[实用新型]一种高效钝化膜沉积气体驱动装置有效
申请号: | 202223594725.7 | 申请日: | 2022-12-30 |
公开(公告)号: | CN218910510U | 公开(公告)日: | 2023-04-25 |
发明(设计)人: | 丰平;孟明;李鑫 | 申请(专利权)人: | 中润新能源(徐州)有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/44 |
代理公司: | 南京安藤洋知识产权代理事务所(普通合伙) 32660 | 代理人: | 梁明升 |
地址: | 221100 江苏省徐州市高*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高效 钝化 沉积 气体 驱动 装置 | ||
本实用新型公开了一种高效钝化膜沉积气体驱动装置,属于气体驱动装置技术领域,包括运输车、真空泵、压力计、阀门和过滤机构,所述运输车上设置有对接管,所述压力计和所述阀门皆安装在所述对接管上,所述真空泵连接所述对接管,且所述阀门位于所述真空泵和所述压力计之间,所述过滤机构安装在所述运输车上,且所述过滤机构与所述真空泵连通;本实用新型通过将真空泵和过滤机构同时搭载在运输车上,形成一个可移动的气体驱动装置,使得装置整体使用起来非常灵活,同时也便于对装置进行检修与维护,在将对接管与管式炉连接后,真空泵从管式炉内抽出的空气在过滤机构的净化作用下排出,避免了对周围环境造成污染的情况。
技术领域
本实用新型属于气体驱动装置技术领域,尤其涉及一种高效钝化膜沉积气体驱动装置。
背景技术
低压化学气相沉淀是指系统工作在比较低的压强下的一种化学气相沉积的方法,LPCVD技术不仅用于制备硅外延层,还广泛用于各种无定形钝化膜及多晶硅薄膜的淀积,是一种重要的薄膜淀积技术。
在LPCVD系统中需要安装一个抽真空系统,使淀积室内保持所在的低压状况,并且使用压力计来监控制程压力。
目前,抽真空系统即气体驱动装置,都是和LPCVD系统集成在一起的,不便于对气体驱动装置进行单独的检修与维护,并且,直接从管式炉里面抽出的空气清洁度很低,直接排出容易造成周围环境的污染。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:为了解决气体驱动装置都是和LPCVD系统集成在一起的,直接从管式炉里面抽出的空气清洁度很低,导致气体驱动装置检修与维护困难、造成环境污染的问题,而提出的一种高效钝化膜沉积气体驱动装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:一种高效钝化膜沉积气体驱动装置,其包括运输车、真空泵、压力计、阀门和过滤机构,所述运输车上设置有对接管,所述压力计和所述阀门皆安装在所述对接管上,所述真空泵连接所述对接管,且所述阀门位于所述真空泵和所述压力计之间,所述过滤机构安装在所述运输车上,且所述过滤机构与所述真空泵连通。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述过滤机构包括过滤仓、两个过滤器和排气阀,所述过滤仓安装在所述运输车上,两个所述过滤器分别连通所述过滤仓的进气口和出气口,位于所述进气口处的所述过滤器与所述真空泵连通,所述排气阀安装位于所述出气口处的所述过滤器上。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述过滤仓为橡胶气囊。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述对接管的端部设置有密封垫。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述对接管的端部设置有电磁铁。
作为上述技术方案的进一步描述:
所述运输车上安装有移动电源,所述移动电源给所述真空泵供电。
综上所述,由于采用了上述技术方案,本实用新型的有益效果是:
本实用新型中,通过将真空泵和过滤机构同时搭载在运输车上,形成一个可移动的气体驱动装置,使得装置整体使用起来非常灵活,同时也便于对装置进行检修与维护,在将对接管与管式炉连接后,真空泵从管式炉内抽出的空气在过滤机构的净化作用下排出,避免了对周围环境造成污染的情况。
附图说明
图1为一种高效钝化膜沉积气体驱动装置的整体结构示意图。
图2为图1中A部分的局部放大图。
图3为一种高效钝化膜沉积气体驱动装置的主视图。
图例说明:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中润新能源(徐州)有限公司,未经中润新能源(徐州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202223594725.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种羊舍用定期消毒通风装置
- 下一篇:吊顶电器
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的