专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]制作InSb红外探测器的材料结构及制备方法-CN201510573693.8在审
  • 赵晓蒙;张杨;曾一平 - 中国科学院半导体研究所
  • 2015-09-10 - 2015-12-09 - H01L31/105
  • 一种制作InSb红外探测器的材料结构及制备方法,其中所述制作InSb红外探测器的材料结构,其包括:一衬底;一复合缓冲层,其生长在衬底上;一n型InSb重掺杂层,其生长在缓冲层上;一InSb本征吸收层,其生长在n型InSb重掺杂层上;一p型InSb轻掺杂层,其生长在InSb本征吸收层上;一p型AlInSb势垒层,其生长在p型InSb轻掺杂层上;一p型InSb重掺杂层,其生长在p型AlInSb势垒层上。本发明是通过加入势垒层来阻挡电子的移动,降低了InSb红外探测器的在反偏电压下的暗电流和工作时的噪声电流,提高了InSb红外探测器的探测率和最高工作温度,为室温下工作的InSb红外探测器提供了基础。
  • 制作insb红外探测器材料结构制备方法
  • [发明专利]低偏角碳化硅同质外延材料的制作方法-CN201510180960.5在审
  • 闫果果;孙国胜;张峰;刘兴昉;王雷;赵万顺;曾一平 - 中国科学院半导体研究所
  • 2015-04-16 - 2015-07-15 - H01L21/02
  • 一种低偏角碳化硅同质外延材料的制作方法,包括如下步骤:对低偏角的衬底进行清洗并放入低压CVD设备的生长室,并将反应室抽真空;设定设备反应室压强,并向反应室通入H2和刻蚀HCl气流,开始升温;加热到刻蚀温度,对衬底进行刻蚀,去掉表面的损伤和氧化层;升高反应室温度,达到预生长温度时,通入生长气体和掺杂气体,在衬底上进行缓冲层生长;调整反应室的生长气体和掺杂气体流量,在缓冲层上进行SiC外延层生长;生长结束后,关闭反应室的生长气体、掺杂气体和刻蚀HCl气体,并停止加热,在H2氛围中冷却。本发明可以解决三角缺陷和台阶聚集问题,得到表面质量良好、无BPD缺陷的SiC外延层。
  • 偏角碳化硅同质外延材料制作方法
  • [发明专利]一种基于HBase的数据存储方法和设备-CN201310753119.1在审
  • 曾一平 - 中国移动通信集团公司
  • 2013-12-31 - 2015-07-01 - G06F17/30
  • 本发明公开了一种基于HBase的数据存储方法和设备,包括:接收来自HBase发送的包含了发生故障的Region Server中Region的标识信息的查询请求消息,根据Region的标识信息与多个数据存储副本数据节点Date Node的标识信息之间的对应关系确定发生故障的Region的标识信息对应的多个数据存储副本Date Node的标识信息,向HBase发送查询响应消息,使HBase根据查询响应消息重新选择新的Region,并将发生故障的Region内存储的数据转移至新的Region内,有效避免了新的Region在访问原Data Node上的详单数据时出现跨网络访问Data Node的问题。
  • 一种基于hbase数据存储方法设备
  • [发明专利]一种MOCVD设备中的石墨盘-CN201410641935.8在审
  • 胡强;李晋闽;王军喜;曾一平;路红喜;伊晓燕;马平;魏同波;闫建昌;纪攀峰 - 中国科学院半导体研究所
  • 2014-11-06 - 2015-02-18 - C23C16/18
  • 本发明公开了一种MOCVD设备的石墨盘,其包括至少一个片坑,所述片坑面积大于衬底面积,且为衬底面积的整数倍,所述至少一个片坑边缘具有与衬底的角相吻合的凸角,且一定数量的衬底紧密排列后正好覆盖住所述至少一个片坑。本发明提出的石墨盘上衬底和衬底之间无间隔,整个石墨盘只有一个巨型片坑,或者是只有很少几个间隔将整个石墨盘分成几个巨型片坑。无间隔的设计能够大幅度提高石墨盘的利用率。同时,采用的衬底尽量用较小的倒角或无倒角。因此能够使得巨型片坑内的方形衬底排列的更加紧密,防止片子之间有空隙。如果有空隙,和高出的边沿一样也会引起湍流,影响气流的稳定性,从而影响外延样品的晶体质量。
  • 一种mocvd设备中的石墨
  • [发明专利]塔式多片外延生长装置-CN201410412341.X在审
  • 刘兴昉;刘胜北;刘斌;闫果果;赵万顺;王雷;张峰;孙国胜;曾一平 - 中国科学院半导体研究所
  • 2014-08-20 - 2014-12-10 - C30B25/08
  • 一种塔式多片外延生长装置,包括:一塔式片架,该塔式片架包括:三个立柱,每一立柱上开有凹槽,立柱上的凹槽有多个,三个立柱相同高度位置的凹槽构成一组;托盘,其边缘厚度与每一立柱上的凹槽的高度相同,每个托盘可以稳定固定于一组凹槽中,托盘的个数与凹槽组数相同;其中将三个立柱等距竖立排列,使三个立柱分别位于一等边三角形三个顶点处,将托盘插入到立柱的凹槽内,形成多层、塔式装载的效果。本发明能够为单片直径达六至八英寸、单次装载量高达几十片的外延制备提供装置及方法支持,极大地提高工业化生产效率,如提高产能,提高气体利用率,降低能耗等。
  • 塔式外延生长装置
  • [发明专利]发光二极管响应特性的测试系统及方法-CN201410443019.3无效
  • 牛立涛;关敏;楚新波;李弋洋;曾一平 - 中国科学院半导体研究所
  • 2014-09-02 - 2014-12-03 - G01R31/26
  • 本发明提供了一种发光二极管响应特性的测试系统及方法。该测试系统包括:计算机调制模块,用于下发脉冲电压参数,并对接收到的光响应和电响应数据进行分析;脉冲电压产生模块,连接至计算机调制模块,用于依照计算机调制模块下发的脉冲电压参数,产生脉冲电压,并将该脉冲电压加载至待测试的发光二极管;以及数据采集模块,用于采集待测试的发光二极管的光响应和电响应数据,并将该光响应和电响应数据上传至计算机调制模块;其中,待测试的发光二极管,连接至脉冲电压产生模块,其在脉冲电压产生模块产生的脉冲电压的驱动下发光。本实施例能够实现脉冲电压下发光二极管光响应及电响应的同时快速测定。
  • 发光二极管响应特性测试系统方法
  • [实用新型]一种带分梳齿的棉网清洁器-CN201420378421.3有效
  • 曾一平;肖建明;黄波 - 浙江锦峰纺织机械有限公司
  • 2014-07-09 - 2014-11-12 - D01G15/46
  • 本实用新型涉及一种带分梳齿的棉网清洁器,包括有外罩,所述的外罩内设有吸尘腔,所述的吸尘腔一侧开设有吸尘口,所述的外罩上位于吸尘口前侧设有导流板,所述的吸尘腔内位于吸尘口位置设有除尘刀,其特征在于:所述的导流板的下端面上设有若干分梳齿。采用上述技术方案,本实用新型提供了一种带分梳齿的棉网清洁器,能对锡林上的纤维进行很好地梳理,从而大大提高了锡林的质量。
  • 一种梳齿清洁
  • [发明专利]光子上转换器频率响应的测试装置和测试方法-CN201410200421.9无效
  • 楚新波;关敏;牛立涛;李戈洋;曾一平 - 中国科学院半导体研究所
  • 2014-05-13 - 2014-09-03 - G01R31/00
  • 一种光子上转换器频率响应的测试装置,包括:一计算机控制模块;一光脉冲产生模块,其输入端与计算机控制模块的一输出端连接;一稳压电源,其输入端与计算机控制模块的另一输出端连接;一光子上转换器,其一输入端与稳压电源的输出端连接;一光电探测器,其光响应区接收接收光子上转换器的光输出信号;一采样示波器,其一输入端与光电探测器的输出端连接,另一输入端与光脉冲产生模块的另一输出端连接,其输出端与计算机控制模块的输入端连接。本发明能够实现对此类光子上转换器频率响应特性的检测与分析,为制备响应速度更快的光子上转换器提供检测手段和分析工具,为研制高速红外成像器件奠定基础,本发明还提供一种光子上转换器频率响应的测试方法。
  • 光子转换器频率响应测试装置方法

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