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[实用新型]一种集成电路和碳化硅外延炉控制系统-CN202321367866.7有效
发明人：董其赞;向常汉;肖蕴章;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2023-05-31 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H01R12/51 文献下载
摘要：本申请提出一种集成电路和碳化硅外延炉控制系统，集成电路包括：PCB基板、PCB走线，以及与碳化硅外延炉中的工作设备相匹配的插头；插头焊接在PCB基板上，PCB走线敷设在PCB基板上；插头之间通过PCB走线电连接；插头与插头相匹配的工作设备进行信号传输。采用本申请的技术方案，将与碳化硅外延炉中的工作设备相匹配的插头集成在PCB基板上，在进行碳化硅外延炉的控制系统的装配时，直接将各个工作设备连接到集成电路上即可，利用集成电路实现各个工作设备之间的信号交互，提高了碳化硅外延炉的控制系统的装配效率。
一种集成电路碳化硅外延控制系统

[发明专利]一种开放式连续生长碳纳米材料的设备及制备方法-CN201811222119.8有效
发明人： 钟国仿;张灿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2018-10-19 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C01B32/186 文献下载
摘要：本发明公开一种开放式连续生长碳纳米材料的设备及制备方法，其中设备包括金属箔带进料系统、CVD系统和收集系统。方法是将经过预处理或者未经任何预处理的金属箔带通过金属箔带进料系统连续输送进入化学气相沉积系统，在该系统中经化学气相沉积方法在金属箔带表面沉积所需的碳纳米材料，然后通过收集系统直接收集或者通过集成到后处理系统中，直接对碳纳米材料进行后处理，甚至直接生产碳纳米材料终端产品。本发明中的所有系统均置于开放的大气中，而非隔绝空气的密封空间内。可实现每天24小时连续不间断运行，极大提高碳纳米材料的生长效率。
一种开放式连续生长纳米材料设备制备方法

[发明专利]一种机械手柄、机械手组件及镀膜设备-CN202210751814.3有效
发明人：黄帅帅;刘亮辉;徐鑫;刘永明;肖蕴章;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-06-28 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供一种机械手柄、机械手组件及镀膜设备，涉及化学气相沉积领域。机械手柄包括遮蔽件和承载件，承载件与遮蔽件相连，承载件位于遮蔽件的下方，承载件具有用于承载晶圆托盘的承载面；其中，遮蔽件的底面与承载面之间的距离大于晶圆托盘的厚度。在机械手柄取放晶圆的过程中，盛装有晶圆的晶圆托盘由承载件承载，同样位于遮蔽件下方。遮蔽件对晶圆形成遮蔽，能够降低副反应产物掉落在晶圆上的可能性，保证晶圆的质量。机械手组件能够快速、高效地调节俯仰角度、水平角度、悬臂长度，且配重件可以改变机械手组件的固有频率，有效减少机械手组件在行进过程中的振动幅度。
一种机械手柄机械手组件镀膜设备

[发明专利]一种搬运机构-CN202111598067.6有效
发明人：徐鑫;肖蕴章;杨方;刘亮辉;经军辉;黄帅帅;刘佳明;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： C23C16/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种搬运机构，涉及化学气相沉积设备领域，搬运机构包括第一驱动模组、第一导向模组、第二驱动模组、第二导向模组及抓取模组，抓取模组设于第二导向模组上，第一驱动模组包括第一驱动组件及第一传动组件，第一驱动组件与第一传动组件连接，第二导向模组连接于第一传动组件上，第一导向模组包括第一滑轨、第一滑块、罩设件及第一连接件，罩设件设于机架上，罩设件内形成容置腔，第一滑轨设于容置腔，第一滑块滑动设于第一滑轨上，且位于容置腔内，第一连接件连接于第一滑块上，且一端与第二导向模组连接，第二驱动模组与第二导向模组连接，搬运机构造价相对低廉，有利于降低生产成本。
一种搬运机构

[发明专利]一种镀膜设备-CN202111597018.0有效
发明人：经军辉;肖蕴章;黄帅帅;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2021-12-24 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C30B25/14 文献下载
摘要：本发明提供一种镀膜设备，涉及化学气相沉积技术领域。镀膜设备包括壳体、机械手腔体、反应室、气路组件和驱动组件；壳体与机械手腔体相连，壳体上接有柔性管道；反应室位于壳体内，反应室朝向机械手腔体的一侧设有进气通道；气路组件穿设于柔性管道内，并与柔性管道密封连接，气路组件位于反应室朝向机械手腔体的一侧；驱动组件与气路组件相连。镀膜设备将气路组件和机械手腔体设置在反应室的同一侧，不影响机械手取放反应室内的物品，在维护时仅需将壳体远离机械手腔体的一端打开，即可取出反应室内部的零件进行打磨清洗，有效地降低了维护的总耗时。此外，机械手不经过副反应产物聚集区，避免疏松的副反应产物掉落在晶圆表面，提高产品良率。
一种镀膜设备

[发明专利]一种出气管路结构及反应设备-CN202210717467.2有效
发明人：肖蕴章;黄帅帅;张存园;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-06-23 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： C23C16/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种出气管路结构及反应设备，涉及化学气相沉积领域，出气管路结构，连接于内部设有反应室的石英筒上，包括套管、导气流道、升降机构、出气管道及封盖，套管设于石英筒内，且靠近反应室的出气侧设置，导气流道设于套管内，且一端与反应室的连通，升降机构与导气流道相连，升降机构用于带动导气流道进行升降，以切换导气流道与反应室的连通状态，出气管道设于套管上，且与导气流道远离反应室的一端相对，封盖盖设于套管背离反应室的一端。机械手取放晶圆时，导气流道在升降机构的带动下与反应室断开连通，因此不会经过有副反应发生的导气流道，从而降低了因掉落物而造成的晶圆表面的缺陷数量和缺陷密度，提高了晶圆的良率。
一种出气管路结构反应设备

[发明专利]一种石墨托盘状态检测方法、装置、系统和终端设备-CN202210832449.9有效
发明人：向常汉;肖蕴章;黄帅帅;李长峰;张存园;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-07-14 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C30B29/36 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种石墨托盘状态检测方法、装置、系统和终端设备，该石墨托盘状态检测方法通过传感器检测沿石墨托盘周向边缘开设的一个沟槽的宽度值，根据宽度值确定石墨托盘对应的可用等级，基于可用等级确定石墨托盘的使用状态。本申请不仅有利于确定石墨托盘的使用状态，从而确定石墨托盘的可重复使用次数，还可以使检测过程的稳定性更高，逻辑实现更加简单清晰，并且可以降低检测成本。
一种石墨托盘状态检测方法装置系统终端设备

[发明专利]一种缺陷检测设备、方法及半导体外延设备-CN202211652073.X在审
发明人：王泽桦;钟国仿;黄帅帅;徐鑫;经军辉;肖蕴章;陈炳安 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本申请提供一种缺陷检测设备、方法及半导体外延设备，应用于半导体技术领域，该设备包括照明装置、检测装置以及控制器，控制器分别与照明装置以及检测装置通信连接，检测装置用于在预设检测位中存在待检外延晶圆时输出检测信号，控制器用于响应于检测信号控制照明装置开启，以使照明装置提供照射待检外延晶圆的照射光线，检测装置还用于对待检外延晶圆中的亮点进行计数，以得到因掉落物导致的缺陷的数量，与现有技术相比，本申请提供的技术方案仅针对待检外延晶圆中掉落物引起的缺陷进行检测，不受其他种类缺陷的影响，能够快速、高效地完成待检外延晶圆中掉落物引起的缺陷的检测。
一种缺陷检测设备方法半导体外延

[发明专利]晶圆传输方法-CN202211699392.6在审
发明人：黄帅帅;肖蕴章;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B08B5/02 文献下载
摘要：本申请提供了一种晶圆传输方法，在一个晶圆传输周期中加入传输室除尘步骤，且除尘步骤是在第一密封阀与第二密封阀均关闭的期间进行的，可以是在晶圆在反应室中反应生长的期间，也可以是在整个传输开始之前，也可以二者兼有，传输室除尘时，向传输室通入惰性气流，将空间内的灰尘杂质吹起来成为悬浮状态，然后再将空间内的气体与杂质的混合物负压抽走，极大程度地降低传输腔内灰尘和杂质的浓度，避免传输腔室内灰尘和杂质的累积，使传输室内始终处于干净的状态。解决了现有技术中传输室中积累的灰尘和杂质影响晶圆表面质量的问题。
传输方法

[发明专利]一种外延反应设备-CN202210072642.7有效
发明人：肖蕴章;黄帅帅;刘亮辉;杨方;刘佳明;徐鑫;经军辉;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：本申请提供了一种外延反应设备，涉及外延层工艺设备技术领域。外延反应设备包括传送装置及至少一反应装置；反应装置包括高温反应室、供气模组及抽气模组，高温反应室用于为晶圆提供加工时所需的环境条件，供气模组和抽气模组相对设置于高温反应室，供气模组用于供应反应气体，抽气模组用于抽取残留的气体；传送装置设置于高温反应室及与供气模组位于同一侧，传送装置用于取放晶圆。本申请提供的外延反应设备，有效解决了副产物掉落至晶圆的风险问题。另外在进行清洁维护时，省去了传送装置和供气模组分离的工序，简化工序，降低成本，操作可靠，提高了生成效率。
一种外延反应设备

[实用新型]一种法兰组件及半导体设备-CN202223566394.6有效
发明人：李亚强;王泽桦;肖蕴章;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： F16K3/06 文献下载
摘要：本申请公开了一种法兰组件及半导体设备；该法兰组件包括法兰本体；法兰本体上开设有连通通道；连通通道连通第一腔室和第二腔室；连通通道靠近第二腔室的一侧设置有密封阀；法兰组件还包括挡板组件；挡板组件包括挡板；挡板位于第一腔室内；挡板能够相对连通通道移动，以实现对连通通道的遮挡或解除遮挡。本申请的法兰组件，当晶圆在第一腔室内进行反应时，挡板移动至遮挡连通通道的状态，其为连通通道和密封阀创造了独立空间，有效避免了连通通道和密封阀暴露在第一腔室的反应环境中，从根源上解决了连通通道内和密封阀周围附着副产物及尾气衍生物的问题；当连通通道的密封阀打开时，不再有颗粒物飘散至晶圆表面，有效保证了晶圆的表面质量。
一种法兰组件半导体设备

[发明专利]电气控制系统-CN202211699178.0在审
发明人：董其赞;向常汉;刘永明;肖蕴章;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G05B19/05 文献下载
摘要：本申请涉及一种电气控制系统，包括：可编程逻辑控制器、温度控制模块、第一运动控制模块、水路检测模块和气体控制模块；其中，可编程逻辑控制器分别与温度控制模块、第一运动控制模块、水路检测模块和气体控制模块通信连接，用于实现对碳化硅外延炉运行的温度、运动、水路和气体的控制。如此，采用可编程逻辑控制器进行控制，能够有效提高控制的精度和可靠性，实现产品制备过程中精准的电气控制，进而提升产品质量。
电气控制系统

[发明专利]冷却系统的动态调节控制方法、装置、系统及外延设备-CN202211652053.2在审
发明人：向常汉;董其赞;肖蕴章;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： F25D17/02 文献下载
摘要：本申请涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种冷却系统的动态调节控制方法、装置、系统及外延设备。该冷却系统的动态调节控制方法包括：获取冷却系统的水温；根据冷却系统的水温，调节变频器的运行频率；以及根据变频器的运行频率，调节冷却系统的循环水泵的驱动频率。这种冷却系统的动态调节控制方法实时采集冷却系统中冷却水的温度，并根据冷却水的实时温度对应调节变频器的运行频率，从而使得变频器对循环水泵的输出驱动频率进行对应调节，如此可以更加契合碳化硅外延设备当前的降温需求，保障冷却系统的管路运行在合理的温度范畴，从而有效保证冷却系统的冷却效果，进而提高外延设备使用过程的可靠性。
冷却系统动态调节控制方法装置系统外延设备

[实用新型]一种法兰及半导体设备-CN202222711309.4有效
发明人：肖蕴章;黄帅帅;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： C30B29/36 文献下载
摘要：本申请公开了一种法兰及半导体设备；该法兰同轴连接于具有温差的端面上；端面划分为高温区和低温区；法兰包括：主体，形成水冷腔；水冷腔划分为第一区域和第二区域；进水管，连通于第一区域；出水管，连通于第二区域；其中，第一区域位于高温区所在的一侧；第二区域位于低温区所在的一侧。本申请的法兰，实现了冷却水从法兰的高温度的第一区域向低温度的第二区域供应的效果，法兰的第一区域首先接触到冷却水，并得到填充，实现了法兰的温度高的区域快速水冷的效果，避免了法兰的温度高的区域温度升高过快，造成烧蚀的弊端；同时保证了法兰的温度高的区域的散热性，提升了法兰的寿命和可靠性，避免了温度不均匀造成法兰变形量增加的弊端。
一种法兰半导体设备

[发明专利]一种反应室及反应装置-CN202111361303.2有效
发明人：肖蕴章;徐鑫;黄帅帅;刘亮辉;刘佳明;陈炳安;钟国仿 -专利权人：深圳市纳设智能装备有限公司
申请日： 2021-11-17 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C16/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种反应室及反应装置，包括中空发热件、旋转台、防护板组件及分隔件，所述旋转台可转动的设于所述中空发热件的内腔中，所述旋转台用于承载晶圆，所述防护板组件设于所述旋转台的两侧，所述分隔件架设于所述防护板组件上，所述分隔件用于与所述防护板组件配合，在所述内腔中分隔出反应腔，所述反应腔将所述旋转台包围，且所述内腔的表面不暴露于所述反应腔中。通过反应腔将托盘包围，使其不暴露于结构复杂、成本高昂的中空发热件内表面。反应气体从反应腔中流过沉积，不会在中空发热件表面产生沉积。仅需更换结构简单、成本较低的前防护板、后防护板与分隔件即可，维护便利性好，且降低了反应室维护的成本。
一种反应装置

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