[发明专利]硅片翻转装置及硅片镀膜处理系统

权利要求书

1.硅片翻转装置，其特征在于，包括：

硅片安置机构(1),所述硅片安置机构(1)包括安置框(11)和翻转架(12)，所述翻转架(12)可翻转地设在所述安置框(11)内且用于固定硅片；

翻转机构(2),所述翻转机构(2)的输出端与所述翻转架(12)连接，所述翻转机构(2)的输入端能够与外部驱动机构的输出端连接以对所述翻转架(12)进行翻转；

限制机构(3)，所述限制机构(3)连接所述翻转架(12)以及所述安置框(11)，以对翻转前后的所述翻转架(12)单向限位。

2.根据权利要求1所述的硅片翻转装置，其特征在于，所述翻转机构(2)包括传动轴(21)，所述传动轴(21)的一端连接于所述翻转架(12)的外端，所述传动轴(21)上设有传动齿轮(22)，所述传动齿轮(22)能够与外部驱动机构的输出端连接。

3.根据权利要求1所述的硅片翻转装置，其特征在于，所述限制机构(3)具有第一转接部(31)和第二转接部(32)，所述第一转接部(31)与所述翻转架(12)连接，所述第二转接部(32)与所述安置框(11)连接，所述第一转接部(31)上设有第一限位部(31a)，所述第二转接部(32)上设有与所述第一限位部(31a)相配合的第二限位部(32a)；所述第一转接部(31)和所述第二转接部(32)相对转动时通过所述第一限位部(31a)和所述第二限位部(32a)单向卡接限位。

4.根据权利要求3所述的硅片翻转装置，其特征在于，所述第一转接部(31)和所述第二转接部(32)为环形座，所述环形座包括两个首尾连接的半环形座，任意一个所述半环形座的第一端的高度高于其第二端的高度；任意一个所述半环形座的第一端与任意另一个所述半环形座的第二端连接形成所述环形座。

5.根据权利要求4所述的硅片翻转装置，其特征在于，所述安置框(11)内设有第一固定板(111)，所述第二转接部(32)设置在所述第一固定板(111)上，所述翻转架(12)上设有突出键(121)，所述突出键(121)依次穿过所述第一固定板(111)以及所述第一转接部(31)与所述第二转接部(32)连接。

6.根据权利要求5所述的硅片翻转装置，其特征在于，所述第二转接部(32)与所述第一固定板(111)相平行的所述安置框(11)上的边框之间通过弹性件(33)连接。

7.根据权利要求1-6任一所述的硅片翻转装置，其特征在于，所述翻转架(12)包括主动翻转架和若干从动翻转架，所述翻转机构(2)与所述主动翻转架连接，所述从动翻转架通过连杆机构(4)与所述主动翻转架连接。

8.根据权利要求7所述的硅片翻转装置，其特征在于，所述限制机构(3)设置在至少一个所述从动翻转架上。

9.根据权利要求7所述的硅片翻转装置，其特征在于，所述连杆机构(4)包括连杆(41)，所述连杆(41)上设有旋转板(43)，所述旋转板(43)与所述从动翻转架通过转接轴(42)连接，所述旋转板(43)上设有固定轴(44)，所述旋转板(43)通过所述固定轴(44)与所述从动翻转架连接。

10.硅片镀膜处理系统，其特征在于，包括真空腔(5)，所述真空腔(5)内设有如权利要求1-9所述的硅片翻转装置，还包括调距机构(6)，所述调距机构(6)设置在真空腔(5)内，所述调距机构(6)上设有载板架(61)用以挂载所述硅片翻转装置上的安置框(11)，所述真空腔(5)的内壁上穿设有与所述翻转机构(2)匹配的外部驱动机构的翻转输出端(7)。

11.根据权利要求10所述的硅片镀膜处理系统，其特征在于，还包括行走机构(8)，所述行走机构(8)包括设置于沿所述安置框(11)传送方向延伸设置的行走齿条(82)，所述行走齿条(82)上匹配有行走齿轮(81)，所述行走齿轮(81)与外部行走驱动部的输出端连接。