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- [发明专利]一种光学量测装置及方法-CN202210284574.0在审
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兰艳平;孙刚
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上海御微半导体技术有限公司
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2022-03-22
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2023-09-29
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G03F7/20
- 本发明公开了一种光学量测装置及方法，该光学量测装置包括用于承载待测对象的载物台，和用于发射检测光束的照明系统，照明系统包括成像光源和成像光路，其中成像光源为脉冲光源。以及该装置包括对焦系统，用于记录通过光学组件将检测光束经分光分别射入待测对象和参考焦面，并通过光学组件汇聚至入光谱探测器，该装置还包括成像系统，用于采集检测光束经待测对象反射后的成像光束。该装置还包括数据处理系统，用于从光谱探测器获取干涉光束的信息，并根据干涉光束的信息对待测对象进行焦面测量，以及从成像系统获取成像光束所形成的图像信息，根据图像信息对待测对象进行套刻测量。该装置用以提高检测准确度且提高检测效率。
- 一种光学装置方法
- [发明专利]一种光学检测装置及方法-CN202210298714.X在审
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田依杉;兰艳平
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上海御微半导体技术有限公司
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2022-03-22
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2023-09-29
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G01N21/88
- 本发明公开了一种光学检测装置及方法，该光学检测装置包括用于承载待测对象的载物台和用于向所述待测对象发射检测光束的照明模块，以及对焦模块，用于通过光学组件将所述检测光束经分光分别射入待测对象和参考焦面，并通过光学组件汇聚至光谱记录仪；数据处理模块，用于获取所述干涉光束的相位信息和光谱波长，并根据所述干涉光束的相位信息和光谱波长计算，当所述待测对象的待测面置于最佳焦面时所述载物台相对于成像物镜之间的最佳相对距离；控制模块，用于控制驱动部驱动所述载物台在垂直于所述载物台所在平面的方向上运动，使载物台相对于成像物镜之间的相对距离达到所述最佳相对距离。该装置用以在保证光学检测准确度的基础上提高检测效率。
- 一种光学检测装置方法
- [发明专利]一种片材承载装置及晶圆检测设备-CN202010524180.9有效
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赵赫
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上海御微半导体技术有限公司
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2020-06-10
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2023-09-15
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H01L21/683
- 本发明属于晶圆检测技术领域，公开了一种片材承载装置及晶圆检测设备。该片材承载装置包括用于承载片材的载台、用于驱动载台旋转的转台，以及分别用于在载台及转台之间转接气路和电路的配气机构和配电机构，转台包括可转动的转子以及套置于转子外的定子；配气机构包括分别设置于载台和转子的第一配气组件和第二配气组件；配电机构包括分别设置于载台和转子的第一配电组件和第二配电组件；转子与载台可拆卸连接，当转子与载台相连接时，第一配气组件和第二配气组件插接相连并形成转接气路、第一配电组件和第二配电组件插接相连并形成转接电路。该片材承载装置的转台及载台之间气路及电路转接结构简单、可靠。
- 一种承载装置检测设备
- [发明专利]一种缺陷检测装置及缺陷检测方法-CN202010432552.5有效
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赵赫
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上海御微半导体技术有限公司
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2020-05-20
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2023-09-12
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G01N21/89
- 本发明公开了一种缺陷检测装置及缺陷检测方法。其中，缺陷检测装置包括探测模块、处理模块、运动台、同步控制模块以及至少两个光源，至少两个光源用于根据同步控制模块的控制信号交替发射脉冲光束，运动台用于根据同步控制模块的控制信号带动待测样品移入探测模块的探测视场，探测模块用于根据同步控制模块的控制信号周期性的获取待测样品的图像信息，处理模块用于对图像信息进行缺陷检测，其中，所述脉冲光束的持续时段与所述探测模块的曝光时段至少部分重叠，且V≤(W/N)/T，V为运动台的移动速度，W为探测视场的宽度，N为光源的数量，T为探测模块采集图像信息的探测周期。本发明提供的缺陷检测装置及缺陷检测方法，提高了检测效率。
- 一种缺陷检测装置方法
- [发明专利]一种缺陷检测装置及缺陷检测方法-CN202010485254.2有效
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伊凯
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上海御微半导体技术有限公司
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2020-06-01
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2023-09-12
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G01N21/95
- 本发明公开了一种缺陷检测装置及缺陷检测方法。其中，缺陷检测装置包括样品台、照明模块、缺陷检测模块和照明调整模块，样品台包括透明部，透明部用于承载待测样品，照明模块用于出射检测光束，并入射至待测样品，照明模块包括第一照明光源，第一照明光源用于向待测样品发射第一检测光束，照明调整模块设置于透明部背离待测样品的一侧，用于获取第一检测光束经待测样品后的透射光束的光强，并根据透射光束的光强确定照明模块的光强调整量，照明模块还用于根据光强调整量调节出射的检测光束的光强，缺陷检测模块用于获取待测样品的图像信息，并对图像信息进行缺陷检测。本发明提供的缺陷检测装置及缺陷检测方法，提高了缺陷检测的准确度。
- 一种缺陷检测装置方法
- [发明专利]一种缺陷检测装置及方法-CN202011110665.X有效
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张鹏黎
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上海御微半导体技术有限公司
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2020-10-16
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2023-09-12
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G01N21/88
- 本发明公开了一种缺陷检测装置及方法，检测装置通过设置第一光源单元、第二光源单元和第三光源单元，同时照射待测样品，使得成像物镜分别采集第一照明视场、第二照明视场和第三照明视场在待测样品的表面产生对应的第一光信号、第二光信号和第三光信号，进而，探测器中的第三探测器阵列根据第一光信号产生第一图像，第二探测器阵列用于根据第二光信号产生第二图像，第一探测器阵列用于根据第三光信号产生第三图像，控制器根据第一图像、第二图像和第三图像对待测样品进行缺陷识别，从而实现了可同时采集明场照明、暗场照明和背光照明三种照明模式下的缺陷图像，并根据缺陷图像进行三种照明模式下的缺陷识别。
- 一种缺陷检测装置方法
- [发明专利]一种成像系统-CN202310655545.5在审
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鲁文明
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上海御微半导体技术有限公司
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2023-06-05
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2023-09-05
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H04N23/80
- 本发明公开了一种成像系统。该成像系统包括：成像设备、上位机和外部设备；成像设备包括相机、图像采集卡和电池，相机连接图像采集卡，电池分别连接相机和图像采集卡；图像采集卡包括图像处理单元、无线通信单元和同步单元，无线通信单元分别连接图像处理单元和同步单元，无线通信单元用于接收上位机下发的同步指令并输出；图像处理单元用于将同步指令发送至相机；同步单元用于根据同步指令触发外部设备，使外部设备和相机同步运行。本发明中，运动时成像设备内的线缆不会出现形变，避免了线缆形变扰动干扰相机等成像部件的情况；上位机通过无线通信单元传输同步指令，使外部设备和相机同步运行，可以提高追焦速度和精度。由此提高成像精度。
- 一种成像系统
- [发明专利]一种焦面测量装置及缺陷检测设备-CN202011390083.1有效
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兰艳平
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上海御微半导体技术有限公司
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2020-12-01
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2023-07-07
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G01N21/88
- 本发明提供一种焦面测量装置及缺陷检测设备，包括：测焦光源、测焦标记版、光学组件、成像单元、焦面补偿结构和控制单元；测焦光源用于提供斜入射的第一照明光束，测焦标记版包括至少一组测焦图形，每组测焦图形包括至少3个子标记，第一照明光束投射至测焦标记版后，测焦图形被投射至测试样件表面上并产生反射光束；焦面补偿结构位于成像单元的成像面一侧，用于改变反射光束的传输路径，以使反射光束经光学组件汇聚后的成像面位于成像单元的接收面，形成至少一组信号图像，每组信号图像包括至少3个子图案；控制单元根据至少一个子图案的位置，获取测试样件的垂向高度。本发明实现了测焦点和缺陷检测点同轴测量，提高了焦面测量的精度。
- 一种测量装置缺陷检测设备
- [发明专利]一种模型集成方法、装置、设备及存储介质-CN202310319182.8在审
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杜文豪
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上海御微半导体技术有限公司
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2023-03-29
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2023-06-30
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G06F8/30
- 本发明实施例提供了一种模型集成方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：当收集到开发完毕的底层开发模型时，根据预设的版本号规则，将底层开发模型存储至目标文件夹中；将目标文件夹中底层开发模型与预先构建的命令树进行匹配，确定待集成的目标集成模型的命令流；构建与各底层开发模型中变量对应的全局变量，将全局变量存储至变量存储区中，并根据全局变量确定目标集成模型的数据流，以实现模型集成。利用该方法，筛选出符合版本要求的底层开发模型；将底层开发模型与命令树进行匹配构建命令流；基于底层开发模型中的变量构建对应全局变量，全局变量的读取写入形成数据流，能够实现底层开发模型的自动集成，提高集成效率同时降低集成错误率。
- 一种模型集成方法装置设备存储介质
- [发明专利]基于棱镜组的像差补偿方法-CN202310159226.5在审
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孔寒夫;兰艳平
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上海御微半导体技术有限公司
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2023-02-23
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2023-06-27
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G02B27/00
- 本发明实施例公开了一种基于棱镜组的像差补偿方法。棱镜组包括至少一个目标楔形棱镜和棱镜调节装置；该基于棱镜组的像差补偿方法，包括：获取待测试光学系统的第一像差偏移量；根据第一像差偏移量，确定目标楔形棱镜和目标楔形棱镜放置的目标位置；根据目标位置通过棱镜调节装置调节目标楔形棱镜的位置，以对待测试光学系统的像差进行补偿。本方案可以通过选取待适配的目标楔形棱镜，并将适配的楔形棱镜放置于目标位置，使目标楔形棱镜引入垂轴色差或其它垂轴像差对待测试光学系统的像差进行补偿，以调节待测试光学系统最终成像位置，进而提高待测试光学系统最终成像位置的准确性。
- 基于棱镜补偿方法
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