专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种热水系统的节水装置-CN202320392217.6有效
  • 何珂;王东培;陈青娟 - 厦门华旸建筑工程设计有限公司
  • 2023-03-06 - 2023-09-19 - F24H15/238
  • 本申请涉及建筑设施领域,提供了一种热水系统的节水装置,包括:热水管道、回水管道、出水管道、三通阀、第一阀门、第二阀门、热水循环泵、热水器;三通阀的三个接口分别连接热水管道、回水管道和出水管道,热水管道的远离三通阀的一端连接热水器出水口,第一阀门设置于出水管道上,用于控制出水管道的出水;第二阀门、热水循环泵依次连通设置于回水管道上,第二阀门用于控制回水管道的回水,回水管道远离三通阀的一端连接热水器进水口,可以解决水资源浪费的问题,由于将管道内的水进行循环加热。
  • 一种热水系统节水装置
  • [发明专利]一种用于光场调制的大规模高效有源超表面器件-CN202310570198.6在审
  • 唐婷婷;何珂;李杰;李朝阳;康同同 - 成都信息工程大学
  • 2023-05-19 - 2023-08-15 - G02F1/00
  • 本发明公开了一种用于光场调制的大规模高效有源超表面器件,其结构包括两种形式,分别为光开关器件和光反射器件,光开关器件包括自下而上依次排布的基底、相变材料薄膜和金属薄膜,相变材料薄膜的厚度小于基底的厚度,且大于金属薄膜的厚度;光反射器件包括自下而上依次排布的基底、相变材料薄膜、介质层和金属薄膜,相变材料薄膜的厚度均大于介质层的厚度和金属薄膜的厚度,且小于基底的厚度,介质层的厚度大于金属薄膜的厚度。本发明采用上述的一种用于光场调制的大规模高效有源超表面器件,解决了现有近红外波段光学器件体积大,透射率低,在波长或者亚波长尺寸上进行光束操纵的性能有限及超表面器件的结构加工困难,传输转化效率低下的问题。
  • 一种用于调制大规模高效有源表面器件
  • [发明专利]一种显示器用低张力铝腐蚀液及其制备方法-CN202310173368.7在审
  • 戈烨铭;何珂;郑武 - 江阴润玛电子材料股份有限公司
  • 2023-02-28 - 2023-08-08 - C23F1/20
  • 本发明提出了一种显示器用低张力铝腐蚀液及其制备方法,属于腐蚀液技术领域,包括以下原料:磷酸、硝酸、硫酸、乙酸、稳定剂、表面活性剂、水;所述稳定剂的制备方法如下:S1.将海藻酸钠溶于水后,滴加氯化钙溶液,乳化,得到纳米球;S2.将纳米球加入乙醇溶液中,加入硅烷偶联剂,加热搅拌反应,得到双键改性纳米球;S3.将双键改性纳米球、甲基丙烯酸二甲胺基乙酯和引发剂混合,加热搅拌反应,离心,过滤,洗涤,得到改性纳米球;S4.将改性纳米球加入有机溶剂中,加入碱和烷基氯代烃,加热搅拌反应,离心,过滤,洗涤,干燥,得到稳定剂。与现有铝腐蚀液相比,对金属铝蚀刻速率高,反应稳定,无残留,基本无侧蚀现象,具有广阔的应用前景。
  • 一种显示器用张力腐蚀及其制备方法
  • [发明专利]一种电子级氢氧化钾的制备工艺-CN202110708886.5有效
  • 戈烨铭;何珂;汤晓春 - 江阴润玛电子材料股份有限公司
  • 2021-06-25 - 2023-08-04 - C01D3/16
  • 本发明涉及一种电子级氢氧化钾的制备工艺,包括依次且连续进行的如下步骤:将氯化钾水溶液以恒定流速依次通过第一螯合树脂、第二螯合树脂进行吸附得到氯化钾高纯溶液,后浓缩得氯化钾晶体,将氯化钾晶体中加入纯水溶解,溶解后经双极膜电渗析系统处理后得到低浓度氢氧化钾溶液,最后加热浓缩得到电子级氢氧化钾。本发明的电子级氢氧化钾的制备工艺可使金属阳离子Fe2+,Ca2+,Mg2+,Ni2+,Zn2+≤100ppb,Na+≤50ppm,且该制备工艺简单易操作,可连续大规模生产高浓度高纯度电子级氢氧化钾。
  • 一种电子氢氧化钾制备工艺
  • [发明专利]音乐筛选方法、装置、设备及介质-CN202011343928.1有效
  • 何珂 - 腾讯科技(深圳)有限公司
  • 2020-11-26 - 2023-07-25 - G06F3/0481
  • 本申请公开了一种音乐筛选方法、装置、设备及介质,涉及互联网技术领域。该方法包括:显示音乐筛选界面,音乐筛选界面上显示有二维坐标系,二维坐标系的第一维度对应第一音乐属性,二维坐标系的第二维度对应第二音乐属性,第一音乐属性与第二音乐属性是不同的音乐属性;响应于二维坐标系上的触发操作,获取触发操作的触发位置;显示筛除出的目标音乐,目标音乐的第一音乐属性与触发位置在第一维度的坐标对应,目标音乐的第二音乐属性与触发位置在第二维度的坐标对应。本申请提供的方法,通过在二维坐标系上进行的触发操作,可以筛选出符合用户模糊偏好的目标音乐,满足了用户的模糊筛选需求。
  • 音乐筛选方法装置设备介质
  • [发明专利]集成电路用硅表面碱性清洗剂-CN202310163005.5在审
  • 戈烨铭;何珂 - 江苏中德电子材料科技有限公司
  • 2023-02-24 - 2023-07-14 - C11D1/66
  • 本发明公开了集成电路用硅表面碱性清洗剂,以下重量份原料组成:水100份,螯合剂0.01‑4份,防腐剂0.06‑0.1份,缓蚀剂1‑4份,表面活性剂0.8‑1份;防腐剂的制备工艺包括以下步骤:将1,3‑二甲基丁胺和羟甲基海因加入含有催化剂Ag2CO3的去离子水中,并在100℃的油浴环境下反应,并不断揽拌,反应3‑6h;反应结束后,冷却,对反应物减压过滤,得到的固体产物用蒸溜水洗涂数次,放入45℃真空干燥箱干燥2‑6h,从而得到防腐剂,本发明清除液中的防老剂还兼具着很好的抗菌性能,抑制细菌在清除液内滋生,进一步提高清除液的使用寿命。
  • 集成电路表面碱性洗剂
  • [发明专利]一种柔性面板用光刻胶清洗剂及其生产工艺-CN202110646419.4有效
  • 汤晓春;何珂;戈烨铭 - 江阴润玛电子材料股份有限公司
  • 2021-06-10 - 2023-07-04 - G03F7/42
  • 本发明公开了一种柔性面板用光刻胶清洗剂及其生产工艺,属于清洗剂技术领域。其本发明提供的柔性面板用光刻胶清洗剂包括以下重量百分比的组分:1.5‑9.5%季铵氢氧化物、0.5‑16.5%水、4.5‑21.5%异丙二醇单苄基醚、0.5‑5.5%缓蚀剂,余量为有机溶剂。且本发明利用了4‑羟基丁酸、二乙烯三胺、苄氯、肉桂醛和γ‑(2,3‑环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷逐步反应生成缓蚀剂,并在季铵氢氧化物光刻胶清洗剂中引入了该缓蚀剂,因该缓蚀剂中的硅氧烷链和曼妮希碱、苯环、咪唑啉的结构特性,使得其极易在铜箔或铝箔表面形成致密的保护膜,避免了季铵氢氧化物对铜箔或铝箔的腐蚀,且对光刻胶高效清洗。
  • 一种柔性面板用光刻胶清洗剂及其生产工艺

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