[发明专利]一种硅片键合生产系统及硅片自动键合方法有效
申请号: | 202310825604.9 | 申请日: | 2023-07-07 |
公开(公告)号: | CN116581065B | 公开(公告)日: | 2023-09-22 |
发明(设计)人: | 孟慧豪;沈佳晨;滕杨杨 | 申请(专利权)人: | 赛晶亚太半导体科技(北京)有限公司;赛晶亚太半导体科技(浙江)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
代理公司: | 北京力量专利代理事务所(特殊普通合伙) 11504 | 代理人: | 杜衍辉 |
地址: | 101318 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 硅片 生产 系统 自动 方法 | ||
1.一种硅片键合生产系统,其特征在于,
包括键合分派装置、镜检分派装置和依次设置的派发装置(1)、离子除尘装置(2)、键合装置(3)、镜检装置(4)和下料装置(5);派发装置(1)、离子除尘装置(2)、键合装置(3)、镜检装置(4)和下料装置(5)通过传送装置连通;其中,
派发装置(1),用于将多个叠放的硅片载具一一传送出;
离子除尘装置(2),用于对从派发装置(1)传送出的硅片载具上的硅片进行离子除尘;
键合分派装置,用于对从离子除尘装置(2)传送出的硅片载具进行分派至空闲的键合装置(3);
多个键合装置(3),用于对键合分派装置分派的硅片载具上的硅片进行键合;
镜检分派装置,用于将键合装置(3)传送出的硅片载具分派至空闲的镜检装置(4);
多个镜检装置(4),用于对镜检分派装置分派的硅片载具上的硅片进行质量检测;
下料装置(5),用于对镜检装置(4)传送出的硅片载具分类并堆垛;
其中,传送装置包括位于派发装置(1)和下料装置(5)间的主传送段(6),沿主传送段长度方向间隔布设有分设主传送段(6)两侧的多个键合传送支段(7)和镜检传送支段(8),各键合传送支段(7)、镜检传送支段(8)分别与主传送段(6)垂直设置,各键合传送支段(7)的两侧分设有第一分支传送段(9),各镜检传送支段(8)一侧设有第二分支传送段(10),第一分支传送段(9)和第二分支传送段(10)分别与对应的键合传送支段(7)和镜检传送支段(8)垂直设置;
主传送段(6)包括两间隔设置的第一传送带(1101);
键合传送支段(7)包括两间隔设置的第二传送带(1104);
镜检传送支段(8)包括两间隔设置的第三传送带(1203);
第一分支传送段(9)包括两间隔设置的第四传送带;
第二分支传送段(10)包括两间隔设置的第五传送带;
键合分派装置包括,键合顶升横移机构(11),安装于主传送段(6)和键合传送支段(7)转接处的两第一传送带(1101)的间隙内,用于对从离子除尘装置(2)传送出的硅片载具进行顶升和传送至键合传送支段(7)上;键合顶升横移机构(11)包括第一底板,第一底板相对两侧设有向上延伸的第一侧板,各第一侧板的内侧面安装有第一顶升横移传送带(1102),第一底板的下方与第一升降气缸连接,第一底板的上方设有顶升板(1103),顶升板(1103)通过第二气缸与第一底板连接;键合顶升转动横移机构(12),安装于键合传送支段(7)与第一分支传送段转接处的两第二传送带(1104)间隙处,用于对键合顶升横移机构(11)传送的硅片载具进行顶升、旋转和传送至第一分支传送段(9);键合顶升转动横移机构(12)包括第二底板,第二底板相对两侧设有向上延伸的第二侧板,各第二侧板的内侧面安装有顶升转动横移传送带(1201),第二底板的下方与第三升降气缸连接,第二底板的上方设有顶升转动板(1202),顶升转动板(1202)下方设有转动机构,转动机构通过第四气缸与第二底板连接;安装于各键合装置(3)键合台上的重量感应模块;还包括控制器,用于接收重量感应模块发送的信号并向键合顶升横移机构(11)、键合顶升转动横移机构(12)发送控制指令;
镜检分派装置包括,第一镜检顶升横移机构(13),安装于主传送段(6)和镜检传送支段(8)转接处的两第一传送带(1101)间隙处,用于对从键合装置(3)传送出的硅片载具进行顶升和传送至镜检传送支段(8)上;第二镜检顶升横移机构(14),安装于镜检传送支段(8)和第二分支传送段(10)转接处的两第三传送带间隙处,用于对从第一镜检顶升横移机构(13)传送出的硅片载具进行顶升和传送至镜检装置(4);安装于各镜检装置(4)内的重量感应模块;还包括控制器,用于接收重量感应模块发送的信号并向第一镜检顶升横移机构(13)、第二镜检顶升横移机构(14)发送控制指令。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赛晶亚太半导体科技(北京)有限公司;赛晶亚太半导体科技(浙江)有限公司,未经赛晶亚太半导体科技(北京)有限公司;赛晶亚太半导体科技(浙江)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310825604.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造