专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种单晶硅片生产中用的硅片喷水管路-CN201721171697.4有效
  • 郭光灿;范强;马龙峰 - 麦斯克电子材料有限公司
  • 2017-09-13 - 2018-05-11 - B24B41/00
  • 一种单晶硅片生产中用的硅片喷水管路,该管路由一个螺纹接头、一个喷水头、若干直接头和若干三通接头组合而成,各部件之间通过相互配合的球面凸接头球面凹接头形成可拆卸转动连接。本实用新型不需要安装支架,通过螺纹接头、喷水头、若干直接头和若干三通接头根据需要组合连接而成,并将其固定安装在设备需要的位置,通过增减直接头和三通接头来调节管路的长短,各部件之间通过互相配合的球面凸接头与球面凹接头连接,从而使得其喷水方向能够根据需要随意调节,便于实现喷水的自动化。
  • 一种单晶硅生产中用硅片喷水管路
  • [实用新型]一种半导体量子器件-CN201720693828.9有效
  • 李海欧;王柯;袁龙;曹刚;郭光灿;郭国平 - 中国科学技术大学
  • 2017-06-14 - 2018-04-10 - H01L29/778
  • 本实用新型提供了一种半导体量子器件,包括GaAs衬底;所述GaAs衬底表面设置有二维电子气导通平台;所述二维电子气导通平台中间设置有二维电子气窄带平台;所述第一纳米窄带与第二纳米窄带宽度方向的两侧设置有量子点小电极;所述二维电子气导通平台的端部沉积有欧姆接触电极;所述GaAs衬底的表面在二维电子气导通平台的外围设置有金属栅极;所述金属栅极与所述量子点小电极一端相接触。与现有技术相比,本实用新型通过蚀刻二维电子气导通平台形成第一纳米窄带与第二纳米窄带,将肖特基电极下方的大部分二维电子气直接移除,浅刻蚀量子点拥有比传统结构量子点低一个量级的低频电荷噪声,为量子比特和量子计算研究提供了一个新的结构体系。
  • 一种半导体量子器件
  • [实用新型]空穴型半导体异质结霍尔棒-CN201720754071.X有效
  • 李海欧;袁龙;王柯;曹刚;郭光灿;郭国平 - 中国科学技术大学
  • 2017-06-26 - 2018-04-10 - H01L43/06
  • 本实用新型公开了空穴型半导体异质结霍尔棒。其包含非掺杂GaAs/AlGaAs异质结基片,其由下到上依次包括非掺杂GaAs衬底、非掺杂AlGaAs层和表面非掺杂GaAs盖帽层;第一至第五欧姆接触电极,均依次穿过表面非掺杂GaAs盖帽层和非掺杂AlGaAs层,进入非掺杂GaAs衬底至少5nm,第三、第五欧姆接触电极之间的连线与第一、第四欧姆接触电极之间的连线垂直;第二、第三欧姆接触电极之间的连线与第一、第四欧姆接触电极之间的连线平行;绝缘层,其覆盖表面非掺杂GaAs盖帽层、第一至第五欧姆接触电极;顶栅极,其设置在绝缘层上,并且其水平投影与第一至第五欧姆接触电极均有交叠。
  • 空穴半导体异质结霍尔
  • [实用新型]空穴型半导体电控量子点器件和装置-CN201720754015.6有效
  • 李海欧;袁龙;王柯;张鑫;郭光灿;郭国平 - 中国科学技术大学
  • 2017-06-26 - 2018-03-02 - H01L29/66
  • 本实用新型公开了空穴型半导体电控量子点器件。其包含非掺杂GaAs衬底(101)、非掺杂AlGaAs层(102)和表面非掺杂GaAs盖帽层(103);欧姆接触源极(201)和漏极(204),依次穿过表面非掺杂GaAs盖帽层(103)和非掺杂AlGaAs层(102),进入非掺杂GaAs衬底(101)至少5nm;至少两个量子点小电极(402),位于欧姆接触源极(201)和漏极(204)之间,处于表面非掺杂GaAs盖帽层上(103);绝缘层(500),覆盖表面非掺杂GaAs盖帽层(103)、量子点小电极(402)、以及欧姆接触源极(201)和漏极(204)的至少一部分;和栅极纳米条带(602),设置在绝缘层(500)上,并且水平投影与欧姆接触源极(201)、漏极(204)以及量子点小电极(402)均有交叠。还公开了一种量子点装置。
  • 空穴半导体量子器件装置
  • [发明专利]一种室温、极低温两用的宽频带低噪声放大器-CN201510350930.4有效
  • 郭国平;郑智雄;李海鸥;曹刚;肖明;郭光灿 - 中国科学技术大学
  • 2015-06-23 - 2018-01-30 - H03F1/26
  • 本发明公开了一种室温、极低温两用的宽频带低噪声放大器,包括用于降低赝高电子迁移率晶体管PHEMT在一定工作频带内输入的反射损耗与噪声的输入匹配电路;用于给PHEMT提供所需偏置电压和电流并控制放大器整体功耗保持在最低门限水平、提升放大器稳定性,以及使放大器在一定工作频带内产生的增益高且平坦的级间匹配电路;以及用于降低PHEMT在一定工作频带内输出反射损耗的输出匹配电路;其中,所述输入匹配电路、级间匹配电路与输出匹配电路依次串联。该放大器能在室温和极低温下稳定工作,在所设计的较宽的工作频带内实现信号放大并抑制噪声,并且在极低温下所产生的功耗较低,不会引起制冷系统温度升高。
  • 一种室温低温两用宽频低噪声放大器

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