氧化物半导体层。层间介电层位于栅极之上。层间介电层具有第一接触孔。第一接触孔横向地分离于金属氧化物半导体层。第一导电氧化物层位于第一接触孔下方。第一电极填入第一接触孔,并通过第一导电氧化物层而电连接至金属氧化物半导体层。
  • 半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN202210863090.1在审
  • 吴尚霖;陈衍豪 - 友达光电股份有限公司
  • 2022-07-21 - 2022-09-13 - H01L29/786
  • 一种半导体装置及其制造方法。半导体装置包括基板、第一氧化物层、绝缘图案、金属氧化物层、栅介电层、栅极、源极以及漏极。第一氧化物层位于基板之上。绝缘图案位于第一氧化物层上,且包括氮化硅层以及第二氧化物层。氮化硅层位于第一氧化物层与第二氧化物层之间。金属氧化物层接触第一氧化物层的上表面、绝缘图案的侧壁以及绝缘图案的上表面。栅介电层位于金属氧化物层上。栅极位于栅介电层上。部分绝缘图案位于栅极与基板之间。源极以及漏极电性连接金属氧化物层。
  • 半导体装置及其制造方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top