专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种碲化锌同质外延层的制备方法-CN201310018217.0无效
  • 冀子武;黄树来;张磊;郭其新;徐现刚 - 山东大学
  • 2013-01-17 - 2013-05-01 - C30B25/20
  • 一种碲化锌(ZnTe)同质外延层的制备方法,属半导体材料制备技术领域,采用低压金属有机化学气相外延工艺,以二甲基锌和二乙基碲为金属有机源,用氢气作为载气,用低压金属有机化学气相外延设备在ZnTe(100)衬底上生长碲化锌外延层。本发明方法制备的ZnTe同质外延层具有窄的带边激子峰和窄的XRC半高宽,并且没有出现氧束缚激子及与位错有关的Y线等深能级发射,这些结果表明外延层有很好的结晶质量。本发明方法制备的ZnTe同质外延层,可用于绿光LED和LD以及太赫兹发射器等光电器件的制备,具有广泛的应用前景。
  • 一种碲化锌同质外延制备方法
  • [发明专利]消除ZnSe/BeTeⅡ量子阱中内秉电场的方法-CN200910230077.7无效
  • 冀子武;郑雨军;赵雪琴;徐现刚 - 山东大学
  • 2009-11-13 - 2010-05-26 - B82B3/00
  • 消除ZnSe/BeTe II量子阱中内秉电场的方法,属光电材料制备技术领域,用分子束外延工艺制备II型量子阱材料,在衬底上生长缓冲层、隔离层、势阱-势垒-势阱层等;本发明所生长界面结构的量子阱材料具有质量高、界面处晶格匹配好、II型能带结构特点。材料界面处有大的能带落差,使电子、空穴很容易发生空间分离。两异质结界面具有多个Zn-Te和Te-Zn化学键结构,与传统的II型能带结构相比有更长的空间间接复合发光寿命,更有利于观察、研究高密度凝聚现象,能削弱结构中的内秉电场,使导带和价带结构变得平坦,避免了隧道效应,利于光电器件对正负电荷的独立控制。本发明可用于高密度现象的观察、光电器件的研制等领域。
  • 消除znsebete量子阱中内秉电场方法
  • [发明专利]用光致激发在非掺杂量子阱中产生带电激子的方法及装置-CN200910020719.0无效
  • 冀子武;郑雨军;赵雪琴;徐现刚 - 山东大学
  • 2009-04-21 - 2009-09-23 - G01N21/64
  • 用光致激发在非掺杂量子阱中产生带电激子的方法及装置,涉及带电激子的生成方法及装置用能量大于ZnSe量子阱禁带宽度的激光对异质结构硒化锌/碲化铍中的硒化锌阱层进行激发而产生电子和空穴;本发明装置由光低温恒温器、激光器、光谱仪等组成,反射镜、透镜、棱镜组成光路放置在激光器之前;棱镜前面放置光低温恒温器,经棱镜转向的激光可入射到光低温恒温器中;另一透镜放置在棱镜的后面,可会聚来自光低温恒温器内硒化锌/碲化铍样品的辐射光(即荧光PL);该透镜后面放置光纤和光谱仪,光谱仪带有CCD检测器,两者连接在计算机上,能自动完成光谱检测任务。本发明方法简单,实验条件宽松,不影响晶体的结构质量。
  • 用光激发掺杂量子产生带电激子方法装置
  • [发明专利]用分子束外延工艺制备Ⅱ型量子阱的方法及设备-CN200910020717.1无效
  • 冀子武;郑雨军;赵雪琴;李炳生;徐现刚 - 山东大学
  • 2009-04-21 - 2009-09-23 - C23C14/24
  • 用分子束外延工艺制备II型量子阱的方法及设备,在衬底上生长缓冲层、隔离层、势阱层、势垒层、势阱层、隔离层及覆盖层;使用的设备为双生长室分子束外延系统,包括III-V族和II-VI族两个生长室。每个均带有固体源蒸发器、五维可调样品架、四极质谱仪以及反射式高能电子衍射仪等;两生长室之间用超高真空传输管道连接以便样品的传送;超高真空传输管道备有抽气装置,且与两端所连接的两个生长室分别用插板阀隔开;样品架和固体源蒸发器都分别接有加热丝。本发明可用于光通信、量子信息存储和处理及半导体激光器等光电器件领域。
  • 分子外延工艺制备量子方法设备

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