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[发明专利]掩模处理方法及装置-CN202310314404.7在审
发明人： 李洪宰 -专利权人： TES股份有限公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H10K71/16 文献下载
摘要：揭示一种用于对在有机物沉积工艺等中使用的掩模进行重复使用的掩模处理方法及掩模处理装置。根据本发明的掩模处理方法包括以下步骤：(a)在第一腔室中在掩模上形成牺牲层；(b)在将所述掩模移送到布置有基板的第二腔室后，利用所述掩模对基板进行处理；以及(c)利用干式清洁方式移除所述掩模上的牺牲层。
处理方法装置

[发明专利]气体供给单元-CN201910922349.3有效
发明人： 李洪宰 -专利权人： TES股份有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种气体供给单元，包括：背板，设置于腔室内部；簇射头，与所述背板的下部隔开设置并朝向所述腔室内部供给工艺气体或清洗气体；挡板单元，设置于所述背板与所述簇射头之间，通过中央部区域供给工艺气体并通过周边区域供给所述工艺气体或所述清洗气体；以及工艺气体供给源与清洗气体供给源，所述工艺气体供给源朝向所述挡板单元供给所述工艺气体，所述清洗气体供给源朝向所述挡板单元供给所述清洗气体。在执行针对大面积基板的各种处理工艺的基板处理装置中，在根据沉积工艺或清洗工艺而向基板处理装置的内部供给各种气体的情况下，气体供给单元可使气体均匀地在基板处理装置的内部分散。
气体供给单元

[发明专利]基板清洗装置-CN202111630325.4在审
发明人：李愚嗔;马熙铨;李洪宰 -专利权人： TES股份有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供基板清洗装置，更具体地涉及一种在单一腔体执行使基板表面的自然氧化膜和工艺气体发生反应而生成反应物的工艺和去除所述反应物的工艺的基板清洗装置。
清洗装置

[发明专利]用于病毒检测的样品预处理方法-CN201980078018.4在审
发明人： 李洪宰 -专利权人： 李洪宰
申请日： 2019-11-26 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G01N1/30 文献下载
摘要：本发明涉及一种检测病毒的方法，更具体地，涉及一种检测具有脂质双层包膜的病毒的方法，其中所述方法能够从用于掩盖全部或部分脂质双层的包膜蛋白的脂蛋白有效地暴露为包膜蛋白的表面抗原，使得被脂蛋白掩盖的表面抗原暴露，因此可以通过使用诸如抗体的探针在短时间以高灵敏度检测病毒。
用于病毒检测样品预处理方法

[发明专利]病毒感染的细胞系和动物模型的制备方法-CN201980070870.7在审
发明人： 李洪宰;金寿起;文载胜;申宝英;申珍秀;李尚揆 -专利权人：延世大学校产学协力团;延世大学校原州产学协力团
申请日： 2019-10-25 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： C12N5/071 文献下载
摘要：本发明涉及制备病毒感染的细胞系或动物模型的方法。根据本发明，由于通过胆汁酸或胆汁酸衍生物将病毒的脂质膜双层的包膜从人源的脂肪包膜变为目标动物模型来源的脂肪包膜，因此可以制备病毒感染的动物模型，其可以以临床上有用的方式使用而不受物种特异性的限制。此外，由于将病毒与胆汁酸或胆汁酸衍生物混合并在该细胞系的培养基中处理该混合物，因此该细胞系的制备方法可以获得非常高水平的被病毒感染的细胞系。另外，当使用本发明的细胞系的制备方法时，可以感染来源于各种物种和器官的细胞系，而不受病毒的物种特异性和特定组织的亲器官性的结合力的限制。
病毒感染细胞系动物模型制备方法

[发明专利]发光二极管的保护膜的沉积方法-CN201780029143.7有效
发明人： 李洪宰;金宗焕;沈愚泌;李愚嗔;尹星然;李敦熙 -专利权人： TES股份有限公司
申请日： 2017-05-16 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明是有关于一种发光二极管的保护膜沉积方法，上述保护膜沉积方法包含于基板的发光二极管的上部通过原子层沉积制程沉积第一保护膜的步骤；以及于上述第一保护膜的上部通过化学气相沉积制程沉积至少一个追加保护膜的步骤。
发光二极管保护膜沉积方法

[发明专利]发光元件的保护膜沉积方法-CN201780015710.3有效
发明人： 李洪宰;金宗焕;沈愚泌;李愚嗔;尹星然;李敦熙 -专利权人： TES股份有限公司
申请日： 2017-03-07 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：本发明涉及一种发光元件的保护膜沉积方法，所述保护膜沉积方法包括：在衬底的发光元件的上部沉积包括硅氮化物(SiNx)的第一保护膜的步骤；以及在所述第一保护膜的上部沉积包括硅氧化物(SiOx)的第二保护膜的步骤；且所述第一保护膜的厚度与第二保护膜的厚度的比率为0.2～0.4∶1。
发光元件保护膜沉积方法

[发明专利]发光二极管的保护膜的沉积方法-CN201780025729.6有效
发明人： 李洪宰;金宗焕;沈愚泌;李愚嗔;尹星然;李敦熙 -专利权人： TES股份有限公司
申请日： 2017-05-16 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：本发明涉及一种发光二极管的保护膜的沉积方法，于发光二极管的保护膜沉积方法中，上述保护膜沉积方法包含如下工序：于基板的发光二极管的上部沉积第一无机保护膜的工序；以及将内部应力比上述第一无机保护膜相对小的第二无机保护膜沉积于上述第一无机保护膜的上部的工序。
发光二极管保护膜沉积方法

[发明专利]薄膜沉积装置-CN201811548590.6在审
发明人： 李洪宰 -专利权人： TES股份有限公司
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明涉及一种薄膜沉积装置，包括：腔室，提供在基板上沉积薄膜的沉积空间；气体供给部，具备至少一个向所述基板供给原料气体与反应气体且排出残留气体的气体供给模块，具备到所述沉积空间的上部；以及基板支撑部，具备到所述沉积空间的下部，安装基板且与所述气体供给部进行相对移动；且所述气体供给模块具备向所述基板供给原料气体的一对原料气体供给通道、及相隔具备到所述一对原料气体供给通道的一侧而向所述基板供给反应气体的反应气体供给通道，且包括在所述一对原料气体供给通道之间排出残留气体的第一排气通道。本发明的薄膜沉积装置在通过原子层沉积法沉积薄膜时，可最大限度地抑制在供给处理气体的气体供给部产生粉末。
薄膜沉积装置原料气体供给气体供给部沉积空间基板供给残留气体沉积薄膜反应气体气体供给原料气体排出反应气体供给原子层沉积法基板支撑部安装基板处理气体排气通道相对移动基板腔室相隔

[发明专利]太阳能电池组件的制造方法-CN201480003963.5有效
发明人： 李洪宰 -专利权人： TES股份有限公司
申请日： 2014-07-18 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： H01L31/0747 文献下载
摘要：本发明涉及一种太阳能电池组件，其特征在于，包括：结晶硅晶片；一个以上非晶硅薄膜，其至少在所述结晶硅晶片的上部和下部之一设置；透明导电膜层，其设置于所述非晶硅薄膜的表面；电极，其设置于所述透明导电膜层的表面；及，分隔部，其将所述透明导电膜层分隔成与所述电极电连接的导电区域，以及与所述电极电气隔离的非导电区域。根据本发明的太阳能电池组件，其将表面设置的增透膜分隔为厚度相同的导电区域和厚度不同的非导电区域，而将所述导电区域与电极电连接，进而防止开路电压和填充因子的减少。
太阳能电池组件制造方法

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