[实用新型]一种半导体多级循环清洗装置

权利要求书

1.一种半导体多级循环清洗装置，其特征在于，包括：底座(1)，所述底座(1)的上端设置有固定架(3)，且固定架(3)的内侧设置有浸泡箱(2)，并且固定架(3)的外侧设置有喷淋箱(16)，所述浸泡箱(2)的上侧设置有放置架(13)，且放置架(13)的两端连接有从动轴(23)，所述从动轴(23)的外侧转动连接有吊装板(21)，且吊装板(21)的上端连接有连接块(8)，所述连接块(8)的上端连接有活塞杆(9)，且活塞杆(9)的上端连接有气缸(10)，所述喷淋箱(16)的上端设置有循环泵(15)，且循环泵(15)的一侧连接有输液管(14)，所述输液管(14)的下端连接有布液管(11)，且布液管(11)的下端分布连接有喷头(12)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体多级循环清洗装置，其特征在于，所述浸泡箱(2)的外端连接有连通管(17)，且连通管(17)位于浸泡箱(2)内部的一端连接有滤芯(18)，并且连通管(17)的外端连接有喷淋箱(16)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体多级循环清洗装置，其特征在于，所述从动轴(23)的两端与吊装板(21)转动连接，且放置架(13)左侧从动轴(23)的外端连接有从动轮(22)，并且从动轮(22)通过皮带(20)与上端的主动轮(19)连接。

4.根据权利要求3所述的一种半导体多级循环清洗装置，其特征在于，所述主动轮(19)的内部连接有主动轴(6)，且主动轴(6)的外端连接有电机(5)。

5.根据权利要求1所述的一种半导体多级循环清洗装置，其特征在于，所述连接块(8)的外端连接有升降滑板(7)，且升降滑板(7)设置为L形结构，并且升降滑板(7)在固定架(3)左侧开设的滑槽(4)内部上下滑动。

6.根据权利要求4所述的一种半导体多级循环清洗装置，其特征在于，所述电机(5)固定在升降滑板(7)的外端，且主动轴(6)转动穿过升降滑板(7)。

7.根据权利要求1所述的一种半导体多级循环清洗装置，其特征在于，所述放置架(13)设置为上下贯通的矩形框体结构，且放置架(13)内部设置有纵向排列的隔板(24)，并且隔板(24)内部开设有滑腔(25)。

8.根据权利要求7所述的一种半导体多级循环清洗装置，其特征在于，所述滑腔(25)的内部设置有弹簧(30)，且弹簧(30)的两端连接有滑块(29)，滑块(29)的外端连接有水平的连接杆(28)，并且连接杆(28)的外端连接有限位板(27)。

9.根据权利要求8所述的一种半导体多级循环清洗装置，其特征在于，所述限位板(27)设置为圆形结构，且限位板(27)的直径大于滑腔(25)的内径，并且限位板(27)的外端连接有半圆形夹块(26)。