[发明专利]二氧化锡薄膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种二氧化锡薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

通过原子层沉积技术在衬底上沉积二氧化锡薄膜，

其中在沉积过程中，包含使用第一氧源和第二氧源交替作为氧源与锡金属有机源发生反应的步骤；

所述第一氧源选自水、过氧化氢中的一种或两种，

所述第二氧源选自臭氧、氧气、一氧化氮、二氧化氮、等离子体活化的臭氧、等离子体活化的氧气、等离子体活化的一氧化氮、或等离子体活化的二氧化氮中的一种或两种以上。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一氧源为水，所述第二氧源为臭氧。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述锡金属有机源选自烷基锡、醇锡盐、Sn(NR1R2)₄中的一种或两种以上，其中R1和R2各自独立地选自C1-C4的烷基，优选为四(二甲氨基)锡。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，使用第一氧源和第二氧源交替作为氧源与锡金属有机源发生反应的步骤包括多个以下循环：

引入所述锡金属有机源并用惰性气体吹扫，然后引入所述第一氧源或所述第二氧源并用惰性气体吹扫，

其中两个相邻循环之间将所述第一氧源和所述第二氧源交替使用。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，其中在沉积过程中，在所述使用第一氧源和第二氧源交替作为氧源与锡金属有机源发生反应的步骤之前，还包含仅使用第一氧源与锡金属有机源发生反应的多个循环步骤。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述循环的数量为50-500。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述惰性气体为氮气。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，氮气吹扫步骤中，氮气吹扫时间5-15s，氮气流量为20-90sccm。

9.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述锡金属有机源通过惰性气体作为载气进行引入，流量为20-90sccm，通入时间为0.1-2s；所述第一氧源通过惰性气体作为载气进行引入，流量为20-90sccm，通入时间为0.1-1.5s；所述第二氧源直接引入，流量为20-90sccm，通入时间为0.1-1.5s。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述二氧化锡薄膜的厚度为5-50nm，优选为10-20nm。

11.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述衬底为C60、C70、PCBM中的一种。

12.一种二氧化锡电子传输层，其通过权利要求1-11中任一项所述的制备方法制备得到。

13.一种二氧化锡缓冲层，其通过权利要求1-11中任一项所述的制备方法制备得到。

14.一种钙钛矿太阳能电池，其包括权利要求12所述的二氧化锡电子传输层和/或权利要求13所述的二氧化锡缓冲层。

15.根据权利要求14所述的钙钛矿太阳能电池，其特征在于，所述钙钛矿太阳能电池包括依次层叠设置的空穴传输层、钙钛矿光活性层、电绝缘层、第一电子传输层和第二电子传输层，其中所述第一电子传输层为所述二氧化锡电子传输层。

16.根据权利要求15的钙钛矿太阳能电池，其特征在于，所述第二电子传输层为C60、C70、PCBM中的一种。