[实用新型]化学气相沉积炉

说明书

本实用新型提供了一种化学气相沉积炉，包括：炉体，具有反应腔，反应腔具有弧形内壁；进气装置，包括进气管路和进气部，进气管路的一端具有出气口，出气口和反应腔的底部连通，进气部和进气管路的另一端连通，出气口的方向朝向弧形内壁；进料装置，进料装置和进气管路连通，进气部用于将粉体材料吹入反应腔的底部；排气装置，包括气固分离器和排气部，排气部和反应腔的顶部连通，气固分离器位于排气部的进气口处，排气部用于排出气固分离器分离完成后的气体；出料装置，出料装置和反应腔的底部连通，出料装置用于收集气固分离器分离完成后的粉体材料。通过本方案，能够解决现有技术中的化学气相沉积炉对于粉体材料沉积效果差的问题。

技术领域

本实用新型涉及沉积炉技术领域，具体而言，涉及一种化学气相沉积炉。

背景技术

化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)是近些年开发的一种新型技术，一般采用含有特定元素的一种或几种前驱气，在高温或者其他条件下进行裂解使特定元素沉积再次重排的过程。制备石墨烯或者包覆碳材料一般是利用气相沉积的方法将甲烷、乙烯、乙炔等气体碳源，通过高温(温度一般为750～1150℃)的方式将裂解产生的碳原子沉积在材料表面，形成石墨烯或者碳材料的薄膜，反应体系中的载气为还原性气体H₂或者保护性气体Ar或N₂，同理制备硅材料也可以用对应含硅的前驱气进行裂解。

化学气相沉积炉一般为直立圆柱型，从底端或者侧端进气，气体裂解沉积后从尾气另外一端排出，主要适用于具有一定形状的固体材料。而适用于粉体材料的一般为回转沉积炉。回转式沉积炉由于粉体材料置于水平的圆柱型炉底，与前驱气接触面积很小，导致其沉积效率低，需要很长的沉积时间，造成能源的浪费，同时粉体材料与前驱气接触不充分，导致沉积效果不均匀；并且由于回转式沉积炉内粉体材料集中在一起，极易发生团聚，而使沉积效果更差。

实用新型内容

本实用新型提供了一种化学气相沉积炉，以解决现有技术中的化学气相沉积炉对于粉体材料沉积效果差的问题。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种化学气相沉积炉，包括：炉体，具有反应腔，反应腔具有弧形内壁；进气装置，进气装置包括进气管路和进气部，进气管路的一端具有出气口，出气口和反应腔的底部连通，进气部和进气管路的另一端连通，出气口的方向朝向弧形内壁；进料装置，进料装置和进气管路连通，进气部用于将进料装置内的粉体材料吹入反应腔的底部；排气装置，排气装置包括气固分离器和排气部，排气部和反应腔的顶部连通，气固分离器设置在反应腔的顶部，且位于排气部的进气口处，气固分离器用于对进入反应腔中的气体和粉体材料进行分离，排气部用于排出气固分离器分离完成后的气体；出料装置，出料装置和反应腔的底部连通，出料装置用于收集气固分离器分离完成后的粉体材料。

进一步地，进气部包括前驱气管路、载气管路和气体混合器，气体混合器的一端和进气管路的一端连通，气体混合器的另一端和前驱气管路、载气管路均连通。

进一步地，进气装置还包括反吹气管路，反吹气管路和出料装置连通，反吹气管路用于对进入出料装置的小颗粒粉体材料进行反吹。

进一步地，进料装置包括进料仓和设置在进料仓的出料口的导料结构，进料仓用于容纳粉体材料，导料结构用于控制进料仓内粉体材料的导料速率。

进一步地，导料结构包括导料轮、第一下料导轮、第二下料导轮、第一驱动部、第二驱动部和第三驱动部，第一下料导轮和第二下料导轮并排设置，且位于导料轮的下方，导料轮的直径大于第一下料导轮和第二下料导轮的直径，第一驱动部和导料轮驱动连接，第二驱动部和第一下料导轮驱动连接，第三驱动部和第二下料导轮驱动连接。

进一步地，第一下料导轮和第二下料导轮的转向方向相反，第一下料导轮的转动方向背离第二下料导轮。