专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种二维MXene功能化的InxGa1-xN纳米柱-CN201921779152.0有效
  • 李国强;林静;余粤锋;张志杰 - 华南理工大学
  • 2019-10-22 - 2020-11-24 - B81B7/04
  • 本实用新型公开了一种二维MXene功能化的InxGa1‑xN纳米柱。该二维MXene功能化的InxGa1‑xN纳米柱包括衬底、衬底上的MXene层、生长在MXene层上的InxGa1‑xN纳米柱;其中0≤x≤1。本实用新型采用二维MXene作为衬底与InxGa1‑xN纳米柱之间的功能层,不仅拓宽了衬底的选择范围,降低了成本;还有效降低了衬底与纳米柱之间的界面阻抗,有利于增强载流子输运性能,大幅度提高纳米柱的光电性能;同时避免了纳米柱在衬底上容易被刻蚀的缺点,提高其光电稳定性。总之,二维MXene功能化的InxGa1‑xN纳米柱在光电解水制氢、光电探测器、太阳能电池中具有重要应用前景。
  • 一种二维mxene功能inxga1xn纳米
  • [发明专利]生长在铜箔衬底上的InN纳米柱外延片及其制备方法-CN201810026832.9有效
  • 高芳亮;李国强;徐珍珠;余粤锋 - 华南理工大学
  • 2018-01-11 - 2020-09-22 - H01L21/02
  • 本发明属于氮化物半导体器件技术领域,公开了生长在铜箔衬底上的InN纳米柱外延片及其制备方法。生长在铜箔衬底上的InN纳米柱外延片由下至上依次包括铜箔衬底、In‑Cu合金化金属层和InN纳米柱层。方法为(1)预处理;(2)采用分子束外延生长工艺,在铜箔衬底上沉积In,退火,得到In‑Cu合金化金属;(3)采用分子束外延生长工艺,衬底温度控制在400~700℃,在反应室的压力为4.0~10.0×10‑5Torr,V/III束流比值为20~40条件下,生长InN纳米柱。本发明的纳米柱直径均一,晶体质量高,减少了InN纳米柱外延层的缺陷密度,提高了载流子的辐射复合效率,提高氮化物器件发光效率。
  • 生长铜箔衬底inn纳米外延及其制备方法
  • [实用新型]一种InP-石墨烯太阳电池-CN201921584414.8有效
  • 李国强;余粤锋;林静;梁敬晗 - 华南理工大学
  • 2019-09-23 - 2020-04-28 - H01L31/0304
  • 本实用新型属于多孔太阳电池领域,公开了一种InP‑石墨烯太阳电池。所述InP‑石墨烯太阳电池包括由下至上依次层叠的Au背电极、InP外延层、TiO2空穴阻挡层、石墨烯层和Al2O3减反射层;围绕Al2O3减反射层设置一圈Ag接触电极,Ag接触电极与石墨烯层接触。本实用新型在磷化铟上设置二氧化钛空穴阻挡层,利用二氧化钛能带结构以增大光伏元件的载流子迁移率,从而增大少数载流子的寿命,并在二氧化钛上方附加高透光率、载流子传输速率快、功函数较高的石墨烯,利用能级梯度差进一步增大载流子的势能,从而提高磷化铟电池的转化效率。
  • 一种inp石墨太阳电池

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