[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置

权利要求书

1.一种用于从基板上去除有机膜的基板处理方法，其特征在于，

所述基板处理方法具有：

a)通过向基板处理室内导入含臭氧气体，使含臭氧气体充满所述基板处理室内的至少所述基板上方的空间的工序；

b)在所述工序a)之后，开始经由所述空间向所述基板上进行包含硫酸的加热后的药液的喷雾的工序；

c)继续通过所述工序b)开始的所述喷雾的工序；

d)停止在所述工序c)中继续的所述喷雾的工序。

2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，

所述工序a)包含确认所述基板处理室内的压力和臭氧浓度中的至少任一个的测定值为预先确定的阈值以上的工序。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其特征在于，

在所述工序a)中进行了含臭氧气体向所述基板处理室内的所述导入后，在所述工序b)和所述工序c)中继续所述导入。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其特征在于，

在所述工序a)中进行了含臭氧气体向所述基板处理室内的所述导入之后，在所述工序c)之前停止所述导入。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其特征在于，

将通过所述工序c)进行了喷雾的所述药液分为被包围所述基板的杯部接受而由此回收的第一液和在所述杯部之外回收的第二液，以不含所述第一液的方式进行所述第二液的再喷雾。

6.一种用于从基板上去除有机膜的基板处理装置，其特征在于，

所述基板处理装置具有：

基板处理室；

基板保持部，其在所述基板处理室内保持所述基板；

臭氧供给部，其向所述基板处理室内供给含臭氧气体；

雾化喷嘴，其向所述基板上进行药液的喷雾；

药液供给部，其具有加热器，将由所述加热器加热后的所述药液供给至所述雾化喷嘴；

控制部，其在控制所述臭氧供给部使含臭氧气体充满所述基板处理室内的至少所述基板上方的空间之后，控制所述药液供给部开始经由所述空间向所述基板上进行所述药液的喷雾。