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[发明专利]基板处理装置-CN201980063263.8在审
发明人：曹生贤;安成一 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：在本发明的实施方式中公开了一种基板处理装置，在所述基板处理装置中用于对准基板和掩模的对准组件的一个表面与真空腔室的本体一体地形成。因此，提供了一种对准组件，所述对准组件包括与用于形成真空腔室的外表面的本体一体地形成的板，与传统组件相比，所述对准组件减少了用于基板和掩模的精细移动和对准的工作时间，从而提高了生产效率。
处理装置

[发明专利]沉积源及具有此沉积源的沉积装置-CN201880007893.9在审
发明人：曹生贤;安成一 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-01-17 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：根据本公开内容的沉积源被设置在用于蒸发沉积材料的工艺腔室内部，以将沉积材料沉积在基板上。沉积源包括：扩散容器，所述扩散容器具有预定长度且在其中限定扩散空间，在所述扩散空间中扩散经蒸发的沉积材料；至少一个开口，所述至少一个开口形成在所述扩散容器中；喷嘴部分，所述喷嘴部分耦接至扩散容器的开口并且包括沿着扩散容器的纵向方向设置的多个喷嘴，以便注入在扩散容器中扩散的沉积材料；以及加热部分，所述加热部分安装在所述扩散容器的外部且包括加热器和热屏蔽部分，所述加热器经配置成通过加热所述扩散容器来加热容纳在所述扩散容器中的所述沉积材料，所述热屏蔽部分环绕所述加热器安装以防止加热器产生的热量向外发散。假定在扩散容器中与喷嘴部分耦接的部分相对的表面为底表面，多个喷嘴经布置成线性以便与扩散容器的底表面的纵向中心线间隔开。因此，可提高沉积源在沉积腔室内的布置方面的利用率，且可改进薄膜沉积的均匀性。
扩散容器喷嘴沉积源加热加热器沉积材料开口扩散空间热屏蔽耦接沉积材料沉积蒸发沉积材料纵向方向设置加热器安装纵向中心线薄膜沉积沉积装置扩散沉积腔工艺腔均匀性室内部发散基板环绕蒸发容纳室内配置外部改进

[发明专利]基板处理装置及使用该装置的基板处理方法-CN201780054769.3在审
发明人：曺生贤;安成一 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-09-28 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，该装置包括：工艺腔室(10)，用于提供与外界隔离的工艺环境；至少一个距离测量部，用于以非接触方式测量安装在工艺腔室(10)中的基板(S)与掩模(350)之间的距离；及紧密接触驱动部，用于在距离测量部测量基板(S)与掩模(350)之间的距离的同时通过基板(S)与掩模(350)之间的相对移动而使基板(S)和掩模(350)彼此紧密接触。因此，本发明可显著改良关于基板(S)与掩模(350)的对准及紧密接触操作的控制及可靠度，由此大大地改良基板处理的产率。
掩模基板基板处理装置距离测量部工艺腔室基板处理非接触方式测量改良工艺环境外界隔离相对移动测量基可靠度产率对准驱动

[发明专利]对准器结构和对准方法-CN201680023001.5在审
发明人：曹生贤;安成一 -专利权人： VNI斯陆深株式会社
申请日： 2016-04-01 - 公布日： 2018-04-10 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种对准器结构，通过提供用于在基板(S)和掩模(M)垂直的状态下使基板(S)和掩模(M)固定且对准的对准结构而能够在基板S和掩模M垂直的状态下良好处理基板；以及一种对准方法。本发明的对准器结构包括掩模夹紧单元(100)，被设置在工艺腔室(10)中以便夹紧掩模(M)；基板夹紧单元(200)，用于夹紧基板载体(320)，基板(S)通过静电卡盘吸住并固定到基板载体上；对准单元(400)，相对于掩模(M)而相对移动基板载体(320)，以便使由基板夹紧单元(200)夹紧的基板(S)和由掩模夹紧单元(110)夹紧的掩模M对准；以及紧密接触驱动单元，用于允许通过对准单元(400)对准的基板(S)和掩模(M)彼此紧密接触。基板可在基板(S)和掩模(M)垂直的状态下良好处理。
对准结构方法

[发明专利]一种等离子发生装置及等离子处理装置-CN201410315816.3有效
发明人： 安成一;宋尚镐 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2009-11-05 - 公布日： 2014-10-29 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子发生装置。此装置包括：绝缘板(Smn)，沿第一方向及跨过第一方向的第二方向以矩阵形式排列；金属上板，包括其上设置绝缘板并具有四角形形状的贯通孔(Hmn)；天线结构体(Tmn)，设置于各绝缘板上。天线结构体包括：第一型天线结构体，接近于金属上板的边缘而设置；第二型天线结构体，接近于金属上板的边而设置；其中，第一型天线结构体比第二型天线结构体消耗更多的电力，从而可形成均匀等离子。
一种等离子发生装置处理

[发明专利]蒸镀装置-CN201210240845.9无效
发明人：柳秉秀;蔡正在;安成一 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2012-07-11 - 公布日： 2013-01-16 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种蒸镀装置，其特征在于，包括：真空腔室；蒸镀源，其设置在上述真空腔室的内部；蒸镀源驱动部，其使上述蒸镀源相对于上述真空腔室的内部的基板进行线性移动；导向臂，其一端部引出到上述真空腔室的外部，另一端部收容与上述蒸镀源连接的动力管线，通过该导向臂的一端部来使上述动力管线引出到上述真空腔室的外部，该导向臂的另一端部能够与上述蒸镀源枢轴结合，并且该导向臂跟随上述蒸镀源的线性移动进行轴转动作的同时向长度方向滑动；以及滑动引导部，其以维持密封的状态设置在上述真空腔室和导向臂，用于引导上述导向臂的滑动。
装置

[发明专利]真空处理装置-CN200980109535.X有效
发明人： 安成一;曹生贤 -专利权人： IPS株式会社
申请日： 2009-03-17 - 公布日： 2011-02-16 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明涉及真空处理装置，具体涉及对用于LCD控制板的玻璃等基板进行所相关的蚀刻、蒸发等真空处理的真空处理装置。本发明所提供的真空处理装置包括相互连接形成对基板进行真空处理的处理空间的腔体本体以及上部盖子、设置于所述上部盖子的下侧，向所述处理空间进行气体供给的喷头部以及为了对所述喷头部的边缘部位进行支持而设置于所述腔体本体以及所述上部盖子之间的辅助盖子。
真空处理装置

[发明专利]一种等离子发生装置及等离子处理装置-CN200910211247.7无效
发明人： 安成一;宋尚镐 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2009-11-05 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子发生装置。此装置包括：绝缘板(Smn)，沿第一方向及跨过第一方向的第二方向以矩阵形式排列；金属上板，包括其上设置绝缘板并具有四角形形状的贯通孔(Hmn)；天线结构体(Tmn)，设置于各绝缘板上。天线结构体包括：第一型天线结构体，接近于金属上板的边缘而设置；第二型天线结构体，接近于金属上板的边而设置；其中，第一型天线结构体比第二型天线结构体消耗更多的电力，从而可形成均匀等离子。
一种等离子发生装置处理

[发明专利]传送装置、具有相同功能的传送室及包括具有相同功能装置的真空处理系统-CN200910160775.4无效
发明人： 安成一;杨熙范 -专利权人： IPS株式会社
申请日： 2009-07-10 - 公布日： 2010-01-13 - 主分类号： B65G49/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于传送诸如基片的待传送物体的传送装置、具有相同功能的传送室，以及包括具有相同功能装置的真空处理系统。所述传送装置包括：第一传送组件，包括：用于支撑待传送物体的第一手柄，通过旋转线性移动所述第一手柄以传送所述待传送物体的第一旋转臂单元，以及旋转式驱动所述第一旋转臂单元的第一驱动轴；以及设置为与所述第一传送组件相间隔的第二传送组件，所述第二传送组件包括：用于支撑待传送物体的第二手柄，通过旋转线性移动所述第二手柄以传送所述待传送物体的第二旋转臂单元，以及旋转驱动所述第二旋转臂单元的第二驱动轴，其中，所述第一旋转臂单元的旋转区域和所述第二旋转臂单元的旋转区域相互重叠。所述传送装置可以减少安装空间，而且可以减少所述传送室的尺寸。这将减少降低或增加所述传送室的内部压力所花费的时间，从而提高生产力。
传送装置具有相同功能包括真空处理系统

[发明专利]真空处理装置-CN200710110804.7有效
发明人：曹生贤;安成一;朴勇俊;尹大根;金娧永 -专利权人： IPS有限公司
申请日： 2007-06-08 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： B01J3/00 文献下载
摘要：一种真空处理装置，包括上壳体和下壳体，彼此可分离地连接，以形成操作空间；以及分离单元，具有凸轮单元，用于通过转动，可分离地将上壳体与下壳体相连接。
真空处理装置

[发明专利]用于制造平板显示器的设备-CN200710138189.0有效
发明人：李荣钟;崔浚泳;曺生贤;安贤焕;孙石民;安成一 -专利权人：爱德牌工程有限公司
申请日： 2005-09-30 - 公布日： 2008-01-09 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在此公开了一种平板显示器(FPD)制造设备，用于在室中建立真空气氛之后对定位在所述室中的基板执行所需的处理。所述真空室被分成室体以及上盖，以确保所述上盖的容易的开/闭操作。
用于制造平板显示器设备

[发明专利]用于制造平板显示器的设备-CN200710138190.3有效
发明人：李荣钟;崔浚泳;曺生贤;安贤焕;孙石民;安成一 -专利权人：爱德牌工程有限公司
申请日： 2005-09-30 - 公布日： 2007-12-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在此公开了一种平板显示器(FPD)制造设备，用于在室中建立真空气氛之后对定位在所述室中的基板执行所需的处理。所述真空室被分成室体以及上盖，以确保所述上盖的容易的开/闭操作。
用于制造平板显示器设备

[发明专利]用于制造平板显示器的设备-CN200710138191.8有效
发明人：李荣钟;崔浚泳;曺生贤;安贤焕;孙石民;安成一 -专利权人：爱德牌工程有限公司
申请日： 2005-09-30 - 公布日： 2007-12-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在此公开了一种平板显示器(FPD)制造设备，用于在室中建立真空气氛之后对定位在所述室中的基板执行所需的处理。所述真空室被分成室体以及上盖，以确保所述上盖的容易的开/闭操作。
用于制造平板显示器设备

[发明专利]用于制造平板显示器的设备-CN200710138192.2无效
发明人：李荣钟;崔浚泳;曺生贤;安贤焕;孙石民;安成一 -专利权人：爱德牌工程有限公司
申请日： 2005-09-30 - 公布日： 2007-12-26 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在此公开了一种平板显示器(FPD)制造设备，用于在室中建立真空气氛之后对定位在所述室中的基板执行所需的处理。所述真空室被分成室体以及上盖，以确保所述上盖的容易的开/闭操作。
用于制造平板显示器设备

[发明专利]用于制造平板显示器的设备-CN200510107980.6有效
发明人：李荣钟;崔浚泳;曺生贤;安贤焕;孙石民;安成一 -专利权人：爱德牌工程有限公司
申请日： 2005-09-30 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：在此公开了一种平板显示器(FPD)制造设备，用于在室中建立真空气氛之后对定位在所述室中的基板执行所需的处理。所述真空室被分成室体以及上盖，以确保所述上盖的容易的开/闭操作。
用于制造平板显示器设备

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