专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种GaAs/Si外延材料的MOCVD制备方法-CN201410514645.7有效
  • 王俊;胡海洋;贺云瑞;王琦;段晓峰;黄永清;张霞;任晓敏 - 北京邮电大学
  • 2014-09-29 - 2018-01-23 - H01L21/205
  • 本发明提供一种GaAs/Si外延材料的MOCVD制备方法,包括在清洁的单晶硅衬底上制作GaAs低温成核层;在所述GaAs低温成核层上制作GaAs中温缓冲层;在所述GaAs中温缓冲层上制作GaAs第一高温缓冲层;在所述GaAs第一高温缓冲层上制作GaAs第二高温缓冲层;在所述GaAs第二高温缓冲层上制作GaAs变温缓冲层;在所述GaAs变温缓冲层上制作多层量子点位错阻挡层;在所述多层量子点位错阻挡层上制作应变插入层;在所述应变插入层上制作GaAs外延层。本发明能够大面积、均匀、高重复性地完成材料生长和制备,降低所生长材料的位错密度,成本更加低廉,更适合产业化的需求。
  • 一种gaassi外延材料mocvd制备方法
  • [发明专利]一种硅基量子点激光器材料的MOCVD制备方法-CN201410221660.2有效
  • 王俊;胡海洋;贺云瑞;邓灿;王琦;段晓峰;黄永清;任晓敏 - 北京邮电大学
  • 2014-05-23 - 2017-11-28 - C23C16/30
  • 本发明提供一种硅基量子点激光器材料的MOCVD制备方法,利用MOCVD方法依次进行如下步骤的材料制备,包括在清洁的单晶硅衬底上制作GaAs低温成核层;在所述GaAs低温成核层上制作GaAs高温缓冲层;在所述GaAs高温缓冲层上制作应变超晶格结构;在所述应变超晶格结构上制作n型欧姆接触层;在所述n型欧姆接触层上制作n型限制层;在所述n型限制层上制作下波导层;在所述下波导层上制作多层量子点有源区;在所述多层量子点有源区上制作上波导层;在所述上波导层上制作p型限制层;在所述p型限制层上制作p型欧姆接触层。本发明能够大面积、均匀快速、高重复性地完成材料生长和制备,成本更加低廉,更适合产业化的需求。
  • 一种量子激光器材料mocvd制备方法
  • [发明专利]一种超稳定大功率脉冲调制的装置和方法-CN201510472663.8有效
  • 黄永清;崔恒善 - 北京无线电测量研究所
  • 2015-08-04 - 2017-10-24 - H05H7/02
  • 本发明涉及一种超稳定大功率脉冲调制的装置和方法,其中超稳定大功率脉冲调制的装置,与脉冲变压器和速调管相连,包括控制模块、电源模块和放电模块;控制模块包括配电组合1、辅助电源组合、调制器控保组合、示波器组合、6个聚焦磁场电源组合和1个交流静变电源组合;电源模块包括配电组合2、偏磁电源组合、闸流管灯丝电源组合、速调管灯丝电源组合、无源功率因数校正组合和充电电源,其中充电电源包括充电电源组合1和充电电源组合2;放电模块包括PFN、闸流管放电开关、RD吸收电路和PFN远端电压采样电路;本发明工作稳定度更高且性价比好,能够满足电子直线加速器对微波功率源的需求。
  • 一种稳定大功率脉冲调制装置方法

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