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[发明专利]一种图形化衬底及其制备方法、LED外延片-CN202211257320.6在审
发明人：张锦宏;张剑桥;向炯;张巳扬;吴先燕;卢建航 -专利权人：广东中图半导体科技股份有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2022-12-27 - 主分类号： H01L33/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种图形化衬底及其制备方法、LED外延片。制备方法包括：提供蓝宝石基板；蓝宝石基板包括层叠设置的基板本体以及金属离子掺杂层，金属离子掺杂层背离基板本体的一侧表面为蓝宝石基板正面；在蓝宝石基板正面形成掩膜层；利用曝光显影工艺对掩膜层进行图案化处理，以形成掩膜图案；基于掩膜图案，利用干法刻蚀工艺，对蓝宝石基板进行刻蚀，以在蓝宝石基板正面形多个凸起结构，凸起结构中掺杂有金属离子。本申请中，金属离子掺杂层能够吸收曝光时进入蓝宝石基板内部的光，避免出现二次曝光现象，改善掩膜图案均匀性；凸起结构中掺杂的金属离子，能够调节外延膜层的载流子浓度，减少芯片中多余电子的非辐射过程，改善芯片整体性能。
一种图形衬底及其制备方法 led 外延

[发明专利]一种图形化衬底及其光刻方法、LED外延片-CN202210841136.X在审
发明人： 吴先燕;向炯;康凯;王子荣;程颖;张剑桥;陆前军;杨瑾尧 -专利权人：广东中图半导体科技股份有限公司
申请日： 2022-07-18 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01L33/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种图形化衬底及其光刻方法、LED外延片。光刻方法包括：提供蓝宝石基板和光刻载台；在蓝宝石基板的背面和/或光刻载台的正面设置吸光介质层；在蓝宝石基板的待刻蚀表面形成光刻胶层；将蓝宝石基板放入光刻载台；利用掩膜版对光刻胶层进行曝光，以将掩膜版上的图形转移至蓝宝石基板的待刻蚀表面。通过上述方案，在对蓝宝石基板进行光刻时，光束在到达蓝宝石基板背面时能够被吸光介质层吸收，进而减少光束在蓝宝石基板背面、内部和光刻载台处的反射和折射等现象，避免反射光束对光刻胶进行二次曝光，改善光刻胶柱不均的现象，提升光刻胶柱的均匀性和一致性，进而提高图形化衬底的质量，保证外延层在图形化衬底上的生长效果。
一种图形衬底及其光刻方法 led 外延

[实用新型]一种匀胶机喷口清洗装置及匀胶机-CN202122344028.5有效
发明人：吴觉民;张剑桥;陆前军;吴先燕 -专利权人：广东中图半导体科技股份有限公司
申请日： 2021-09-27 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： B05B15/55 文献下载
摘要：本实用新型属于匀胶机技术领域，公开了一种匀胶机喷口清洗装置及匀胶机，该匀胶机喷口清洗装置设有可升降的清洗组件，将匀胶机喷口从壳体的探入口伸入壳体，而后在驱动模块的驱动下，清洗液容纳件升起，使匀胶机喷口进入清洗液容纳件的开口腔，通过清洗液补充管向开口腔补充清洗液，即可将匀胶机喷口浸入清洗液，对于连接管较短的情况，也可以增大匀胶机喷口浸入清洗液的体积，扩大了其清洗体积；在浸泡过程中，通过扰动气体输入管向开口腔充入扰动气体，加速腔体内清洗液的流动，以提高清洗效率。本实用新型提供的匀胶机采用上述的匀胶机喷口清洗装置，因此也具有高效清洁的效果，且适用于连接管较短的喷口。
一种匀胶机喷口清洗装置

[实用新型]一种微形变压力传感器及装置-CN202021065587.1有效
发明人：吕垒;陆前军;吴先燕;何志强 -专利权人：东莞市中图半导体科技有限公司
申请日： 2020-06-10 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： G01L1/18 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种微形变压力传感器及装置。该微形变压力传感器包括第一刚性衬底、第二刚性衬底、导电薄膜和两个电极；所述导电薄膜位于所述第一刚性衬底和所述第二刚性衬底之间；所述两个电极位于所述导电薄膜的两端，且分别与所述导电薄膜电连接。本实用新型实施例利用导电薄膜的微形变进行压力测量，解决了现有压力传感器形变量过大而导致压力测量存在误差的问题，使微形变过程实现为压力测量过程，保证了压力测量的准确度和精度，改善了压力测量的灵敏度。
一种形变压力传感器装置

[实用新型]一种新型监控组合分段式立杆转接装置-CN201921702871.2有效
发明人： 吴先燕 -专利权人：山东匠业新材料有限公司
申请日： 2019-10-12 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： F16M11/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型监控组合分段式立杆转接装置，包括底管和连接管，还包括顶管，所述的底管的底部固定设置有安装底座，所述底管的顶部焊接设有底管卡槽管，所述顶管的顶部焊接设置有顶部安装座，所述的连接管顶部焊接设有连接管卡槽管，所述的底管卡槽管和连接管卡槽管上均设置有L型连接卡槽，所述连接管和顶管的底端内侧均设置有与所述L型连接卡槽配合卡接的内卡栓。本实用新型与现有技术相比的优点在于：安装拆卸方便，安装使用状态稳定，可以根据高度要求选择连接管的长度和数目，能够有效地提高产品安装效率，增加安全性能防坠落，保护对物及行人的安全。
一种新型监控组合段式转接装置

[实用新型]一种图形化复合基底及LED外延片-CN201920953268.5有效
发明人：康凯;杨志伟;陆前军;曾广艺;向炯;王农华;吴先燕;陈志勤;张剑桥;王子荣 -专利权人：东莞市中图半导体科技有限公司
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开了一种图形化复合基底及LED外延片。该图形化复合基底包括：图形化蓝宝石基板，所述图形化蓝宝石基板表面形成有多个蓝宝石台状微结构；位于所述蓝宝石台状微结构上的异质微结构，所述异质微结构覆盖所述蓝宝石台状微结构的至少部分顶面。本实用新型实施例通过异质微结构覆盖蓝宝石台状微结构的至少部分顶面，一方面避免了外延材料在蓝宝石台状微结构的上表面的生长，抑制外延材料在图形化蓝宝石基底上产生双面竞争生长，另一方面保证了在台状微结构上生长外延材料时，可以释放生长应力，降低了外延生长时产生的缺陷，保证了外延层的质量，有利于改善出光率和增加LED的亮度。
一种图形复合基底 led 外延

[实用新型]一种监控组合分段式立杆转接装置-CN201920798477.7有效
发明人： 吴先燕 -专利权人：山东匠业新材料有限公司
申请日： 2019-05-30 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： F16B7/08 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种监控组合分段式立杆转接装置，包括底管和连接管，所述底管的底部设有底座，所述底管的顶部和连接管的一端均设有卡槽管，所述的卡槽管上均匀设有三个阶梯卡槽，所述连接管远离所述卡槽管的端部内侧设有三个与所述阶梯卡槽配合卡扣的内卡栓，所述卡槽管的外径小于所述连接管的内径。本实用新型与现有技术相比的优点在于：安装拆卸方便，安装使用状态稳定，可以根据高度要求选择连接管的长度和数目，能够有效地提高产品安装效率，增加安全性能防坠落，保护对物及行人的安全。
一种监控组合段式转接装置

[发明专利]一种图形化复合基底、制备方法及LED外延片-CN201910548880.9在审
发明人：康凯;杨志伟;陆前军;曾广艺;向炯;王农华;吴先燕;陈志勤;张剑桥;王子荣 -专利权人：东莞市中图半导体科技有限公司
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： H01L33/20 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种图形化复合基底、制备方法及LED外延片。该图形化复合基底包括：图形化蓝宝石基板，所述图形化蓝宝石基板表面形成有多个蓝宝石台状微结构；位于所述蓝宝石台状微结构上的异质微结构，所述异质微结构覆盖所述蓝宝石台状微结构的至少部分顶面。本发明实施例通过异质微结构覆盖蓝宝石台状微结构的至少部分顶面，一方面避免了外延材料在蓝宝石台状微结构的上表面的生长，抑制外延材料在图形化蓝宝石基底上产生双面竞争生长，另一方面保证了在台状微结构上生长外延材料时，可以释放生长应力，降低了外延生长时产生的缺陷，保证了外延层的质量，有利于改善出光率和增加LED的亮度。
微结构台状蓝宝石图形化蓝宝石外延材料复合基图形化异质生长顶面制备基板表面外延生长出光率上表面外延层覆盖基板基底保证释放

[实用新型]一种发光二极管结构-CN201821299334.3有效
发明人：康凯;杨志伟;陆前军;吴先燕;何志强;陈志勤;郭文凯;吕垒;莫嘉炜;杨谨尧 -专利权人：东莞市中图半导体科技有限公司
申请日： 2018-08-13 - 公布日： 2019-02-05 - 主分类号： H01L33/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种发光二极管结构，包括管体，所述管体包括由下往上依次设置的衬底、n型氮化镓、量子阱、p型氮化镓、作为电流扩展层的透明导电薄膜、N电极和P电极，电流扩展层包括贴合设置的金属纳米线薄膜和半导体氧化物薄膜，N电极设在n型氮化镓上，P电极设在电流扩展层上。本实用新型在提高导电情况下不影响光透过率，金属纳米线具有透明导电性优越、机械柔韧性强、可透光波长范围较宽、工艺简单、成本低等优势。同时，该结构解决了金属纳米线易氧化以及与衬底附着能力差的问题。
电流扩展层金属纳米线发光二极管结构本实用新型衬底管体薄膜半导体氧化物透明导电薄膜机械柔韧性透明导电性附着能力光透过率贴合设置依次设置可透光量子阱易氧化波长导电

[实用新型]一种蓝宝石衬底刻蚀用托盘凸台-CN201621236338.8有效
发明人：张屿;陆前军;蓝文安;付星星;刘帅;吴先燕;朱小宇;杨锤;张鹏辉 -专利权人：东莞市中图半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蓝宝石衬底刻蚀用托盘凸台，包括托盘凸台，所述托盘凸台上设有冷却孔，托盘凸台的上端面呈下陷的凹面结构，该凹面结构呈倒锥体状，该倒锥体状的凹面结构的顶点为该凹面结构的最低点，并且该凹面结构的最低点与托盘凸台上端面的水平位置间隔10‑40um。本实用新型有效改善蓝宝石晶片内各位置的温度，改善了感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石衬底的片内均匀性。
一种蓝宝石衬底刻蚀托盘

[发明专利]一种蓝宝石衬底刻蚀用托盘凸台及控制方法-CN201611030108.0在审
发明人：张屿;陆前军;蓝文安;付星星;刘帅;吴先燕;朱小宇;杨锤;张鹏辉 -专利权人：东莞市中图半导体科技有限公司
申请日： 2016-11-15 - 公布日： 2017-02-08 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种蓝宝石衬底刻蚀用托盘凸台及其控制方法，包括托盘凸台，所述托盘凸台上设有冷却孔，托盘凸台的上端面呈下陷的凹面结构，该凹面结构呈倒锥体状，该倒锥体状的凹面结构的顶点为该凹面结构的最低点，并且该凹面结构的最低点与托盘凸台上端面的水平位置间隔10‑40um。本发明有效改善蓝宝石晶片内各位置的温度，改善了感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石衬底的片内均匀性。
一种蓝宝石衬底刻蚀托盘控制方法

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