“东京应化工业株式会社”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果680个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]蚀刻掩模用组合物及图案形成方法-CN201410016449.7有效
发明人：吉井靖博 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2014-01-14 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明提供使将蚀刻掩模用组合物印刷于太阳能电池用基板时的印刷性提高的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物。本发明的一个方案的太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物为非感光性，其包含酚醛树脂(A)100质量份、SiO₂粒子(B)20～100质量份及溶剂(C)。
蚀刻掩模用组合图案形成方法

[发明专利]光掩模和使用了该光掩模的基板的制造方法-CN201410658927.4有效
发明人：吉田光一郎;阿部明生 -专利权人： HOYA株式会社;东京应化工业株式会社
申请日： 2014-11-18 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：本发明提供光掩模和使用了该光掩模的基板的制造方法，该光掩模能够在抑制设备投资的增加和生产效率的降低的同时，利用照相平版印刷形成具有线宽2μm～10μm的精细部分的线图案。一种光掩模，其用于形成具有线宽2μm～10μm的精细部分的线图案和围绕该线图案的周边区域，其中，该光掩模具有遮光部、对应于上述线图案的半透光部、以及围绕上述遮光部和上述半透光部围绕并对应于上述周边区域的透光部，上述半透光部的宽度比上述线图案的上述精细部分的宽度宽。
光掩模线图案半透光部周边区域遮光部精细基板线宽照相平版印刷生产效率抑制设备宽度比透光制造投资

[发明专利]正型抗蚀剂组合物-CN201410117221.7有效
发明人：高桥和树;松本直纯;引田二郎 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2014-03-26 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种聚焦裕度大、且分辨率优异的正型抗蚀剂组合物。本发明的正型抗蚀剂组合物含有相对于100质量份的碱可溶性树脂(A)为5～25质量份的酚化合物(B)，并且所述正型抗蚀剂组合物以相对于(A)成分和(B)成分的总质量100质量份为15～40质量份的范围含有感光性成分的混合物(C)，所述感光性成分的混合物(C)包含3种以上的二叠氮基醌的酯化物，所述正型抗蚀剂组合物还含有有机溶剂(D)。
正型抗蚀剂组合

[发明专利]返工方法以及酸性清洗液-CN201811593567.9在审
发明人：平野勋;濑下武广;昆野健理 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：提供一种返工方法与能够适合用于该返工方法的酸性清洗液，该返工方法在表面具备包含含硅材料的下层膜的基板中，除去形成在下层膜上的图案化的有机树脂膜从而进行返工时，能够抑制对下层膜的损伤，并且从下层膜上良好地剥离有机树脂膜。在表面具备包含含硅材料的下层膜的基板中，除去形成在下层膜上的图案化的有机树脂膜从而进行返工时，使用包含可卤代的烷基磺酸的酸性清洗液进行有机树脂膜的除去。
下层膜返工有机树脂膜酸性清洗液含硅材料图案化基板烷基磺酸卤代剥离损伤

[发明专利]泵及涂布装置-CN201610022038.8有效
发明人：近藤士朗 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2016-01-13 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： F04B43/107 文献下载
摘要：本发明涉及泵及涂布装置。提供一种耐久性优异、可排出高粘度液体的泵及涂布装置。泵包括：壳体；挠性部件，与壳体同轴地配置在壳体内，收容液体；工作缸部，收容工作流体；柱塞，可相对于工作缸部往返移动地插入于工作缸部，向壳体与挠性部件的间隙供给工作流体而使液体从挠性部件排出；第一密封部件及第二密封部件，配置在工作缸部中的柱塞的插入部，与柱塞滑动接触。第一密封部件是配置在比第二密封部件更靠柱塞的顶端侧、且具有耐压功能的密封部件，第二密封部件是具有防漏功能的密封部件。
装置

[发明专利]固化性组合物、膜、光学膜、发光显示元件面板及发光显示装置-CN201811490726.2在审
发明人：千坂博树;野田国宏;盐田大 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2018-12-06 - 公布日： 2019-07-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供能容易地形成荧光效率良好的光学膜的包含量子点(B)的固化性组合物、由该固化性组合物的固化物形成的膜、由该膜形成的发光显示元件用光学膜、包含该光学膜的发光显示元件面板、和具备该发光显示元件面板的发光显示装置。本发明的解决手段为：使含有具有2个以上环氧基且包含氧杂环丙烷环以外的环式结构的环氧化合物(A)、量子点(B)、和产酸剂(C)的固化性组合物固化来制造膜。
发光显示元件固化性组合物光学膜发光显示装置量子点环氧化合物氧杂环丙烷环式结构荧光效率产酸剂固化物环氧基膜形成固化制造

[发明专利]波长转换基材的制造方法-CN201811539154.2在审
发明人：青木知三郎;言水志信 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2018-12-14 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种波长转换基材的制造方法，通过所述制造方法，在基板上的由遮光性的间隔壁划分出的多个区域内填充多种不同种类的波长转换材料来制造波长转换基材时，能抑制被填充至前述区域内的波长转换材料中的不同种材料的混合。本发明的解决手段为，利用喷墨法在波长转换基材中的由遮光性的间隔壁划分出的规定区域内填充包含量子点的波长转换材料来制造波长转换基材时，利用喷墨法将包含量子点的感光性组合物注入至规定区域后，仅对已被注入至规定区域的感光性组合物选择性地曝光而使其固化，接下来，利用洗涤液仅将附着于不期望的区域的飞沫除去。
波长转换基材波长转换材料填充制造感光性组合物间隔壁量子点喷墨法遮光性洗涤液飞沫附着基板固化曝光期望

[发明专利]络合物溶液、光吸收层及太阳能电池的制造方法-CN201480031441.6有效
发明人：大桥卓矢;仲村亮正;饭田启之;桑原大 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2014-05-09 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：一种用于形成太阳能电池的光吸收层的络合物及其溶液的制造方法，所述制造方法包括混合如下物质得到反应液的步骤：选自于由第11族金属、第12族金属、第13族金属、第14族金属、第15族元素、第11族金属化合物、第12族金属化合物、第13族金属化合物、第14族金属化合物和含第15族元素的化合物组成的组中的至少一种单体或化合物；选自于由含巯基的有机化合物、硫化物、多硫化物、含硫代羰基的有机化合物、含硫的杂环式化合物、含硒氢基的有机化合物、硒化物、多硒化物、含硒代羰基的有机化合物和含硒的杂环式化合物组成的组中的至少一种含硫族元素的有机化合物；路易斯碱性无机化合物；和第16族元素。
络合物及其溶液制造方法太阳能电池用光吸收

[发明专利]丝网印刷用墨液组合物及图案形成方法-CN201310322524.8有效
发明人：富田浩明;吉井靖博 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2013-07-29 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种丝网印刷用墨液组合物，其适合于利用丝网印刷法在基板上形成用于形成图案的涂膜。本发明的一个方案的丝网印刷用墨液组合物含有基材树脂成分(A)、光活性化合物(B)和由沸点为200℃以上的有机溶剂构成的溶剂(C)。该丝网印刷用墨液组合物的表面张力为34.0mN/m以上且39.0mN/m以下。
丝网印刷用墨组合图案形成方法

[发明专利]感光性组合物及化合物-CN201711096379.0有效
发明人：田所惠典;盐田大 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2015-07-14 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： C07C45/46 文献下载
摘要：本发明提供敏感度优异的感光性组合物、使用该感光性组合物形成的绝缘膜、使用该感光性组合物形成的滤色片、具备该绝缘膜或该滤色片的显示装置、和适合作为光聚合引发剂而配合在该感光性组合物中的化合物。在包含(A)光聚合性化合物和(B)光聚合引发剂的感光性组合物中，使(B)光聚合引发剂含有下述式(1)表示的化合物。式(1)中，R¹为氢原子、硝基或一价有机基团，R²及R³各自为可具有取代基的链状烷基、可具有取代基的环状有机基团、或氢原子，R²与R³可以相互键合而形成环，R⁴为一价有机基团，R⁵为氢原子、可具有取代基的碳原子数1～11的烷基、或可具有取代基的芳基，n为0～4的整数，m为0或1。
感光性组合化合物

[发明专利]固化性组合物、固化膜形成方法、固化物、已被图案化的固化膜、及透明光学构件-CN201811344055.9在审
发明人：千坂博树;野田国宏;盐田大 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2018-11-12 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供在折射率的提高及图案形成特性方面优异的固化性组合物、固化膜形成方法、固化物、已被图案化的固化膜、透明光学构件、及光扩散片。本发明的解决手段为一种固化性组合物，其包含下述通式(1)表示的化合物(A)、及下述通式(2)表示的化合物(B)。
固化膜固化性组合物透明光学构件固化物图案化图案形成特性光扩散片折射率

[发明专利]均匀系涂布液及其制造方法-CN201811309975.7在审
发明人：廖日淳;仲村亮正 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2018-11-05 - 公布日： 2019-05-14 - 主分类号： H01L31/032 文献下载
摘要：本发明涉及均匀系涂布液及其制造方法。一种均匀系涂布液，其含有：选自由第1族金属、第2族金属、第1族金属化合物及第2族金属化合物组成的组中的至少1种金属或金属化合物；选自由第13族金属及第13族金属化合物组成的组中的至少1种金属或金属化合物；路易斯碱溶剂；和路易斯酸。
金属化合物涂布液第1族金属金属路易斯碱溶剂第2族金属路易斯酸自由制造

[发明专利]涂布装置及多孔性酰亚胺系树脂膜制造系统-CN201580033027.3有效
发明人：川村芳次;水木秀行;杉山真也 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2015-06-16 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： B05C9/06 文献下载
摘要：本发明提供能够制造高品质的多孔性酰亚胺系树脂膜的涂布装置及多孔性酰亚胺系树脂膜制造系统。本发明涉及下述涂布装置及多孔性酰亚胺系树脂膜制造系统，所述涂布装置具备：带状基材(S1)，所述带状基材(S1)沿规定方向移动；第一喷嘴(12)，所述第一喷嘴(12)将第一涂布液(Q1)涂布于带状基材(S1)上从而形成第一涂布膜(F1)，所述第一涂布液(Q1)包含聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺或聚酰胺及微粒；和第二喷嘴(13)，所述第二喷嘴(13)将第二涂布液(Q2)涂布于第一涂布膜(F1)上从而形成第二涂布膜(F2)，所述第二涂布液(Q2)包含聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺或聚酰胺、及微粒，且至少微粒含有率与第一涂布液(Q1)不同。
装置多孔亚胺树脂制造系统

[发明专利]深紫外LED及其制造方法-CN201580073117.5有效
发明人：鹿岛行雄;松浦惠里子;小久保光典;田代贵晴;大川贵史;平山秀树;前田哲利;定昌史;上村隆一郎;长田大和;岛谷聪 -专利权人：丸文株式会社;东芝机械株式会社;国立研究开发法人理化学研究所;株式会社爱发科;东京应化工业株式会社
申请日： 2015-07-29 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： H01L33/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种深紫外LED，其设计波长设为λ，其特征在于，从基板的相反侧按顺序具有Al反射电极层、极薄膜金属层以及透明p型AlGaN接触层，在所述透明p型AlGaN接触层的厚度方向的范围内具有光子晶体周期结构，并且，所述光子晶体周期结构具有光子带隙。
深紫 led 及其制造方法

[发明专利]树脂组合物、干膜及制造方法、抗蚀剂膜与基板及镀覆造形物的制造方法、巯基化合物-CN201811232500.2在审
发明人：川上晃也;山本悠太;海老泽和明;黑岩靖司 -专利权人： 东京应化工业株式会社
申请日： 2018-10-22 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：提供化学放大型正型感光性树脂组合物，在使用化学放大型正型感光性树脂组合物而在具有金属表面的基板的金属表面上形成作为镀覆造形物的铸模的抗蚀性图案的情况下，能够抑制在非抗蚀剂部产生底部(支承体表面侧)的宽度比顶部(抗蚀剂层的表面侧)的宽度窄的“底脚”且抑制产生显影残渣。还提供感光性干膜、感光性干膜的制造方法；图案化的抗蚀剂膜的制造方法、带铸模的基板的制造方法以及使用了该带铸模的基板的镀覆造形物的制造方法。使化学放大型正型感光性树脂组合物中含有特定结构的巯基化合物，该化学放大型正型感光性树脂组合物包含：产酸剂(A)，通过活性光线或者放射线的照射产生酸；树脂(B)，对碱的溶解性因酸的作用而增大。
正型感光性树脂组合物化学放大型基板造形物制造镀覆铸模感光性干膜巯基化合物金属表面抗蚀剂膜树脂组合物活性光线抗蚀剂层显影残渣产酸剂放射线抗蚀剂抗蚀性宽度比图案化支承体树脂底脚干膜照射图案