专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于分割结晶材料的激光辅助方法-CN201980093258.1在审
  • 马修·多诺弗里奥;约翰·埃德蒙;哈沙德·戈拉基亚;埃里克·梅耶尔 - 克利公司
  • 2019-12-27 - 2021-10-15 - B23K26/53
  • 一种结晶材料处理方法,包括在第一平均深度位置形成表面下激光损坏以在基材内部形成从至少一个表面下激光损坏图案向外扩展的裂纹,随后成像基材的顶表面,分析图像以确定指示基材内的未断裂区的存在的条件,以及响应于该分析进行一个或多个动作。一个动作包括改变用于产生随后的激光损坏(在第二或随后的平均深度位置处)的指令集,而不必在第一深度位置处形成额外的损坏。另一动作包括在第一深度位置处形成额外的表面下激光损坏。用漫射光源照射基材表面,该漫射光源垂直于主基材平坦部布置并位于基材的第一侧,并且用位于基材的相对的第二侧的成像设备成像基材表面。
  • 用于分割结晶材料激光辅助方法
  • [发明专利]宽带隙半导体器件-CN201980049518.5在审
  • 世亨·柳 - 克利公司
  • 2019-07-05 - 2021-03-19 - H01L29/78
  • 金属氧化物半导体场效应晶体管包括:宽带隙衬底,在衬底上的宽带隙漂移层,漂移层中的多个结注入物,以及结注入物之间的JFET区域。JFET区域由JFET间隙限定,该间隙是相邻的结注入物之间的距离。JFET间隙在整个MOSFET器件中并不均匀。JFET区域被分成第一JFET子区域和第二JFET子区域,使得第一JFET子区域中的掺杂浓度不同于第二JFET子区域中的掺杂浓度。
  • 宽带半导体器件
  • [发明专利]照明包装件-CN201810032301.0有效
  • 西奥多·洛韦斯;埃里克·J·塔尔萨;斯滕·海克曼;贝恩德·凯勒;杰西·赖尔策;霍莫泽·本杰明 - 克利公司
  • 2013-06-05 - 2021-01-05 - H01L33/50
  • 本申请涉及照明包装件。包装件可包括在包装件密封体内折射和/或反射光的具有平坦表面的密封体。包装件可包括具有一个以上的LED(52)的基台(54),以及位于LED和基台上的毯转换材料层(56)。密封体(58)可以位于基台上、位于LED上方,并且在密封体内反射的光将到达转换材料,光在此被吸收并且被全方向发射。当与具有半球形密封体或者透镜的常规包装件相比较时,反射光现可溢出密封体,从而允许有效的发射和更宽阔的发射轮廓。在特定实施方式中,LED包装件提供更高的芯片面积与LED包装件面积之比。通过使用具有平坦表面的密封体,LED包装件可提供各种特性与LED包装件比率之间独特的尺度关系,实现对不同应用的更大灵活性。
  • 照明包装
  • [发明专利]LED以及制造方法-CN201680006614.8有效
  • 马修·多诺弗里奥;普里蒂希·卡尔;斯滕·海克曼;哈沙德·戈拉基亚;拉热维·阿查亚;尤瓦拉杰·多雷 - 克利公司
  • 2016-01-15 - 2020-11-24 - H01L33/42
  • 本申请公开了一种LED芯片,其可以造成使用较少步骤的更简单的制造过程。LED结构可以具有比传统LED芯片更少的层,所述层以三种不同的方式设置,以有效地制造和操作。所述LED芯片(50)包括有源LED结构(52)。一个选择是包括与相反掺杂层中的一个层相邻的介电反射层(60),并且金属反射层(62)位于介电反射层(60)上,其中,介电(60)和/或金属(62)反射层延伸超过所述有源区域(52)的边缘。通过使介电层延伸,所述LED芯片可以通过反射更多的LED光以在期望的方向发射而以更高的效率发射。通过将金属反射层延伸超过有源区域的边缘,除了反射LED光以在期望的方向发射以外,金属反射层还可以用作电流扩散层和阻挡层。简化制造的其他选择是LED芯片包括自对准和/或自限制特征,简化了制造期间的蚀刻工艺。
  • led以及制造方法
  • [发明专利]发光二极管的反射层-CN201980016062.2在审
  • 迈克尔·切克;凯文·哈布雷恩 - 克利公司
  • 2019-01-28 - 2020-10-16 - H01L33/46
  • 公开了一种具有高反射率的反射层的发光二极管(LED)芯片。该LED芯片可以包括有源LED结构,该有源LED结构包括在n型层和p型层之间的有源层。第一反射层与有源LED结构相邻,并且包括具有不同光学厚度的多个介电层。多个介电层可以包括不同厚度和组成的多个第一介电层和多个第二介电层。该LED芯片还可以包括第二反射层,该第二反射层包括穿过第一反射层的导电路径。粘合层可以设置在第一反射层和第二反射层之间。该粘合层可以包括金属氧化物,该金属氧化物促进提高粘合性并降低光学损耗。
  • 发光二极管反射层

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