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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]高精密基板研磨系统-CN202310208966.3在审
发明人：梁起赫;禹相政 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2023-03-07 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：根据一个实施例的基板研磨装置，可包括：台板，其用于安放研磨垫，并且可旋转；基板载体，其抓握基板，并且可在台板的上侧旋转；红外线传感器，其位于台板的内部，并对基板的温度进行测量；以及控制部，其利用红外线传感器的测量值来判断基板的研磨状态。
精密研磨系统

[发明专利]调节系统及调节方法-CN202310365348.X在审
发明人：孙智勋 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2023-04-07 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B24B37/08 文献下载
摘要：提供一种调节系统。根据一个实施例的调节系统，可包括：研磨垫，其与基板相接触；调节器，其对研磨垫的表面进行调节；传感器部，其对研磨垫的表面状态进行测量；控制部，其根据控制模型，对调节器进行控制；以及机器学习部，其通过机器学习来优化控制模型，机器学习部包括：评价部，其基于传感器部所测量的测量数据，对控制模型进行评价；以及修正部，其根据评价部所评价的结果，对控制模型进行修正。
调节系统方法

[发明专利]基板处理装置及包括该基板处理装置的系统-CN202310355426.8在审
发明人：金炯剟;郑有善;金东旻 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2023-04-06 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开了一种基板处理装置。在一个实施例中，基板处理装置可包括：腔室，其内部形成有进行基板处理的处理空间；一条以上的排气线，其连接到腔室，并且用于从处理空间向腔室的外部排出处理流体；支撑卡盘，其配置于处理空间内，并且以使得基板配置于上部的形式从下侧支撑基板，并且形成有可收容第一处理流体的内部空间；以及一条以上的第一供给线，其用于从腔室的外部获得第一处理流体的供给，并向内部空间传递第一处理流体。此外，还可进行多种实施例。
处理装置包括系统

[发明专利]抛光浆料组合物-CN202280013808.6在审
发明人：金正训;黄晙夏;权五星 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光浆料组合物，其包括：纳米氧化铈抛光粒子；以及分子中含有亲水基团的水溶性化合物。可选地，所述抛光浆料组合物还包括含有分子内胺基及羧基的两性化合物、含有有机酸的表面改性剂及pH调节剂中的至少一个以上。
抛光浆料组合

[发明专利]基板处理装置及用于该基板处理装置的移送带-CN201711456429.1有效
发明人：李气雨;崔宇喆 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2017-12-28 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置及用于该基板处理装置的移送带，进行基板研磨工序的基板处理装置包括移送带，所述移送带包括：第一带层，其能沿着规定路径循环旋转，在外表面放置基板；第二带层，其具有低于第一带层的压缩率，形成在第一带层的内表面，由此可以获得提高基板处理效率、提高研磨稳定性及研磨均匀度的有利效果。
处理装置用于移送

[实用新型]基板吸盘以及基板清洗装置-CN202320187078.3有效
发明人：孙准晧 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2023-02-07 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板吸盘以及基板清洗装置，所述基板吸盘用于以放置于其上表面的状态固定基板，其包括：定盘；吸附膜，其由可弹性变形的柔性材料构成，且以覆盖用于放置基板的区域即所述定盘的上表面的形态设置；压力调节部，其用于向所述吸附膜的下部施加吸入压力。通过利用可弹性变形的柔性材料的吸附膜覆盖用于放置基板的放置区域即定盘的上表面，并向所述吸附膜下部施加吸入压力，使吸附膜与基板之间形成真空空间，以把持基板，从而能够防止液态物质流入基板吸盘内部。
吸盘以及清洗装置

[发明专利]具有高透明度的无机氧化物纳米粒子分散液及由其制备的光学薄膜和用于显示器的部件-CN202110351464.7有效
发明人：河承勋 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2021-03-31 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C01G25/02 文献下载
摘要：本发明涉及具有高透明度的无机氧化物纳米粒子分散液及由其制备的光学薄膜和用于显示器的部件。所述无机氧化物纳米粒子分散液包括：无机氧化物纳米粒子；含有丙烯酸的表面处理剂；以及光学单体。根据本发明，可以提供一种分散液，其特征在于透明、具有高折射率、具有低粘度和高可加工性，并且在制备过程中不会产生副产物，因此不需要额外的处理工艺。
具有透明度无机氧化物纳米粒子分散制备光学薄膜用于显示器部件

[发明专利]洗涤剂组成物及利用其的洗涤方法-CN201980084777.1有效
发明人：郑佳英;郑用昊;朴健熙;金暎坤;尹永镐;尹永录 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2019-08-07 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C11D11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种洗涤剂组成物及利用其的洗涤方法，根据本发明的一个实施方式的抛光浆料组成物包括：包括有机盐的螯合剂、以及阴离子性表面活性剂。
洗涤剂组成利用洗涤方法

[发明专利]机械臂以及包括其的输送装置-CN202211683570.6在审
发明人：姜闰九;姜僔镐;朴恩皞;朴成玟 -专利权人：三星显示有限公司;凯斯科技股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： B65G47/91 文献下载
摘要：本发明公开了机械臂以及包括其的输送装置，可以是，机械臂包括第一手、第二手以及调节所述第一手与所述第二手之间的间距的间距调节部。可以是，所述第一手包括：第一主体部分；以及多个第一凸出部分，从所述第一主体部分向第二方向凸出且沿着所述第一方向排列。可以是，所述第二手包括：第二主体部分；以及多个第二凸出部分，从所述第二主体部分向所述第二方向的相反方向凸出且沿着所述第一方向排列。可以是，所述多个第一凸出部分以及所述多个第二凸出部分配置于所述第一主体部分与所述第二主体部分之间。
机械以及包括输送装置

[发明专利]用于接触工艺的金属膜浆料组合物-CN202211681435.8在审
发明人：金廷润;黄寅卨;孔铉九 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于接触工艺的金属膜浆料组合物，并涉及抛光浆料组合物，其包括：抛光粒子；含有一个以上的能够形成氢键的官能团的化合物；在重复单元结构中含有一个以上的亲水性官能团的非离子聚合物；以及氧化剂。
用于接触工艺金属膜浆料组合

[发明专利]基板处理装置-CN201910279547.2有效
发明人：蔡熙成 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2019-04-09 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，该基板处理装置包括：研磨盘；研磨垫，其配置于研磨盘的上表面；调节器，其包括调节头、以能沿上下方向移动的方式结合于调节头的盘支架、以及安装于盘支架并接触研磨垫的调节盘；厚度测量部，其通过感测部(sensing unit)接收所述盘支架相对于所述调节头的相对移动距离的相关信息，并所述相对移动距离相关信息获得所述研磨垫的厚度。
处理装置

[发明专利]化学机械式研磨装置用承载头的卡环及具备其的承载头-CN201811580191.8有效
发明人：孙准晧;申盛皓 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-12-24 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： B24B37/30 文献下载
摘要：本发明涉及化学机械式研磨装置用承载头的卡环及具备其的承载头，承载头包括：承载头本体；隔膜，其安装于承载头本体的下面，将基板加压于研磨垫；延长瓣，其在隔膜的外侧面延伸；卡环，其安装于延长瓣上，用于约束基板的侧面。
化学机械式研磨装置承载卡环具备

[发明专利]用于有机-无机复合组合物的表面处理剂-CN202211576218.2在审
发明人：廉振锡;金锡祚 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2022-12-08 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C08F230/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于有机‑无机复合组合物的表面处理剂，根据本发明一个实施例的表面处理剂包括由下面的化学式1至化学式3中任一个表示的化合物，其中，所述R1至R3分别包括H、饱和或不饱和的C1‑C20的直链或支链烷基、羟基、硅烷基以及烷氧基硅烷基中的至少一种，所述R4包括H或者羟基。[化学式1]
用于有机无机复合组合表面处理

[发明专利]基板处理装置-CN201811474024.5有效
发明人：申盛皓;金泰贤 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-12-04 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，所述基板处理装置包括：调节单元，其包括与研磨垫接触的调节盘，用于执行研磨垫的调节工序；姿势感测部，其用于感测调节单元的姿势。
处理装置

[发明专利]研磨装置用承载头及其隔膜-CN201811531783.0有效
发明人：孙准晧;申盛皓 -专利权人： 凯斯科技股份有限公司
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本发明涉及化学机械式研磨装置用承载头及其隔膜，提供一种随着研磨工序的进行，在发生研磨垫或卡环等耗材的磨损，并随着耗材的磨损量而发生隔膜的上下移动移位时，借助于第二固定瓣，提供补偿力而使之抵消，从而提高研磨品质的研磨装置用承载头的隔膜及其承载头。
研磨装置承载及其隔膜

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