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[发明专利]空白掩模版的制造方法及系统-CN202310962116.2在审
发明人： 林岳明 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2023-06-16 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种空白掩模版的制造方法及系统，经过脉冲激光沉积、性能检测、激光表面处理(激光去膜或者先激光去膜后激光抛光)这些步骤的循环执行，脉冲激光沉积工艺的靶材利用率高，能够保证最终形成的空白掩模版的性能达到目标，从而提高了空白掩模版的制造良率和制造效率。进一步地，通过对待废弃的掩模版进行激光表面处理，从而回收其中的掩模基板，并基于回收的掩模基板来制造空白掩模版，整个过程中均通过激光工艺来实现，不需要使用湿法工艺的介入，解决了现有空白掩模版的制造方法中存在的费用较高、工艺时间较长及湿法工艺带来的环境污染等问题。
空白模版制造方法系统

[发明专利]掩模基板的再生方法及系统-CN202310962129.X在审
发明人： 林岳明 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2023-06-16 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模基板的再生方法及系统，采用先激光去膜后激光抛光的方法，去除掩模基板上的光刻胶、金属膜、金属化合物膜等掩模材料，整个过程中均通过激光工艺来实现，不需要使用湿法工艺的介入，因此能解决了现有掩模基板的再生方法中存在的费用较高、工艺时间较长及湿法工艺带来的环境污染等问题。同时，在去除掩模材料的过程中在线实时检测表面粗糙度，并基于在线实时检测结果调整激光表面处理工艺，进而提高回收得到的再生掩模基板的良率，降低生产成本。
掩模基板再生方法系统

[发明专利]平坦化方法及化学机械抛光装置-CN202311040471.0在审
发明人：冯涛;季明华;林岳明;任雨萌;李元贞 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2023-08-17 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种平坦化方法及化学机械抛光装置。其中，所述平坦化方法是采用化学机械抛光工艺平坦化目标基底，但与现有技术不同的是，本发明在平坦化的过程中通入的抛光液包括含氟液体及表面活性物质，且未包含磨料。所述含氟液体及表面活性物质能够增强抛光液与目标基底的化学反应，有利于剥离目标基底表面的粗糙颗粒。所述抛光液中未设置磨料，不仅可以避免磨料对目标基底亚表面的损伤，提高抛光质量，还能够降低抛光液的制备成本。此外，为确保平坦化效果，本发明还引入了高频波。即，在平坦化过程中利用高频波振动抛光液，使得抛光液内形成空化现象和声波流现象，从而有效剥离并去除目标基底表面的粗糙颗粒，提高平坦化效果。
平坦方法化学机械抛光装置

[发明专利]掩模版的制造方法及系统-CN202310720627.3有效
发明人： 林岳明 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2023-06-16 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模版的制造方法及系统，在同一工艺机台上利用脉冲激光进行脉冲激光沉积来制造空白掩模版并进一步利用同一激光器产生的脉冲激光对空白掩模版进行激光直写，获得具有所需图案的掩模版，能够实现掩模版的自动化制造，且工艺简单，制造成本低，生产效率高，掩模版的性能稳定，良率高，工艺机台设备成本低，且集成度高。
模版制造方法系统

[发明专利]监控系统、薄膜沉积系统和薄膜产品的制造方法-CN202310425166.7在审
发明人： 林岳明 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2023-04-20 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供一种监控系统、薄膜沉积系统和薄膜产品的制造方法，该监控系统具有上监控组件和下监控组件中的一者或者两者，所述上监控组件布设在沉积腔室的外部上方，所述下监控组件布设在所述沉积腔室的外部下方；所述上监控组件用于监测所述沉积腔室中正在制造的薄膜产品的正面上的反射率和/或透射率；所述下监控组件用于监测所述薄膜产品的背面上的反射率和/或透射率；其中，所述上监控组件和/或所述下监控组件所监测到的反射率和/或透射率用于在线调整所述沉积腔室的沉积工艺参数。由此能够实现薄膜沉积工艺的在线监控，并根据监控结果实时调整沉积工艺参数，最终提高空白掩模版等薄膜产品的良率和生产效率，降低生产成本。
监控系统薄膜沉积产品制造方法

[发明专利]监控系统、薄膜沉积系统和相移薄膜产品的制造方法-CN202310425792.6在审
发明人： 林岳明 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2023-04-20 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供一种监控系统、薄膜沉积系统和相移薄膜产品的制造方法，该监控系统，通过在线监控相移薄膜产品(例如空白相移掩模版等)表面上的反射率和/或透射率，以及，在线监控相移薄膜产品的相移量，并将在线监控到的反射率、透射率和相移量之一用于在线调整制造相移薄膜产品的沉积工艺参数，进而能够提高相移薄膜产品的良率和生产效率，降低生产成本。
监控系统薄膜沉积相移产品制造方法

[实用新型]一种具有厚度检测功能的碳化硅衬底单面打磨装置-CN202320342906.6有效
发明人：郑圣君;林岳明;黄朝辉 -专利权人：扬帆半导体（江苏）有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B24B19/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具有厚度检测功能的碳化硅衬底单面打磨装置，包括打磨装置，所述打磨装置内部的上方设有电机，所述电机的下方连接有伸缩筒，所述伸缩筒的下方连接有伸缩连接杆，所述伸缩连接杆下方的两侧均设有限位固定块，两个所述限位固定块之间设有打磨盘，两个所述限位固定块的一侧均设有固定块，所述固定块与所述限位固定块之间连接有活动轴，所述打磨盘的两侧均开设有固定槽，所述固定块卡入所述固定槽内，所述固定块的内部设有插槽B，所述固定块的上端面开设有插槽A，所述固定槽的内部设有插杆，所述插杆插入所述插槽A内，所述打磨盘的内部设有弹簧槽。本实用新型通过便于安装拆卸的打磨盘，提高后续的工作效率。
一种具有厚度检测功能碳化硅衬底单面打磨装置

[发明专利]蓝宝石片自动夹持装置-CN201611033321.7有效
发明人：苗泽明;黄朝辉;林岳明 -专利权人：苏州爱彼光电材料有限公司
申请日： 2016-11-22 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：本发明涉及一种蓝宝石片自动夹持装置，包括：机架；设置于所述机架上的放片机构，用于放置蓝宝石片；位于所述放片机构一侧的挡块，第一驱动机构，具有第一驱动电机及第一传动轴，所述第一驱动电机通过驱动所述第一传动轴使所述方片机构沿水平方向移动，以使位于所述放片机构中的至少一个蓝宝石片直立落至所述挡块上；夹持旋转机构，用于使位于挡块上的蓝宝石片夹持并旋转。上述述蓝宝石片自动夹持装置能够自动对待检测的蓝宝石片进行夹持检测，操作人员无需对蓝宝石片直接接触，减少了操作人员的工作量，提高了操作人员的检测效率，并且操作人员由于无需与蓝宝石片直接接触，减少了因操作人员与蓝宝石片造成的蓝宝石片破损概率。
蓝宝石自动夹持装置

[发明专利]EUV空白掩模版制造方法和监控系统、EUV空白掩模版制造系统-CN202310425392.5有效
发明人： 林岳明 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2023-04-20 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供一种EUV空白掩模版制造方法和监控系统、EUV空白掩模版制造系统，在沉积EUV空白掩模版所需的多层反射膜、覆盖层和吸收层等膜层的过程中，能够在线实时监控EUV空白掩模版样品表面的反射率，进而根据监测结果实时调整沉积工艺参数，最终提高所制造的EUV空白掩模版的良率，降低生产成本。
euv 空白模版制造方法监控系统

[实用新型]一种高效率的碳化硅线切割装置-CN202223595293.1有效
发明人： 林岳明 -专利权人：扬帆半导体（江苏）有限公司
申请日： 2022-12-29 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： B28D1/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高效率的碳化硅线切割装置，包括操作台，所述操作台的上侧设置有固定装置与防护拿取组件，所述操作台的上侧固定连接有支撑架，所述支撑架的下侧设置线切割器，所述支撑架的下侧固定连接有喷水头，所述防护拿取组件包括：电动推杆一，所述电动推杆一固定连接在操作台的上侧外壁上；电动伸缩杆，所述电动伸缩杆固定连接在电动推杆一的输出端上。该高效率的碳化硅线切割装置通过固定装置与防护拿取组件的使用，使该装置在对碳化硅管进行切割时，能够对切割好的碳化硅片进行吸紧，在通过电动推杆一带动切割好的碳化硅片远离切割线，便于工作人员安全的取下切割好的碳化硅片。
一种高效率碳化硅切割装置

[实用新型]一种碳化硅晶锭切片及双面打磨装置-CN202320199158.0有效
发明人：郑圣君;林岳明;黄朝辉 -专利权人：扬帆半导体（江苏）有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B24B7/28 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种碳化硅晶锭切片及双面打磨装置，包括固定座，所述固定座的上方设置有支撑架，胡支撑架的中间设置有旋转定位架，所述旋转定位架的内侧设置有四个对称分布的装夹片，四个所述装夹片与旋转定位架的内壁中间均设置有装夹伸缩杆，所述旋转定位架与支撑架的两端中间均设置有旋转转轴，所述旋转转轴的一端插接在支撑架内部，其中一个所述旋转转轴的外表面设置有旋转传动齿轮。本实用新型通过旋转定位架和装夹片，可以快速的对碳化硅晶锭切片进行装夹并固定，并且通过旋转转轴可以驱动被碳化硅晶锭切片进行旋转，并在旋转碳化硅晶锭切片后通过打磨片对碳化硅晶锭切片双面进行打磨作业，有效的提供碳化硅晶锭切片的加工效率。
一种碳化硅切片双面打磨装置

[实用新型]一种易于清除表面异物的碳化硅衬底清洗装置-CN202320246396.2有效
发明人：黄朝辉;郑圣君;林岳明 -专利权人：扬帆半导体（江苏）有限公司
申请日： 2023-02-17 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： B08B1/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种易于清除表面异物的碳化硅衬底清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱上端的两侧均开设有圆形槽，两侧所述圆形槽的内部底端均通过第一弹簧滑动连接有连接杆，所述连接杆的一端固定连接有箱盖，所述箱盖的下表面固定连接有三组空心柱,三组所述空心柱的内部顶端均通过第二弹簧滑动连接有电动清洗头。本实用新型通过手动往下按箱盖，使箱盖上的三组空心柱滑动进入清洗槽内，继续往下按箱盖，使空心柱内的电动清洗头接触到碳化硅衬底的上表面，此时圆形槽内部的第一弹簧和空心柱内的第二弹簧均处于被压缩状态，手动将卡扣与卡槽配合卡接，限制清洗箱由于弹簧弹力上升，接着控制电机转动清洗碳化硅衬底表面的异物。
一种易于清除表面异物碳化硅衬底清洗装置

[实用新型]一种方便上下料的碳化硅晶锭堆叠装置-CN202320158096.9有效
发明人： 林岳明;黄朝辉;郑圣君 -专利权人：扬帆半导体（江苏）有限公司
申请日： 2023-02-08 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： B65D25/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种方便上下料的碳化硅晶锭堆叠装置，包括底座，所述底座的上方设置有顶板，所述顶板上端面的两侧安装有电机，所述电机的下方设置有丝杆，所述丝杆的外表面套设有多个螺纹块，每两个所述螺纹块外表面相对的一侧固定连接有连接板，其中若干个所述连接板的前端面固定连接有置物板，另外几个所述连接板的后端面固定连接有置物板，所述置物板的上端面均匀设置有三个圆槽，所述圆槽的内侧设置有底板，所述圆槽内壁的两侧设置有凹槽，所述凹槽的内部设置有卡块。本实用新型方便上下料，便于对碳化硅晶锭进行限位，保证了其堆叠放置的稳定性，且便于对高处的碳化硅晶锭进行下料。
一种方便上下碳化硅堆叠装置

[发明专利]一种改善光掩模石英玻璃基板表面缺陷的方法-CN202211672273.1在审
发明人：冯涛;季明华;林岳明;赵志伟 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C03B20/00 文献下载
摘要：本发明涉及石英表面加工技术领域，尤其涉及一种改善光掩模石英玻璃基板表面缺陷的方法，该方法利用激光对光掩模石英玻璃基板表面缺陷区域进行退火处理，以使光掩模石英玻璃基板表面薄层熔融，融化的石英玻璃流动使石英玻璃基板表面平整化，通过控制光掩模石英玻璃基板的表面温度至析晶温度，使光掩模石英玻璃基板表面形成物相结构层，可以使得石英玻璃基板表面的缺陷更加的平整，若未达到平坦度要求再对光掩模石英玻璃基板表面进行抛光，只需要抛光研磨掉很薄的一层就可以达到所需的平坦度要求，增加了再生重复利用的次数，提高了石英玻璃基板重复利用率和回收利用价值。
一种改善光掩模石英玻璃表面缺陷方法

[实用新型]抛光拓展装置及抛光机-CN202222803997.7有效
发明人： 林岳明;冯涛;赵志伟;季明华;黄早红 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及抛光机技术领域，具体涉及一种抛光拓展装置及抛光机，该抛光拓展装置通过设置抛光载体，抛光载体具有抛光表面，抛光表面设有可容纳抛光件的凹槽，在抛光件置于凹槽状态下，凹槽与抛光件相抵接，在抛光件抛光状态下，抛光件的待抛面与抛光平面平齐，以使抛光载体的抛光表面与抛光件的待抛面相靠近；在抛光过程中，抛光载体的抛光表面与抛光件的待抛面同时被抛光，由于抛光载体的抛光表面与抛光件的待抛面相靠近以接近于一个完整的平面，使得抛光件的待抛面边缘不会被过度打磨，防止待抛面边缘弧形发生损伤，保护了抛光件边角，提高了抛光质量。
抛光拓展装置抛光机

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