[实用新型]一种半导体生产时的气体控制系统

权利要求书

1.一种半导体生产时的气体控制系统，其特征在于，

所述半导体生产时的气体控制系统包括底座、支撑柱，支撑板、生产台、密封箱、支撑组件、喷气组件和净化组件，所述支撑柱与所述底座固定连接，并位于所述底座的上方，所述支撑板与所述支撑柱固定连接，并位于所述支撑柱的上方，所述生产台设置于所述支撑板的上方，所述密封箱设置于所述生产台的上方，所述支撑组件设置于所述密封箱的内部，所述喷气组件设置于所述密封箱的上方，所述净化组件设置于所述密封箱的侧边；

所述支撑组件包括固定托块、铰接杆和固定套环，所述固定托块与所述密封箱固定连接，并位于所述密封箱的内部，所述铰接杆的一端与所述固定托块铰接连接，所述铰接杆的另一端与所述固定套环铰接连接，所述固定套环与所述喷气组件活动连接，并位于所述喷气组件的侧边。

2.如权利要求1所述的半导体生产时的气体控制系统，其特征在于，

所述支撑组件还包括连接带，所述连接带的数量为两根，两根所述连接带分别设置于所述固定套环的侧边。

3.如权利要求2所述的半导体生产时的气体控制系统，其特征在于，

所述支撑组件还包括连接套环，所述连接套环与所述连接带固定连接，并位于所述连接带的侧边。

4.如权利要求3所述的半导体生产时的气体控制系统，其特征在于，

所述喷气组件包括气罐、泵体、连接管和喷头，所述气罐设置于所述密封箱的上方，所述泵体设置于所述气罐的侧边，所述连接管的一端与所述泵体的输出端固定连接，所述连接管的另一端插入所述密封箱，并与所述喷头连通，所述固定套环和所述连接套环均套设在所述喷头的外部。

5.如权利要求4所述的半导体生产时的气体控制系统，其特征在于，

所述喷气组件还包括支撑框，所述支撑框与所述密封箱固定连接，并位于所述密封箱的上方，且所述支撑框套设在所述气罐的外部。

6.如权利要求5所述的半导体生产时的气体控制系统，其特征在于，

所述净化组件包括排气管、注入管和水箱，所述排气管与所述密封箱连通，并位于所述密封箱的侧边，所述注入管的一端与所述排气管固定连接，所述注入管的另一端与所述水箱连通，所述水箱设置于所述密封箱的侧边。