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[发明专利]表面处理装置及表面处理方法-CN202180091039.7在审
发明人：深田和宏;福山聪;小久保光典;难波武志 -专利权人：芝浦机械株式会社
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：表面处理装置(10)具备：被处理件载置部(50)(载置机构)，载置被处理件(W)；腔室(20)(收容单元)，收容载置于被处理件载置部的被处理件；等离子生成装置(21)(表面处理机构)、溅镀装置(22)(表面处理机构)，对收容于腔室的被处理件进行至少1种表面处理；被处理件输送部(40)(输送机构)，将载置于被处理件载置部的被处理件沿着等离子生成装置及溅镀装置输送；以及C轴旋转马达(55)及B轴旋转马达(57)(第1调整机构)，根据被处理件输送部的输送位置和等离子生成装置或溅镀装置的位置，调整被处理件的朝向。
表面处理装置方法

[发明专利]表面处理装置及表面处理方法-CN202180057590.X在审
发明人： 小久保光典;福山聪;栗原义明;难波武志 -专利权人：芝浦机械株式会社
申请日： 2021-07-12 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：表面处理装置(10)其被处理件输送部(40)(配送机构)将载置有被处理件(W)的工作台(31、32)(载置机构)收容到腔室(20)(收容单元)中。接着，工作台旋转轴(31b、32b)(旋转机构)和安装部件旋转轴(31c、32c)(旋转机构)在将被处理件载置部(30)收容在腔室中的状态下使被处理件(W)以规定的旋转样式旋转到与等离子生成装置(21)(表面处理机构)或溅镀装置(22、23)(表面处理机构)对置的朝向。
表面处理装置方法

[发明专利]转印装置-CN201811239551.8有效
发明人： 小久保光典;马场丘人;后藤利章 -专利权人：东芝机械株式会社
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种转印装置及转印方法，该转印装置用于将形成在模具上的微细的转印图案转印到喷涂在基板上的树脂上，该转印装置具备用于将未固化的树脂喷涂在基板上的喷涂部；定位并一体地设置基板的基板设置部；设置片状的模具的模具设置部；转印辊；和用于在将形成在模具上的微细的转印图案转印到喷涂在基板上的树脂上后，向从基板的树脂剥开的模具照射等离子体来清洁模具的等离子体单元，从基板的树脂剥开的模具，在由等离子体单元照射等离子体进行了清洁后，再次在转印图案的转印中使用。
装置

[发明专利]转印装置及转印方法-CN201811240937.0有效
发明人： 小久保光典;马场丘人;后藤利章 -专利权人：东芝机械株式会社
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种转印装置和转印方法，该转印装置具备用于设置卷绕了模具的卷材模具的卷材模具设置部；用于卷挂从卷材模具抽出的模具的转印辊；用于卷取模具的卷取辊；设置卷取辊的卷取辊设置部；用于将从卷材模具抽出的模具在抑制其在被抽出的部位中产生褶皱的同时引导至设置卷取辊的模具设置辅助部。
装置方法

[发明专利]转印装置以及转印方法-CN201810365477.8有效
发明人： 小久保光典;杉浦裕喜;藤原茂;桥本有纪 -专利权人：东芝机械株式会社
申请日： 2018-04-23 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明提供转印装置以及转印方法。本发明的转印装置具备基板设置部、模具推送辊和材料回收部，所述基板设置部设置设有未硬化的材料的基板，所述模具推送辊缠挂形成有规定的转印图案的模具，通过相对于被设置在基板设置部的基板移动，向基板推送模具，所述材料回收部通过模具推送辊的移动，回收从基板和模具之间出来的未硬化的材料。
装置以及方法

[发明专利]转印装置-CN201811239577.2有效
发明人： 小久保光典;马场丘人;后藤利章 -专利权人：东芝机械株式会社
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种转印装置，其具备用于支承模具并且通过移动将形成在模具上的微细的转印图案转印到喷涂在设置于基板设置部的基板上的树脂上的转印辊；和用于在通过转印辊的移动进行的将模具向喷涂在设置于基板设置部的基板上的树脂的压靠时引导转印辊的转印辊引导部。
装置

[发明专利]用于图案压印的装置和方法-CN201810165287.1有效
发明人： 小久保光典;杉浦裕喜;藤原茂;桥本有纪 -专利权人：东芝机械株式会社
申请日： 2018-02-28 - 公布日： 2021-06-11 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于将模具压印到铺设在基板上的树脂上的装置，包括：承载模具的压印辊；防止模具松动的浮动辊；被构造成驱动压印辊的第一驱动器；被构造成驱动浮动辊的第二驱动器；以及电连接到第一驱动器和第二驱动器并被配置为控制第一驱动器和第二驱动器的控制器。
用于图案压印装置方法

[发明专利]深紫外LED及其制造方法-CN201680051208.3有效
发明人：鹿岛行雄;松浦惠里子;小久保光典;田代贵晴;平山秀树;上村隆一郎;长田大和;森田敏郎 -专利权人：丸文株式会社;东芝机械株式会社;国立研究开发法人理化学研究所;株式会社爱发科;东京应化工业株式会社
申请日： 2016-09-02 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H01L33/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种深紫外LED，其设计波长设为λ，其特征在于，从基板的相反侧起按顺序依次具有反射电极层、极薄膜金属层以及p型接触层，进一步，具有与所述p型接触层侧的所述基板的背面接合的、对于波长λ而透明的半球状透镜，所述半球状透镜的折射率为所述基板的折射率和空气的折射率的平均值以上、且处于所述基板的折射率以内，所述半球状透镜具有所述基板的内切圆的半径以上、且为外接圆的半径左右的半径。
深紫 led 及其制造方法

[发明专利]深紫外LED及其制造方法-CN201580073117.5有效
发明人：鹿岛行雄;松浦惠里子;小久保光典;田代贵晴;大川贵史;平山秀树;前田哲利;定昌史;上村隆一郎;长田大和;岛谷聪 -专利权人：丸文株式会社;东芝机械株式会社;国立研究开发法人理化学研究所;株式会社爱发科;东京应化工业株式会社
申请日： 2015-07-29 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： H01L33/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种深紫外LED，其设计波长设为λ，其特征在于，从基板的相反侧按顺序具有Al反射电极层、极薄膜金属层以及透明p型AlGaN接触层，在所述透明p型AlGaN接触层的厚度方向的范围内具有光子晶体周期结构，并且，所述光子晶体周期结构具有光子带隙。
深紫 led 及其制造方法

[发明专利]深紫外LED及其制造方法-CN201680003179.3有效
发明人：鹿岛行雄;松浦惠里子;小久保光典;田代贵晴;平山秀树;上村隆一郎;长田大和;森田敏郎 -专利权人：丸文株式会社;东芝机械株式会社;国立研究开发法人理化学研究所;株式会社爱发科;东京应化工业株式会社
申请日： 2016-11-01 - 公布日： 2019-04-19 - 主分类号： H01L33/10 文献下载
摘要：本发明涉及一种能够提高光提取效率的深紫外LED。一种深紫外LED，其将设计波长设为λ，所述深紫外LED的特征在于，从基板的相反侧按顺序具有反射电极层、金属层、p型GaN接触层、以及相对于波长λ透明的p型AlGaN层、多量子势垒层或者电子阻挡层、势垒层、量子阱层，所述p型AlGaN层的膜厚处于100nm以内，具有反射型光子晶体周期结构，该反射型光子晶体周期结构具有多个空孔，所述多个空孔至少包括所述p型GaN接触层和所述p型AlGaN层的界面，并设置于在所述基板方向上未超过所述p型AlGaN层的厚度方向的范围内，当从所述空孔的基板方向上的端面至量子阱层的距离为所述势垒层和所述多量子势垒层(或者所述电子阻挡层)的膜厚的合计值以上且处于80nm以内、以及其深度h处于所述p型AlGaN层和所述p型GaN接触层的膜厚的合计值以内时，能够获得光提取效率的极大值，并且，所述反射型光子晶体周期结构具有相对于TE偏振分量而形成的光子带隙，所述光子晶体周期结构的周期a相对于所述设计波长为λ的光满足布拉格条件，并且，当布拉格条件式中的次数m满足1≤m≤5、且所述空孔的半径设为R时，满足使得光子带隙最大的R/a。
深紫 led 及其制造方法

[发明专利]转印方法、转印装置以及模具-CN201810160355.5在审
发明人： 小久保光典;杉浦裕喜;藤原茂;桥本有纪 -专利权人：东芝机械株式会社
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及转印方法、转印装置以及模具。实施方式的转印装置(41)控制成在基板(3)设置于基板设置部(45)、模具(7)设置于模具设置部(47)、遮蔽单元(13)设置于遮蔽单元设置部(51)的状态下，由模具推压部(49)将模具(7)推压到基板(3)，由第1定位部(53)进行遮蔽单元(13)相对于模具(7)的定位，由照射部(55)向设置于基板(3)的表面的未固化的材料(11)照射预定的波长的电磁波。
模具遮蔽单元转印装置基板转印基板设置部电磁波定位部推压部未固化照射部波长推压照射

[发明专利]机床-CN201610352838.6有效
发明人：伊谷慎也;槻田丰;益田大海;内村浩;小久保光典 -专利权人：东芝机械株式会社
申请日： 2016-05-25 - 公布日： 2018-05-29 - 主分类号： B23Q3/12 文献下载
摘要：本发明提供一种机床，具有：主轴，旋转自如地支承于主轴箱；装夹装置，装夹沿主轴的轴线方向被拉入后的工具；工具保持部(61、62)，保持装配于装夹装置的工具；以及回转臂(60)，使工具保持部移动至主轴的可到达位置，其中，经由支承机构(80)将工具保持部(61、62)支承于回转臂(60)，支承机构(80)具有位移追随机构(88)，其支承为能够在与工具的轴线(Z)交叉的方向(L、W)上位移。
工具保持部支承机构装夹装置回转臂支承机床旋转自如轴线方向主轴箱拉入装夹装配追随移动

[发明专利]深紫外LED及其制造方法-CN201480002228.2有效
发明人：鹿岛行雄;松浦惠里子;小久保光典;田代贵晴;大川贵史;平山秀树;上村隆一郎;长田大和;岛谷聪 -专利权人：丸文株式会社;东芝机械株式会社;独立行政法人理化学研究所;株式会社爱发科;东京应化工业株式会社
申请日： 2014-10-24 - 公布日： 2017-09-15 - 主分类号： H01L33/10 文献下载
摘要：本发明提供一种以设计波长为λ的深紫外LED，其特征在于，从与基板的相反侧起依序具有反射电极层、金属层、p型GaN接触层、相对波长λ透明的p型AlGaN层，具有至少贯穿所述p型GaN接触层和所述p型AlGaN层而构成的光子晶体周期结构，并且，所述光子晶体周期结构具有光子带隙。
深紫 led 及其制造方法

[发明专利]半导体发光元件及其制造方法-CN201480012061.8在审
发明人：鹿岛行雄;松浦惠里子;小久保光典;田代贵晴;大川贵史;平山秀树;尹成圆;高木秀树;上村隆一郎;长田大和;岛谷聪 -专利权人：丸文株式会社;东芝机械株式会社;国立研究开发法人理化学研究所;国立研究开发法人产业技术综合研究所;株式会社爱发科;东京应化工业株式会社
申请日： 2014-07-16 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： H01L33/16 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体发光元件，是在构成以设计波长为λ的半导体发光元件的各层间的一个以上的界面上，具有由不同折射率的两个结构体构成的光子晶体周期结构的半导体发光元件，其特征在于，所述设计波长λ及作为所述一个以上的各周期结构的参数的周期a和半径R满足布拉格条件，所述周期a和半径R的比(R/a)为，以使TE光的预定的光子带隙(PBG)在每个该周期结构为最大的形式而决定的值，各周期结构参数为，通过采用FDTD法的模拟的解析结果，以使对于所述波长λ的半导体发光元件整体的光提取效率为最大的形式而决定的参数，该FDTD法是以根据所述布拉格条件的次数m决定的周期a和半径R、及0.5a以上的该周期结构的深度h作为变数而进行的。
半导体发光元件及其制造方法

[发明专利]覆盖部件-CN201410118242.0在审
发明人： 小久保光典;铃木亨 -专利权人：东芝机械株式会社
申请日： 2014-03-27 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： H05K5/03 文献下载
摘要：一种覆盖部件，具备：用于覆盖电子设备(W)的显示部(Wa)的主盖(21)；设于主盖(21)的两侧面、将电子设备(W)夹持在其与主盖(21)之间的侧盖(22)和弯折部(23)；以及设于主盖(21)的两端面的上盖(30)及下盖(40)，该覆盖部件没有复杂的结构，尽可能地减少了安装到壳体时的粘接工序，从而能够降低制造成本并提高组装效率。
覆盖部件

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