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[发明专利]小型制造装置和生产线上的装置间输送系统-CN201580065469.6有效
发明人： 原史朗;前川仁 -专利权人：国立研究开发法人产业技术综合研究所
申请日： 2015-12-01 - 公布日： 2020-02-18 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及小型制造装置和生产线上的装置间输送系统。在由多个半导体制造装置等小型制造装置构成的生产线上，在这些小型制造装置之间自动地输送晶圆输送容器。在本发明中，生产线(1)构成为，三个小型的半导体制造装置(2)在地面(16)上并列设置在一条直线上。各半导体制造装置(2)分别具有大致长方体状的壳体(3)，在壳体(3)的内部配设有处理室(5)和装置前室(6)。在壳体(3)的前部，在装置前室(6)的上方形成有凹部(7)。在凹部(7)设置有容器载置台(9)和暂置托盘(8)，并且一体地设有容器输送单元(12)。由此，能够在三个半导体制造装置(2)之间自动地输送晶圆输送容器(10)。其结果是，能够高效地进行对半导体晶圆实施的一系列的制造工艺。
小型制造装置生产线上输送系统

[发明专利]自旋清洗装置及自旋清洗方法-CN201480065794.8有效
发明人： 原史朗;耸嘛玩;池田伸一;后藤昭广;天野裕 -专利权人：独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2014-12-01 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供一种能够用少量的清洗液高效地清洗晶片、高效地进行加热湿式清洗处理的晶片清洗机及其方法。本发明的晶片清洗机具有：载物台(34)，其设置晶片(W)；旋转驱动部(34b)，其使载物台(34)周向旋转；喷液嘴(35)，其与设置在载物台(34)的晶片(W)相向设置，向设置在载物台(34)的晶片(W)上供给清洗液(L)；以及控制单元(4)，其使喷液嘴(35)向设置在载物台(34)的晶片(W)和喷液嘴(35)之间的空间(S)供给填满该空间(S)的规定量的清洗液(L)。另外，具有设于与设置在载物台(34)的晶片(W)面对的位置，至少对晶片(W)和清洗液(L)的界面部分进行加热的灯(34e)。
处理装置

[发明专利]旋转显影方法及装置-CN201280060328.1有效
发明人：耸嘛玩;原史朗 -专利权人：独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2012-10-03 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：形成于半英寸尺寸的晶圆上的抗蚀剂的最佳的显影方法及装置。是在制作极小单位数的半导体器件的晶圆尺寸的晶圆上形成的抗蚀剂的旋转显影方法及其装置，所述旋转显影方法包括：第1步骤，在停止着的晶圆上滴下显影液直到显影液的厚度达到最大；第2步骤，一边使晶圆旋转一边进行显影；第3步骤，使晶圆的旋转停止向晶圆上供给约第1步骤中的显影液量的一半的显影液；第4步骤，一边使晶圆旋转一边以比第2步骤长的显影时间进行显影。
旋转显影方法装置

[发明专利]器件制造系统-CN201510790429.X有效
发明人： 原史朗;原市聪;石桥晃 -专利权人：独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2011-08-30 - 公布日： 2018-03-27 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明的课题在于与器件制造的变种变量生产弹性对应。本发明的器件制造系统具有能够移动的多个单位处理装置，其担任器件制造工艺中的规定的处理工艺且具有密闭型的工艺处理部；密闭型的搬运容器，其收纳晶片；密闭型的晶片进出前室，其安装在各个所述单位处理装置的相同位置，在所述工艺处理部与所述搬运容器之间交接所述晶片，所述器件制造系统的特征在于，所述单位处理装置分别具有相同的外形形状，并且所述晶片进出前室分别具有相同的晶片交接机构和外形形状。
器件制造系统

[发明专利]制造半导体晶圆的方法-CN201310634807.6有效
发明人：中村由夫;市川大造;住泽春男;原史朗;耸嘛玩;池田伸一 -专利权人：不二越机械工业株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2013-12-02 - 公布日： 2018-01-16 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：提供一种制造半导体晶圆的方法，该方法有利于定向平面线的形成，并允许没有问题地进行倒角作业。根据本发明的制造半导体晶圆的方法是一种从大直径半导体晶圆中切出多个小直径晶圆的制造半导体晶圆的方法，该方法包括标记步骤，以使得直槽状定向平面线穿过大直径半导体晶圆的每一行中的各个小直径晶圆的方式通过激光束集体地为每一行形成直槽状定向平面线，其中，小直径晶圆的切出位置在特定方向上成行地对齐；和切割步骤，在标记步骤之后通过激光束从大直径半导体晶圆中个别地切出小直径晶圆。
制造半导体方法

[发明专利]连结搬运系统-CN201180028487.9有效
发明人： 原史朗;前川仁 -专利权人：独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2011-05-30 - 公布日： 2017-11-10 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：以往在晶圆等的搬运系统中，预先在装置中设有前室，并且使被搬运物从容器经过前室从而将被搬运物搬运至装置区域，因此，容器与前室的连结需利用复杂的机构来完成。本发明是一种连结系统，其由搬运容器以及具有装置本体和装置门的装置构成，该装置门具备磁铁（26），搬运容器（7）具有可密接连结搬运容器本体（11）和搬运容器门（12）的密封结构，装置（8）具有可密接连结装置本体（13）和装置门（9）的密封结构，而且，搬运容器及装置具有两者可密接连结的密封结构，仅当搬运容器与装置密接连结时，形成密闭化的连结室，且具有搬运容器门从搬运容器分离并被收入装置内的结构，并且，搬运容器本体及搬运容器门具有磁铁及/或磁体（28）、（27），从而构成具有通过它们之间的磁力来关闭搬运容器门和搬运容器的结构的搬运容器。
连结搬运系统

[发明专利]晶圆研磨设备-CN201310641959.9有效
发明人：中村由夫;大塚美雄;大久保贵史;澁谷和孝;布施贵之;原史朗;耸嘛玩;池田伸一 -专利权人：不二越机械工业株式会社;独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2013-12-03 - 公布日： 2017-09-22 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：晶圆研磨设备包括研磨板、能够保持晶圆的研磨头和研磨液供给部。该研磨板包括多个同心的研磨区，各研磨区均具有用于研磨晶圆的规定宽度并且在各研磨区上均贴附研磨布；以及用于排出研磨液的槽，该槽形成在研磨区之间。用于清洁研磨头的头清洁部或用于清洁研磨后的晶圆的晶圆清洁部设置到研磨板的中心部分并且位于最内侧研磨区的内侧。
研磨设备

[发明专利]工件加工装置以及用于该工件加工装置的药液收纳袋-CN201611123561.6在审
发明人：塚田雅之;澁谷和孝;布施贵之;中村由夫;原史朗 -专利权人：不二越机械工业株式会社;国立研究开发法人产业技术综合研究所
申请日： 2016-12-08 - 公布日： 2017-07-14 - 主分类号： B24B37/34 文献下载
摘要：本发明提供工件加工装置以及用于该工件加工装置的药液收纳袋，能够防止药液的干燥、凝聚、沉淀等，也能够实现小型化。一种工件加工装置(5)，其具有将药液供给至处理部(6)的药液供给部(7)和进行工件的加工或者处理的所述处理部(6)，其特征在于，药液供给部(7)具有多个药液收纳袋(50)，其填充有药液；袋保持部(52)，其安装并保持有多个药液收纳袋(50)；以及送液部，其装卸自如地连接有多个药液收纳袋(50)，将药液从药液收纳袋(50)送入到处理部(6)，药液收纳袋(50)呈将柔性树脂片重合并将周缘部熔接而成的袋状，并且具有与外部连通的端口部(53)，在端口部(53)上安装有带阀的接头(54)。
工件加工装置以及用于药液收纳

[发明专利]小型制造装置以及使用该小型制造装置的制造系统-CN201480009585.1有效
发明人： 原史朗;前川仁;中野禅 -专利权人：独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2014-02-17 - 公布日： 2017-06-30 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：一种易于使前室在对处理基板实施的处理的种类不同的多个制造装置之间通用的制造系统。根据本发明的制造系统，能够使该制造装置的开发成本、制造成本廉价化。对小型制造装置的处理室和前室个别地设置控制部。当处理室控制部输出了搬入请求信号时，前室控制部将处理基板搬入到处理室，并输出搬入通知信号。处理室控制部当被输入搬入通知信号时进行处理基板的处理，在处理结束后输出搬出请求信号。前室控制部当被输入搬出请求信号时开始搬出处理基板，当从处理室搬出了该处理基板时，输出搬出通知信号。处理室当被输入搬出通知信号时开始下一次处理的准备。
小型制造装置以及使用系统

[发明专利]聚光镜加热炉-CN201280059406.6有效
发明人：池田伸一;原史朗;三原孝则;羽深等;坤邦·索玛万 -专利权人：独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2012-11-30 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： F27D11/02 文献下载
摘要：本发明提供一种用于加热被加热物的聚光镜方式加热炉，是通过反射镜装置反射从光源放射的光而照射于被加热物，用于加热被加热物的聚光镜方式加热炉，其特征在于，反射镜装置由一次反射镜及二次反射镜构成，使从光源放射的光依次被一次反射镜及二次反射镜反射而照射于被加热物，由该二次反射镜反射而照射于被加热物表面的光并未相对于该被加热物表面垂直地进行照射。由此，在通过聚光的红外线进行加热的装置中，即便是使用旋转椭圆面的装置也能保持加热性能并进行小型化。
聚光镜加热炉

[发明专利]黄光室系统-CN201280060033.4有效
发明人： 原史朗 -专利权人：独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2012-10-03 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：在将涂敷装置、曝光装置、显影装置等一起配置在较大的黄光室内的情况下，与方法变更相伴的布局的变更变得困难，并且配置面积等的效率化较为困难。本发明提供一种黄光室系统，该黄光室系统具有：多个可搬运的单位处理装置(50)，其具有规格化的相同的外形，且内含用于遮挡向形成于工件上的感光材料照射的感光光线的黄光室；搬运容器(11、12)，其本身形成为黄光室，并用于在单位处理装置之间搬运所述工件；以及遮光性的连结构造，其形成在设于单位处理装置(50)的前室(80)的上部的对接口(56)，用于连结单位处理装置和搬运装置。
黄光室系统

[发明专利]器件制造装置及方法-CN201180041935.9有效
发明人： 原史朗;原市聪;石桥晃 -专利权人：独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2011-08-30 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明的课题在于与器件制造的变种变量生产弹性对应。本发明是对0.5英寸的晶片进行单晶片处理方式的器件制造方法及装置，其配置多个密闭型的单位处理装置(1)而形成制造生产线，该单位处理装置(1)可搬且优选具有规格化的外形，并对制造工艺中的一个处理工艺进行处理，在该器件的制造单位数比单位处理装置的数量多的情况下，与该器件的处理工艺的顺序对应而将该单位处理装置以流水车间方式配置，在该器件的制造单位数与单位处理装置的数量同等的情况下，将该单位处理装置以按照工序的顺序的大分类而分类配置的分类车间方式配置，另外在制造单位数明显低于工序数的情况下，将该单位处理装置以多单元车间方式配置，该多单元车间方式是按照一个工艺种类而将一台左右的单位处理装置配置在一个单元内且由多个所述单元构成的方式。
器件制造装置方法

[发明专利]连结系统-CN201180028491.5有效
发明人： 原史朗 -专利权人：独立行政法人产业技术综合研究所
申请日： 2011-05-30 - 公布日： 2013-02-13 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：在晶圆等的搬运系统中，预先在装置中设有前室，并且使被搬运物从容器经过前室从而将被搬运物搬运至装置区域。因此，容器与前室的连结需利用复杂的机构来完成。因而，本发明在将搬运容器内的被搬运物搬运至装置内时，通过使搬运容器与装置密接而首先形成相当于前室的连结室，且通过将被搬运物与该连结室一起搬运至装置内，从而简化搬运容器和装置的结构，并且确实地将被搬运物搬运至装置内。
连结系统

[发明专利]制造吸盘的方法、吸盘和车内设备-CN200610094644.7无效
发明人：饭田穰;川端真;原史朗 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2006-06-20 - 公布日： 2006-12-27 - 主分类号： F16B47/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种包括吸盘主体、附着面和凝胶层的吸盘。凝胶层的表面作为吸面。在制造吸盘的方法中，在公共模型和初级模型的内侧形成一个腔。接着，合成树脂材料注入到腔内以模制吸盘主体。然后打开初级模型以获得吸盘主体。接着，将次级模型配合到公共模型上，其中在公共模型与次级模型的内侧形成一个腔。然后将凝胶注入该腔内以模制凝胶层。接着打开次级模型以在公共模型上获得由凝胶层和吸盘主体构成的吸盘。
制造吸盘方法设备

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