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[发明专利]废气的无害化装置-CN202211650442.1在审
发明人：中村谕;宫崎一知;江田健 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B01D53/18 文献下载
摘要：提供可用比以往少的湿式处理装置处理废气的无害化装置。无害化装置具备：前段湿式处理装置(5)；燃烧式处理装置(6)；与成膜装置(1)的工艺腔室(2A～2D)连接的气体导入线路(7A～7D)；与气体导入线路分别连接的第一流路切换装置(8A～8D)；从第一流路切换装置延伸至前段湿式处理装置的第一气体输送线路(9A～9D)；从第一流路切换装置延伸至燃烧式处理装置的第二气体输送线路(10A～10D)；以及动作控制部(15)，其控制第一流路切换装置的动作，向前段湿式处理装置输送工艺气体，并向燃烧式处理装置输送清洁气体。前段湿式处理装置的数量比多个工艺腔室少。
废气无害化装置

[发明专利]辅助区设置装置-CN202210553685.7在审
发明人：小博基司;福住幸大;坂内伸隆;宫田启雅;花房直也;田冈健;宫崎一知 -专利权人：株式会社荏原制作所;荏原冷热系统株式会社
申请日： 2022-05-19 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： F25D17/02 文献下载
摘要：本发明提供能够减少在制造半导体时使用的电能消耗的辅助区设置装置。辅助区设置装置具备：真空泵(6)，其用于从半导体制造装置的处理腔室(2)对处理气体进行排气；冷却单元(7)，其用于冷却在处理腔室(2)中使用后的第1循环液；加热单元(8)，其用于加热在处理腔室(2)中使用后的第2循环液；除害装置(10)，其用于对从真空泵(6)排出的处理气体进行除害；以及冷却液管线(12)，其供从冷却源(15)供给的冷却液流动。冷却液管线(12)具有将通过除害装置(10)、真空泵(6)及冷却单元(7)后的冷却液向加热单元(8)供给的第1下游侧管线(26)、第2下游侧管线(27)及第3下游侧管线(28)。
辅助设置装置

[发明专利]辅助区设置装置-CN202210554340.3在审
发明人：小博基司;福住幸大;坂内伸隆;宫田启雅;花房直也;田冈健;宫崎一知 -专利权人：株式会社荏原制作所;荏原冷热系统株式会社
申请日： 2022-05-19 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种能够促进辅助区内的设备之间的热利用的协作并且消除设备导入时的配管连接的繁琐性的辅助区设置装置。辅助区设置装置(5)具备：真空泵(6)，其用于从处理腔室(2)排出处理气体；冷却单元(7)，其用于对在处理腔室(2)中使用了的第1循环液进行冷却；加热单元(8)，其用于对在处理腔室(2)中使用了的第2循环液进行加热；和冷却液管线(12)，其供从冷却源(15)供给的冷却液流动。冷却液管线(12)具有将冷却液分别向真空泵(6)及冷却单元(7)供给的分配管线(21)、和将从真空泵(6)及冷却单元(7)通过了的冷却液合流并使其向冷却源(15)返回的合流返回管线(22)。
辅助设置装置

[发明专利]处理气体吸入构造及废气处理装置-CN202111436606.6在审
发明人：关根贵史;宫崎一知 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： F04B37/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止因温度降低而导致从处理气体产生生成物的处理气体吸入构造及废气处理装置。处理气体吸入构造(100)具备：双层管构造体(101)；以及对双层管构造体(101)进行加热的加热装置(102)。双层管构造体(101)具备：供处理气体流动的处理气体流路部(105)；以及配置于处理气体流路部(105)的外侧的分隔部(106)。
处理气体吸入构造废气装置

[发明专利]废气处理装置以及废气处理方法-CN201810871736.4有效
发明人： 宫崎一知;驹井哲夫;柏木诚司 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-08-02 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： F23G7/06 文献下载
摘要：本发明提供一种废气处理装置及废气处理方法，当在燃烧式废气处理装置中处理含有氢的处理气体时，该废气处理装置将处理气体和助燃性气体朝向燃烧室的内周面的切线方向吹入而形成从燃烧室内壁浮起的两种混合的圆筒状混合火焰，从而能够防止燃烧室的热损伤。一种对含有氢的处理气体进行燃烧处理而实现无害化的废气处理装置，对含有氢的处理气体进行燃烧的燃烧室(1)构成为圆筒状的燃烧室(1)，燃烧室(1)具备将处理气体和助燃性气体分别朝向燃烧室(1)的内周面的切线方向吹入的处理气体用喷嘴(3A)和助燃性气体用喷嘴(3B)，处理气体用喷嘴(3A)和助燃性气体用喷嘴(3B)位于与燃烧室(1)的轴线正交的同一平面上。
废气处理装置以及方法

[发明专利]废气处理装置用的燃烧头及其制造方法、以及废气处理装置用的燃烧室及其制造方法和维护方法-CN201780050830.7有效
发明人： 宫崎一知;驹井哲夫;柏木诚司;细谷和正;江田健 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-08-18 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： F23G7/06 文献下载
摘要：本发明提供一种用于实现容易维护的废气处理装置的燃烧头及其制造方法、以及具有这种燃烧头的废气处理装置用的燃烧室及其制造方法及维护方法。本发明提供一种燃烧头，其通过安装于燃烧室主体的上部而构成废气处理装置用的燃烧室，该燃烧头具有：壳体，其具有下方开口的圆筒部，并设有用于以能够拆下的方式紧固于所述燃烧室主体的紧固部；燃料用喷嘴，其用于向所述圆筒部内吹入燃料；助燃性气体用喷嘴，其用于向所述圆筒部内吹入助燃性气体；处理气体用喷嘴，其用于向所述圆筒部内吹入处理气体；和引燃器，用于点燃所述燃料和/或所述助燃性气体。
废气处理装置燃烧及其制造方法以及燃烧室维护

[发明专利]废气处理装置-CN202010847273.5在审
发明人：关根贵史;稻田高典;宫崎一知;花房直也 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-08-21 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： B01D53/79 文献下载
摘要：一种废气处理装置，用于通过使处理气体与液体接触而将处理气体无害化，该废气处理装置具备：吸入壳体，该吸入壳体具有吸入口及导出口，该吸入口吸入所述处理气体，该导出口供所述处理气体流出；液槽，该液槽接受所述吸入壳体的所述导出口侧的部分，并储存液体；以及一个或多个喷雾喷嘴，该一个或多个喷雾喷嘴配置于所述液槽内，所述吸入壳体的所述导出口配置为，与所述液槽内的液体的液面相比位于上方，所述一个或多个喷雾喷嘴的喷雾构成为，从周围对所述吸入壳体的所述导出口的周围的部分呈雾状地喷出液体。
废气处理装置

[发明专利]湿式除害装置-CN201910136961.8在审
发明人：稻田高典;细谷和正;宫崎一知;松本孝平 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2019-02-25 - 公布日： 2019-09-03 - 主分类号： F04B37/14 文献下载
摘要：提出一种能够抑制异物在处理气体的路径堆积的湿式除害装置。该湿式除害装置用于通过使处理气体与液体接触来进行无害化，具备：吸入壳体，该吸入壳体具有吸入处理气体的吸入口及与吸入口相比设置于下方并供处理气体流动的导出口；以及液膜形成部，该液膜形成部设置于吸入口与导出口之间并在吸入壳体的内壁面形成液膜。在吸入壳体中的构成比液膜形成部靠上方的部分的壁部的内部埋入有对吸入壳体进行加热的加热器。
吸入壳体处理气体液膜除害装置吸入口形成部湿式导出口加热器液体接触内壁面无害化异物壁部埋入吸入加热堆积流动

[发明专利]废气处理装置-CN201580077529.6有效
发明人： 宫崎一知;驹井哲夫;筱原丰司;柏木诚司 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-11-06 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： F23G7/06 文献下载
摘要：本发明涉及对从制造半导体器件、液晶、LED等的制造装置等排出的废气进行燃烧处理而进行无害化的废气处理装置。废气处理装置是对处理气体进行燃烧处理而进行无害化的废气处理装置，对处理气体进行燃烧的圆筒状的燃烧室(1)具备将燃料、助燃性气体和处理气体分别朝向燃烧室(1)的内周面的切线方向吹入的燃料用喷嘴(3A)、助燃性气体用喷嘴(3B)和处理气体用喷嘴(3C)，燃料用喷嘴(3A)、助燃性气体用喷嘴(3B)和处理气体用喷嘴(3C)位于与燃烧室(1)的轴线正交的同一平面上。
废气处理装置

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