[发明专利]面板缺陷标注方法、装置、存储介质、设备及程序产品

权利要求书

1.一种面板缺陷标注方法，其特征在于，包括以下步骤：

在目标图像上分别生成掩码，获得第一掩码图像和第二掩码图像；其中，所述掩码包括位于所述第一掩码图像上的第一掩码以及位于所述第二掩码图像上的第二掩码，所述第一掩码与所述第二掩码分别掩盖所述目标图像上的不同区域，并使所述第一掩码与所述第二掩码所在区域能够完全覆盖所述目标图像上的缺陷；

分别对所述第一掩码图像和所述第二掩码图像进行修复，以使所述掩码所在区域被修复为所述目标图像对应的无缺陷产品图像，获得第一修复图像与第二修复图像；

分别将所述第一修复图像和所述第二修复图像，与所述目标图像进行像素做差，获得第一差值图像和第二差值图像；

将所述第一差值图像与所述第二差值图像上的缺陷信息合并，获得目标缺陷信息；

根据所述目标缺陷信息，对所述目标图像上的缺陷进行标注。

2.根据权利要求1所述的面板缺陷标注方法，其特征在于，所述分别将所述第一修复图像和所述第二修复图像，与所述目标图像进行像素做差，获得第一差值图像和第二差值图像之后，所述面板缺陷标注方法还包括：

分别对所述第一差值图像和所述第二差值图像上的缺陷进行提取，获得所述第一差值图像上缺陷的第一bbox坐标和所述第二差值图像上缺陷的第二bbox坐标；

所述将所述第一差值图像与所述第二差值图像上的缺陷信息合并，获得目标缺陷信息，包括：

将所述第一差值图像上缺陷的第一bbox坐标与所述第二差值图像上缺陷的第二bbox坐标合并，获得目标缺陷位置的bbox坐标信息。

3.根据权利要求2所述的面板缺陷标注方法，其特征在于，所述根据所述目标缺陷信息，对所述目标图像上的缺陷进行标注，包括：

根据所述目标缺陷位置的bbox坐标信息，生成标注文件；

根据所述标注文件，对所述目标图像上的缺陷进行标注。

4.根据权利要求1所述的面板缺陷标注方法，其特征在于，所述第一掩码与所述第二掩码为对称图形。

5.根据权利要求1所述的面板缺陷标注方法，其特征在于，所述分别将所述第一修复图像和所述第二修复图像，与所述目标图像进行像素做差，获得第一差值图像和第二差值图像，包括：

分别将所述第一修复图像和所述第二修复图像，与所述目标图像的对应像素点做差，获得像素差值信息；

将所述像素差值信息作为新的像素点的像素值，对应生成第一差值图像和第二差值图像。

6.根据权利要求5所述的面板缺陷标注方法，其特征在于，所述将所述像素差值信息作为新的像素点的像素值，对应生成第一差值图像和第二差值图像之后，所述面板缺陷标注方法还包括：

分别对所述第一差值图像和所述第二差值图像进行二值化处理，获得第一二值化差值图像和第二二值化差值图像；

所述将所述第一差值图像与所述第二差值图像上的缺陷信息合并，获得目标缺陷信息，包括：

将所述第一二值化差值图像与所述第二二值化差值图像上的缺陷信息合并，获得目标缺陷信息。

7.根据权利要求1所述的面板缺陷标注方法，其特征在于，所述分别对所述第一掩码图像和所述第二掩码图像进行修复，以使所述掩码所在区域被修复为所述目标图像对应的无缺陷产品图像，获得第一修复图像与第二修复图像，包括：

分别将所述第一掩码图像和所述第二掩码图像上的所述掩码去除，获得待修复图像；

基于所述待修复图像上除所述掩码以外区域的背景信息，生成修复素材；

将所述修复素材置于所述掩码所在区域，获得第一修复图像与第二修复图像。