[发明专利]有机聚合物半导体材料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种有机聚合物半导体材料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将含碲二卤化合物与去离子水混合，进行水解聚合反应，得到反应物，将所述反应物干燥后得到所述有机聚合物半导体材料；

所述含碲二卤化合物采用二氯二甲基碲、二氯二乙基碲、二氯二丙基碲、二氯二丁基碲、二氯二戊基碲、二氯二己基碲、二氯二庚基碲、二氯二辛基碲、二氯二壬基碲、二氯二癸基碲、二氯双十一烷基碲、二氯双十二烷基碲、二氯双十三烷基碲、二氯双十四烷基碲、二氯双十五烷基碲、二氯双十六烷基碲、二溴二甲基碲、二溴二乙基碲、二溴二丙基碲、二溴二丁基碲、二溴二戊基碲、二溴二己基碲、二溴二庚基碲、二溴二辛基碲、二溴二壬基碲、二溴二癸基碲、二溴双十一烷基碲、二溴双十二烷基碲、二溴双十三烷基碲、二溴双十四烷基碲、二溴双十五烷基碲、二溴双十六烷基碲、二碘二甲基碲、二碘二乙基碲、二碘二丙基碲、二碘二丁基碲、二碘二戊基碲、二碘二己基碲、二碘二庚基碲、二碘二辛基碲、二碘二壬基碲、二碘二癸基碲、二碘双十一烷基碲、二碘双十二烷基碲、二碘双十三烷基碲、二碘双十四烷基碲、二碘双十五烷基碲和二碘双十六烷基碲中任意一种或多种的混合物。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述含碲二卤化合物按照以下步骤制备得到：

将含碲单体溶解于有机溶剂，得到含碲有机溶液体系，将卤素单质加入所述含碲有机溶液体系，得到所述含碲二卤化合物。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述含碲单体采用二甲基碲、二乙基碲、二丙基碲、二丁基碲、二戊基碲、二己基碲、二庚基碲、二辛基碲、二壬基碲、二癸基碲、双十一烷基碲、双十二烷基碲、双十三烷基碲、双十四烷基碲、双十五烷基碲和双十六烷基碲中的任意一种或多种的混合物。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述卤素单质采用氯气、液溴和碘单质中的任意一种或多种的混合物。

5.一种有机聚合物半导体材料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：将含碲单体溶解于有机溶剂，得到含碲有机溶液体系，向所述含碲有机溶液体系中加入有机电解质并施加电压，进行电化学聚合反应，得到反应物，将所述反应物干燥后得到所述有机聚合物半导体材料；

所述含碲单体采用二甲基碲、二乙基碲、二丙基碲、二丁基碲、二戊基碲、二己基碲、二庚基碲、二辛基碲、二壬基碲、二癸基碲、双十一烷基碲、双十二烷基碲、双十三烷基碲、双十四烷基碲、双十五烷基碲和双十六烷基碲中的任意一种或多种的混合物。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述有机电解质采用四丁基铵四氟硼酸盐和四丁基六氟磷酸铵中的任意一种或多种的混合物。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述有机电解质在有机溶剂体系中的摩尔浓度为0.1 mol/L~10mol/L。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，施加的所述电压为0.5 V~2.0 V。

9.根据权利要求2或5所述的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂采用二氯甲烷、乙酸乙酯、甲苯、氯仿、乙腈、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜和四氢呋喃中的任意一种或多种的混合物。

10.根据权利要求1或5所述的制备方法，其特征在于，所述干燥采用冻干、真空烘箱烘干、旋转蒸发除去溶剂或惰性气体吹干。

11.一种根据权利要求1~10中任一项所述制备方法制得的有机聚合物半导体材料在光催化领域的应用。

12.根据权利要求11所述的应用，其特征在于，所述应用为在非密闭空气体系下利用所述有机聚合物半导体材料光催化醇酮的氧化反应。

13.根据权利要求11所述的应用，其特征在于，所述应用为在非密闭惰性气体体系下利用所述有机聚合物半导体材料光催化频哪醇的偶联反应。