专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于弯曲晶圆的传送模块-CN201910553474.1有效
  • 吴铭栋;谢元智;赵兰璘;蔡嘉雄 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2014-02-17 - 2021-08-24 - B24B37/30
  • 一种晶圆研磨系统,包括在一个端部具有吸持板的机械臂和在机械臂的范围内的工作台。工作台的上表面具有用于吸持和保持晶圆的真空表面。连接到机械臂的推动器在吸持板的外围延伸。推动器使晶圆在工作台的上表面上变平,从而允许工作台通过吸持力来保持晶圆,否则所述晶圆太弯曲以致于不能以这种方式来保持。此外,工作台可以具有相对于晶圆较小的真空区域,真空区域是增加可以容许的晶圆弯曲的幅度的另一种方式。研磨系统可以使用减小的真空区域概念以允许定位工作台保持弯曲的晶圆并且可以使用推动器概念允许卡盘工作台保持弯曲的晶圆。本发明还提供了用于弯曲晶圆的传送模块。
  • 用于弯曲传送模块
  • [发明专利]用于混合晶圆接合的方法-CN201310485415.8有效
  • 刘丙寅;刘人诚;陈晓萌;黄信华;林宏桦;赵兰璘;蔡嘉雄 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2013-10-16 - 2017-09-08 - H01L21/60
  • 公开一种用于混合晶圆接合的方法。在一个实施例中,公开了一种方法,包括在至少两个半导体衬底之上的介电层中形成金属焊盘层;对半导体衬底执行化学机械抛光,以暴露金属焊盘层的表面,并且平坦化介电层,以在每个半导体衬底上形成接合表面;对至少两个半导体衬底执行氧化工艺,以氧化金属焊盘层,形成金属氧化物;执行蚀刻以去除金属氧化物,使金属焊盘层的表面从至少两个半导体衬底中的每个的介电层的接合表面凹陷;使至少两个半导体衬底的接合表面在物理上接触;以及执行热退火,以在半导体衬底的金属焊盘之间形成接合。公开了附加方法。
  • 用于混合接合方法

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